为单波峰光谱，波峰对应的波长为254纳米、313纳米或365纳米。以紫外LED灯作为曝光光源，不必对光线进行复杂的过滤工艺，避免由于较多波长的光线对配向膜的不良影响。
[0046]以紫外LED灯为例，具体的配向膜光配向及去除过程如下:
[0047]步骤一，分别对上基板和下基板上的配向膜采用紫外LED灯进行第一次曝光，使配向膜具有规定取向。在配向工艺中，紫外LED灯的光积量可以为20mj/cm2?5000mj/cm2。采用紫外LED灯对所述配向膜进行曝光配向，使配向的均一性提高，同时紫外LED灯的功耗较低，能够节少成本。
[0048]步骤二，提供一掩膜板，采用紫外LED灯分别对上基板和下基板上的配向膜进行第二次曝光，使位于显示区之外的全部或部分配向膜分解。在第二次曝光中，紫外LED灯的光积量可以为20mj/cm2?30000mj/cm2。
[0049]对配向膜进行第二曝光时，所采用的掩膜板需要满足以下条件:掩膜板具有多个与显示区一一对应的遮挡部，遮挡部在上基板和下基板上的垂直投影与对应的显示区重合或超出对应的显示区；遮挡部用于阻止紫外光源的光通过。由于掩膜板的遮挡部对紫外光源的光进行阻止，因此显示区内的配向膜并不会受到影响。
[0050]步骤三，对上基板和下基板上的配向膜进行固化和清洗，去除位于显示区之外的全部或部分配向膜。
[0051]可以使用红外加热炉或热风炉固化上基板和下基板上的配向膜，固化温度为100°C?300°C，固化时长为100?7200秒；再以异丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯或臭氧水作为清洗溶液，用超声波清洗上基板和下基板上的配向膜。
[0052]此外，在步骤三的清洗过程中，同时清洗第一次对配向膜曝光进行配向所要去除的部分，在此不再赘述。
[0053]需要说明是的，本实施例以紫外LED灯为例仅是为了进行说明，并非以此为限，当然也采用高压汞灯、金属卤灯或其它符合要求的光源进行第一次曝光和第二次曝光，或者第一次曝光和第二次曝光分别采用不同的紫外光源，在此不再赘述。
[0054]103，在上基板或下基板的显示区之外且无配向膜的区域涂覆封框胶。
[0055]由于在无配向膜的区域涂覆封框胶，因此封框胶不会受到配向膜的限制，其一，可以避免封框胶之上或之下的配向膜分解所带来的粘附力不足的问题；其二，避免水蒸汽由封框界面进入所导致的显示装置显示不良的问题，从而提高了产品良率；其三，还可能使窄边框设计具有更多的空间。
[0056]104，在上基板或下基板上滴注液晶，对盒上基板和下基板。
[0057]105，固化封框胶，将对盒后的上基板和下基板切割成多个液晶盒。
[0058]为了使本发明实施例提供的液晶盒的制备方法更便于理解，结合附图4至图7对步骤二中的第二次曝光进行说明如下:
[0059]如图4所示，利用掩膜板6，采用紫外光5对下基板2上的配向膜3进行曝光，该掩膜板6至少要遮挡显示区AA内的配向膜3，使显示区的配向膜3不会受到紫外光5的影响。
[0060]如图5所示，掩膜板6遮挡区域外的配向膜3被紫外光5照射后分解为配向膜材料分子31。
[0061]如图6所示，经过固化、清洗工艺，已经去除如所图5中所示的配向膜材料分子31。
[0062]图4至图6为下基板2为例进行说明，上基板I同样采用相同的方法，上基板I和下基板2涂覆封框胶4并对盒后的示意图参见图7所示。由于封框胶4的正上方或正下方均不存在配向膜3，因此不会受到配向膜3的影响。
[0063]需要说明的是，本实施例中的上基板I和下基板2可以理解为对应多个液晶盒子的彩膜基板的母板和阵列基板的母板。
[0064]本发明实施例有益效果如下:在涂覆封框胶之前去除了位于显示区之外的全部或部分配向膜，并在上基板或下基板的显示区之外且无配向膜的区域涂覆封框胶，使得封框胶不与配向膜粘接，因此在用紫外光固化封框胶时，避免了封框胶之上或之下的配向膜分解所带来的粘附力不足的问题，以及避免水蒸汽由封框界面进入所导致的显示装置显示不良的冋题，从而提尚了广品良率。
[0065]本发明实施例还提供一种采用如实施例提供的制备方法制备的液晶盒。
[0066]本发明实施例有益效果如下:对于液晶盒的上基板和下基板，在涂覆封框胶之前去除了位于显示区之外的全部或部分配向膜，并在上基板或下基板的显示区之外且无配向膜的区域涂覆封框胶，使得封框胶不与配向膜粘接，因此在用紫外光固化封框胶时，避免了封框胶之上或之下的配向膜分解所带来的粘附力不足的问题，以及避免水蒸汽由封框界面进入所导致的显示装置显示不良的问题，从而提高了产品良率。
[0067]本发明实施例提供一种显示装置，包括如上实施例提供的液晶盒。
[0068]本发明实施例有益效果如下:对于液晶盒的上基板和下基板，在涂覆封框胶之前去除了位于显示区之外的全部或部分配向膜，并在上基板或下基板的显示区之外且无配向膜的区域涂覆封框胶，使得封框胶不与配向膜粘接，因此在用紫外光固化封框胶时，避免了封框胶之上或之下的配向膜分解所带来的粘附力不足的问题，以及避免水蒸汽由封框界面进入所导致的显示装置显示不良的问题，从而提高了产品良率。
[0069]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种液晶盒的制备方法，其特征在于，包括: 在上基板和下基板上分别形成光敏型的配向膜； 对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行光配向后，去除位于显示区之外的全部或部分所述配向膜； 在所述上基板或所述下基板的显示区之外且无所述配向膜的区域涂覆封框胶； 在所述上基板或所述下基板上滴注液晶，对盒所述上基板和所述下基板； 固化所述封框胶，将对盒后的所述上基板和所述下基板切割成多个液晶盒。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行光配向后，去除位于显示区之外的全部或部分所述配向膜，包括: 采用紫外光源分别对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜第一次曝光，使所述配向膜具有规定取向； 提供一掩膜板，采用紫外光源分别对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行第二次曝光，使位于显示区之外的全部或部分所述配向膜解； 对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行固化和清洗，去除位于显示区之外的全部或部分所述配向膜。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述掩膜板具有多个与显示区一一对应的遮挡部，所述遮挡部在所述上基板和所述下基板上的垂直投影与对应的显示区重合或超出对应的显示区； 所述遮挡部用于阻止紫外光源的光线通过。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述遮挡部在所述上基板和所述下基板上的垂直投影的边缘与显示区的边缘的间距为O?8000微米。
5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行固化和清洗，包括: 使用红外加热炉或热风炉固化所述上基板和所述下基板上的所述配向膜，固化温度为100 °C?300 °C，固化时长为100?7200秒； 以异丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯或臭氧水作为清洗溶液，用超声波清洗所述上基板和所述下基板上的所述配向膜。
6.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述紫外光源包括高压汞灯、金属卤灯或紫外LED灯。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述紫外光源的发光波长范围为100?800纳米。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述紫外LED灯的发光光谱为单波峰光谱，波峰对应的波长为254纳米、313纳米或365纳米。
9.一种液晶盒，其特征在于，采用如权利要求1至8任一项所述的方法制备。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶盒。
【专利摘要】本发明公开了一种液晶盒及其制备方法、显示装置，以解决现有技术中，以分解型材料制备配向膜所导致的液晶盒的产品良率低及显示不良的问题。液晶盒的制备方法，包括：在上基板和下基板上分别形成光敏型的配向膜；对所述上基板和所述下基板上的所述配向膜进行光配向后，去除位于显示区之外的全部或部分所述配向膜；在所述上基板或所述下基板的显示区之外且无所述配向膜的区域涂覆封框胶；在所述上基板或所述下基板上滴注液晶，对盒所述上基板和所述下基板；固化所述封框胶，将对盒后的所述上基板和所述下基板切割成多个液晶盒。
【IPC分类】G02F1-1339
【公开号】CN104808396
【申请号】CN201510242997
【发明人】肖印, 刘锋, 邓金阳, 李文洲, 李发伦
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年5月13日