偏光板、其制造方法以及包含其的光学显示器的制造方法
【专利说明】偏光板、其制造方法从及包含其的光学显示器
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2014年3月31日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第 10-2014-0038276号的权益，所述专利申请的全部揭示内容W引用的方式并入本文中。
技术领域
[0003] 本发明是关于一种偏光板、其制造方法W及包含其的光学显示器。
【背景技术】
[0004] 浓晶显不器包含堆叠于浓晶显不面板的上表面和下表面上的偏光板。偏光板包含 偏光器和形成于偏光器的上表面和下表面上的保护膜，并且包含形成于待堆叠于液晶显示 面板上的保护膜的一个表面上的粘合层。近年来，在产生薄偏光板同时降低材料成本的趋 势下，在所属领域中公众注意到了包含仅形成于偏光器的一个表面上的保护膜的TACless 偏光板。
[0005] 偏光器、保护膜W及粘合层因其完全不同的组成而具有不同的折射率。一般来说， 偏光器具有约1. 51的折射率，保护膜具有约1. 49的折射率，并且粘合层具有约1. 46的折 射率。TACless偏光板在偏光器、保护膜W及粘合层之间的界面处展示高反射率，并且因此 一般具有小于43%的透射率。因而，包含具有低透射率的偏光板的液晶显示器可具有低亮 度。另外，因为TACless偏光板包含仅形成于偏光器的一个表面上的保护膜，所W当单独留 在高温和/或高湿度下时TACless偏光板会遭受从液晶显示面板上脱离或遭受偏光器的开 裂，并且因此可能呈现低耐久性。在该点上，韩国专利公开第2011-0040304号揭示偏光板 和包含偏光板的浓晶显不器。
【发明内容】
[0006] 本发明的实施例是关于一种偏光板、其制造方法W及包含其的光学显示器，并且 提供包含偏光器和仅形成于所述偏光器的一个表面上的保护膜的偏光板，其具有高透射率 并且甚至当单独留在高温和/或高湿度下时仍展示高耐久性。
[0007] 本发明的一个方面是关于一种偏光板。所述偏光板包含偏光器、形成于所述偏光 器的一个表面上的保护涂层W及形成在所述保护涂层的一个表面上的粘合层，其中所述偏 光板满足不等式1 ;
[0008] Rmax-Rmin《0. 02 ----(1)，
[0009] (其中Rmax是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最大折射 率，并且Rmin是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最小折射率）。
[0010] 本发明的另一个方面是关于一种偏光板。所述偏光板包含；包含偏光器和形成于 所述偏光器的一个表面上的保护涂层的堆叠体；W及形成在所述保护涂层的一个表面上的 粘合层，其中所述偏光板满足不等式2 :
[001UIRl-RsI《0. 015 --（2)，
[0012] (其中咕是所述堆叠体的折射率并且Ra是所述粘合层的折射率）。
[0013] 在一个实施例中，偏光板可W还包含形成于偏光器的另一个表面上的保护膜。
[0014] 在一个实施例中，偏光器可W具有1. 50到1. 52的折射率，保护涂层可W具有1. 45 到1. 55的折射率，并且粘合层可W具有1. 49或大于1. 49的折射率。
[0015] 在一个实施例中，保护涂层可W由包含有机粒子、无机粒子W及有机-无机粒子 中的至少一种的聚合物涂层构成。
[0016] 在一个实施例中，保护涂层可W由水基粘结剂和UV可固化粘结剂中的至少一种 形成。
[0017] 在一个实施例中，水基粘结剂可W还包含无机填充剂。
[001引在一个实施例中，水基粘结剂可W包含聚己締醇树脂、错化合物W及交联剂。
[0019] 在一个实施例中，UV可固化粘结剂可W包含环氧化合物、（甲基）丙締酸醋化合 物、光阳离子聚合起始剂W及光自由基聚合起始剂。
[0020] 在一个实施例中，UV可固化粘结剂可W还包含热稳定剂。
[0021] 在一个实施例中，保护涂层可W包含无机填充剂。
[0022] 在一个实施例中，无机填充剂可W包含错化合物、侣化合物、棚化合物W及铁化合 物中的至少一种。
[0023] 在一个实施例中，粘合层可W由包含（甲基）丙締酸共聚物、固化剂W及硅烷偶合 剂的粘合性组成物形成。
[0024] 在一个实施例中，粘合层与偏光器和保护涂层的堆叠体之间的折射率的差的绝对 值可W为0. 015或小于0. 015。
[0025] 本发明的另一个方面是关于制造偏光板的方法。制造偏光板的方法包含；通过在 偏光器的一个表面上形成具有1. 45到1. 55的折射率的保护涂层W形成堆叠体；W及将具 有1. 49或大于1. 49的折射率的粘合层粘结到保护涂层的一个表面。
[0026] 在一个实施例中，所述方法可W还包含将保护膜粘结到偏光器的另一个表面。
[0027] 在一个实施例中，偏光板可W满足不等式2:
[002引IRl-RsI《0. 015 --(2)，
[0029](其中化是所述堆叠体的折射率并且也是所述粘合层的折射率）。
[0030] 本发明的另一个方面是关于包含如上文所述偏光板的光学显示器。
[0031] 本发明的偏光板具有高透射率并且甚至当单独留在高温和/或高湿度下时仍展 不局耐久性。
【附图说明】
[0032] 图1是根据本发明的一个实施例的偏光板的截面视图。
[0033] 图2是根据本发明的另一个实施例的偏光板的截面视图。
[0034] 图3是根据本发明的另一个实施例的偏光板的截面视图。
[0035] 图4是根据本发明的一个实施例的液晶显示器的截面视图。
[0036] 元件符号说明
[0037] 100 ;偏光板 [003引 110;偏光器
[0039] 120 ;保护涂层
[0040] 130 ;粘合层
[004U 140;保护膜
[00创 200 ;偏光板
[00创 230 ;堆叠体
[0044] 300 ;偏光板
[0045] 400 ;液晶显示器
[0046] 410 ;浓晶显不面板
[0047] 420 ;偏光板
【具体实施方式】
[0048] 本发明的实施例将参考附图进行详细描述。应理解，本发明不限于W下实施例并 且可W不同方式实施。在附图中，为清楚起见将省去与描述无关的部分。在本说明书通篇 中类似组件将由类似附图元件符号表示。
[0049] 如本文所用，参考附图定义如"上"和"下"的方向性术语。因此，应理解，术语"上 侦U(表面）"可W与术语"下侧（表面）"互换使用。应了解，当将如层、膜、区域或基板的元 件被称作置放于另一元件"上"时，可将其直接置放于另一元件上，或也可W存在插入层。在 另一方面，当元件被称作直接置放于另一元件"上"时，不存在插入层。术语"（甲基）丙締 酸醋"可W指丙締酸醋和/或甲基丙締酸醋。术语"折射率"可W指使用阿贝折射计（Abbe refractometer)值R-M4,爱岩株式会社（ATAGOCo.，Ltd.))在25°C下经由用钢D射线（波 长；589纳米）福照获得的值。测量厚度为10纳米到100微米的对象（但不限于其）的折 射率。
[0化0] 根据本发明，偏光板可W包含偏光器、形成于偏光器的下侧上的保护涂层W及形 成于保护涂层的下侧上的粘合层。可W控制偏光器、保护涂层W及粘合层的折射率，由此改 良偏光板的透射率。具体来说，偏光板可W包含偏光器、形成于所述偏光器的一个表面上的 保护涂层W及形成于所述保护涂层的一个表面上的粘合层，并且可W满足不等式1 ;
[0051]Rmax-Rmin《0. 02 ---_(1)，
[0052] (其中Rmax是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最大折射 率，并且Rmin是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最小折射率）。 [0化3] 另外，偏光板可W包含；堆叠体，其包含偏光器和形成于所述偏光器的一个表面上 的保护涂层；W及形成在所述保护涂层的一个表面上的粘合层，并且可W满足不等式2 :
[0054] IRl-RsI《0. 015 --(2)，
[0055] (其中化是所述堆叠体的折射率并且R。是所述粘合层的折射率）。
[0化6] 此外，偏光板可W还包含形成于偏光器的上侧上的保护膜。在此情况下，保护膜形 成于偏光器的一个表面上，并且保护涂层和粘合层形成于偏光器的另一个表面上，由此可 防止偏光板在高温和/或高湿度下发生偏光器开裂并且可呈现改良的耐久性。
[0化7] 在下文中，将参考图1详细描述根据本发明的一个实施例的偏光板。
[0化引参考图1，根据本发明的一个实施例的偏光板100可W包含偏光器110、形成于偏 光器110的下侧上的保护涂层120 W及形成于保护涂层120的下侧上的粘合层130,并且偏 光器110、保护涂层120w及粘合层130之间可W满足不等式1。
[0059]Rmax-Rmin《0. 02 --（1)，
[0060] (其中Rmax是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最大折射 率，并且Rmin是所述偏光器、所述保护涂层W及所述粘合层的折射率中的最小折射率）。
[0061] 该意味着偏光器110、保护涂层120W及粘合层130的折射率中的最大与最小值之 间的差异可W为0. 02或小于0. 02。折射率的差为0. 02或小于0. 02,例如0. 001到0. 02， 由此可降低在偏光器、保护涂层W及粘合层之间的界面处的反射率W改良偏光板的透射 率。具体来说，在400nm到780nm的波长下，偏光板可W具有43 %或大于43 %的透射率，例 如 43%到 45%。
[0062] 偏光器可W通过透射入射光中的仅一个方向的光来形成偏光。偏光器可W具有 1. 50到1. 52的折射率。在此范围内，可降低保护涂层与粘合层之间的折射率差，由此改良 偏光板的透射率。
[0063] 偏光器可W通过聚己締醇树脂膜的扩展、染色W及拉伸来制造。具体来说，聚己締 醇树脂膜通过烙融并挤压聚合度为1000到3000且皂化度为95摩尔％到99. 9摩尔％的聚 己締醇树脂，随后在22°C到35°C的温度下在膨胀浴中使聚己締醇树脂膜扩展来制造。膨胀 浴可W含有水、氯化物、棚酸、有机溶剂等。经膨胀的聚己締醇树脂膜在20°C到40°C下用舰 浓度为0. 05重量％到0. 2重量％的舰溶液染色，并且接着W1. 5倍到2. 2倍的拉伸比拉伸。 在扩展之前，可W洗漆聚己締醇