色滤光图案112的滤光单元。例如，每个像素单元包括至少一个薄膜晶体管。
[0066]需要说明的是，图3-图5只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层叠情况。
[0067]例如，本发明实施例中的平坦层113可以包括有机绝缘材料，该有机绝缘材料包括亚克力树脂或聚酰亚胺树脂。
[0068]例如，该平坦层113可以对彩膜层118进行平坦化处理，并具有较低的介电常数，例如，介电常数<5。平坦层具有平坦或基本平坦的表面。
[0069]例如，每种不同颜色的彩色滤光图案可采用对应的彩色树脂形成。
[0070]例如，彩膜层中的层叠的部分起到遮光的效果。从而可以不用设置黑矩阵。以下各实施例与此相同。
[0071]需要说明的是，本发明实施例的各彩色滤光图案并不限于上述的形成次序。对各彩色滤光图案的形成次序不做限定。并且，每种颜色的滤光图案均可通过一个掩膜版形成。将其区分为多个部分只是为了更好的理解各个层叠的部分的情况。本发明实施例的各彩色滤光图案的形成亦不限于给出的形成工艺。
[0072]实施例二
[0073]本实施例提供一种阵列基板，如图la、lb、图6-图9所示，该阵列基板包括衬底基板101以及位于衬底基板101上的彩膜层118、多个薄膜晶体管117、多条数据线107和多条栅线102。
[0074]例如，如图1a所示，多条数据线107和多条栅线102彼此交叉设置且互相绝缘，由此限定出多个呈阵列排列的像素单元119。每个像素单元包括作为开关元件的薄膜晶体管117和用于控制液晶偏转与开关元件电连接的像素电极116。本发明实施例的彩色滤光图案可对应上述像素单元设置。
[0075]例如，如图1b所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元121。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分122，层叠的部分122配置来分隔各滤光单元121。围绕各滤光单元121的周边区域即为分隔各滤光单元121的层叠的部分122。即至少两种不同颜色的滤光图案层叠形成的分隔各滤光单元121的层叠的部分
122。层叠的部分122对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处。该图中，用虚线表示出了设置在衬底基板上的多条数据线107、多条栅线102以及像素单元119。
[0076]例如，如图1b所示，在彩膜层118中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元。并且，对应多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0077]如图6所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案。例如包括绿色滤光图案110、红色滤光图案111和蓝色滤光图案112。则光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案112。
[0078]例如，图7是图1a中沿A_A’向剖视图，图8是图1a中沿B_B’向剖视图，图9是图1a中沿C-C’向剖视图。如图7所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分。如图8所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应栅线102的位置处具有彼此层叠的部分。如图7和图9所示，红色滤光图案111和绿色滤光图案110在对应数据线107的位置处具有彼此层叠的部分。层叠的部分配置来分隔各滤光单元。
[0079]需要说明的是，图7-图9只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层叠情况。
[0080]例如，如图7所示，该阵列基板中，在衬底基板101上设置有栅极103。在栅极103所在的层之上设置栅极绝缘层104。在栅极绝缘层104上设置有源层(半导体层)105。在有源层105上设置源极106和漏极108，源极106和漏极108均与有源层105相接触，源极106和漏极108分设在有源层105的两侧，例如分别与相应的数据线107和相应的像素电极116电连接。源极106和漏极108之间具有间隔以界定沟道区域。在源极106和漏极108所在的层之上设置绝缘层109。在绝缘层109上设置彩膜层118。在彩膜层118上设置平坦层113。在平坦层113上设置公共电极114。在公共电极114所在的层之上设置钝化层115。在钝化层115上设置像素电极116。像素电极116通过过孔与薄膜晶体管的漏极108相连。
[0081]需要说明的是，本发明的实施例以狭缝状的像素电极在上，面状的公共电极在下为例进行说明。本发明实施例的公共电极还可以位于像素电极上方，位于上方的公共电极为狭缝状电极。在此不做限定。
[0082]例如，薄膜晶体管117的栅极103与相应的栅线102电连接或一体形成，源极106与相应的数据线107电连接或一体形成。
[0083]例如，多条栅线102和/或多条数据线107的材质为金属，例如，可为铝、铝合金、铜、铜合金、钼等中的任一的单层或其中几种的叠层。
[0084]例如，平坦层113材质可采用绝缘材料，可以包括有机绝缘材料，该有机绝缘材料例如包括亚克力树脂、聚酰亚胺树脂等。
[0085]例如，该平坦层113可以对彩膜层118进行平坦化处理，并具有较低的介电常数。
[0086]例如，如图6所示，给出一种彩膜层形成工艺的流程示意图。该彩膜层包括三种不同颜色的滤光图案，形成工艺包括以下步骤。
[0087](I)首先形成绿色滤光图案110。绿色滤光图案110具有沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101，沿数据线方向延伸的绿色主体部分1102，以及配置在绿色主体部分1102两侧且对应数据线位置处的绿色侧边延伸部分1103。绿色第一延伸部分1101的长度大于或等于一个像素单元沿栅线方向的长度。
[0088](2)其后形成红色滤光图案111。红色滤光图案111具有沿数据线方向延伸的红色主体部分1112以及配置在红色主体部分1112两侧且对应数据线位置处的红色侧边延伸部分1113。该红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103层叠。红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113以及绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分为红色滤光图案和绿色滤光图案在对应数据线位置处具有的层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖数据线在该衬底基板101上的正投影，以此来遮光。
[0089](3)最后形成蓝色滤光图案112。蓝色滤光图案112具有沿数据线方向延伸的蓝色主体部分1122、配置在蓝色主体部分1122两侧且对应数据线位置处的蓝色侧边延伸部分1123、以及沿栅线方向延伸的蓝色第一延伸部分1121。蓝色第一延伸部分1121的长度大于或等于两个像素单元沿栅线方向的长度。
[0090]该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121在对应栅线和薄膜晶体管的位置处与对应的红色滤光图案111和绿色滤光图案110的主体部分层叠，蓝色主体部分1122与绿色第一延伸部分1101在对应栅线和薄膜晶体管的位置处层叠。从而彩膜层中，两种不同颜色的滤光图案在对应栅线和薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在该衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112的蓝色侧边延伸部分1123在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103以及相邻的红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113层叠。S卩，两种不同颜色的滤光图案在对应数据线位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖数据线在该衬底基板101上的正投影，以此来遮光。该蓝色滤光图案112为上述三种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0091]本实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0092]例如，该阵列基板的制备方法中，彩膜层的形成工艺可如上所述。
[0093]综上，在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。S卩，红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条栅线和多个