阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置的制造方法_4

文档序号:9326121阅读:来源:国知局
薄膜晶体管的位置处。从而,两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有层叠的部分。例如,该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在衬底基板101上的正投影。在彩膜层中,红色滤光图案和绿色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分,绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分,蓝色滤光图案和红色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分。即,红色滤光图案和绿色滤光图案具有的彼此层叠的部分、绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分、以及蓝色滤光图案和红色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条数据线的位置处。从而,两种不同颜色的滤光图案在对应多条数据线的位置处具有层叠的部分。例如,该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖对应数据线在衬底基板101上的正投影。层叠的部分配置来分隔各滤光单元。
[0094]实施例三
[0095]本实施例提供一种阵列基板,如图la、lb、图10-图13所示,该阵列基板包括衬底基板101以及位于衬底基板101上的彩膜层118、多个薄膜晶体管117、多条数据线107和多条栅线102。
[0096]例如,如图1a所示,多条数据线107和多条栅线102彼此交叉设置且互相绝缘,由此限定出多个呈阵列排列的像素单元119。
[0097]例如,如图1b所示,彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案,每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元121。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分,层叠的部分配置来分隔各滤光单元121。围绕各滤光单元121的周边区域即为至少两种不同颜色的滤光图案具有的层叠的部分122。层叠的部分122对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处。层叠的部分122配置来分隔各滤光单元121。该图中,用虚线表示出了设置在衬底基板上的多条数据线107、多条栅线102以及像素单元119。
[0098]如图10所示,彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案,例如包括绿色滤光图案110、红色滤光图案111和蓝色滤光图案112。
[0099]在彩膜层中,至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分层叠的部分配置来分隔各滤光单元121。并且,对应多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0100]例如,图11是图1a中沿A-A’向剖视图,图12是图1a中沿B_B’向剖视图,图13是图1a中沿C-C’向剖视图。如图11所示,绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分。如图12所示,绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应栅线102的位置处具有彼此层叠设置的部分。如图13所示,红色滤光图案111和蓝色滤光图案112在对应数据线107的位置处具有彼此层叠设置的部分,蓝色滤光图案112和绿色滤光图案110在对应数据线107的位置处具有彼此层叠设置的部分。从而,对应数据线的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为光透过率最低的滤光图案。例如,光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案112。
[0101]需要说明的是,图11-图13只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层置情况。
[0102]例如,如图11所示,该阵列基板包括薄膜晶体管117和像素电极116 ;该薄膜晶体管117包括栅极103、栅极绝缘层104、有源层105、源极106以及漏极108。
[0103]例如,薄膜晶体管117的栅极103与相应的栅线102电连接或一体形成,源极106与相应的数据线107电连接或一体形成。
[0104]例如,多条栅线102和/或多条数据线107的材质为金属,例如,为铝,铝合金,铜,
铜合金,钼等中的任一的单层或其中几种的叠层。
[0105]例如,如图10所示,给出一种彩膜层形成工艺的流程示意图。该彩膜层包括三种不同颜色的滤光图案,形成工艺包括如下步骤。
[0106](I)首先形成绿色滤光图案110,绿色滤光图案110具有沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101,沿数据线方向延伸的绿色主体部分1102,以及配置在绿色主体部分1102两侧且对应数据线位置处的绿色侧边延伸部分1103。沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101的长度大于或等于一个像素单元沿栅线方向的长度。
[0107](2)其后形成红色滤光图案111。红色滤光图案111具有沿数据线方向延伸的红色主体部分1112以及配置在红色主体部分1112两侧且对应数据线位置处的红色侧边延伸部分1113,红色侧边延伸部分1113与绿色侧边延伸部分1103相接。
[0108](3)最后形成蓝色滤光图案112。蓝色滤光图案112具有沿栅线方向延伸的蓝色第一延伸部分1121,沿数据线方向延伸的蓝色主体部分1122,配置在蓝色主体部分1122两侧且对应数据线位置处的蓝色侧边延伸部分1123,以及配置在绿色滤光图案110与红色滤光图案111之间的对应数据线位置处的蓝色第三延伸部分1124。该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121的长度大于或等于两个像素单元沿栅线方向的长度。该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121在对应栅线和薄膜晶体管位置处与对应的红色滤光图案111和绿色滤光图案110的主体部分1112、1102层叠,蓝色主体部分1122与绿色第一延伸部分1101在对应栅线和薄膜晶体管的位置处层叠。从而彩膜层中,至少两种不同颜色的滤光图案在对应栅线和薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如,该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112的蓝色侧边延伸部分1123在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103以及相邻的红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113层叠。该蓝色滤光图案112的蓝色第三延伸部分1124在绿色滤光图案110与红色滤光图案111之间的对应数据线位置处与相接的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1102和红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1112层叠。从而彩膜层中,两种不同颜色的滤光图案在对应数据线位置处具有彼此层叠的部分。例如,该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖对应数据线在衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112为上述三种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0109]综上,在彩膜层中,红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分,绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。S卩,红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分、绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处。在彩膜层中,红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分,绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分。即,红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分,绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条数据线的位置处。
[0110]本实施例还提供一种阵列基板的制备方法,包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线;其中,彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案,且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分,层叠的部分配置来分隔各滤光单元,且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
[0111]例如,该阵列基板的制备方法中,彩膜层的形成工艺可如上所述。
[0112]需要说明的是,本发明实施例的各彩色滤光图案并不限于上述的形成次序。本发明实施例的各彩色滤光图案的形成亦不限于给出的形成工艺。阵列基板中的其余结构及描述可参见实施例一。
[0113]需要说明的是,彩膜层中的层叠的部分的设置情况不限于上述实施例中给出的情形。只要是在彩膜层中,至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分,层叠的部分配置来分隔各滤光单元,且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案即可。例如,至少三种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如,至少三种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案。
[0114]需要说明的是,本发明的像素单元和/或滤
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