本实用新型涉及一种修正挡板，具体地说本实用新型涉及一种真空镀膜的修正挡板结构。
背景技术：
公知的，随着科学技术的飞速发展，真空镀膜的技术已经得到普遍应用，在镀制薄膜时，膜层的均匀性是一个重要的问题，膜层的均匀性不好，会严重影响膜系的特性，膜层均匀性是指膜厚随基板表面位置的变化，它与蒸发源到基板之间的距离有关，现有的真空镀膜主要采用增加蒸发源到基板之间的距离来改变薄膜的均匀性，但是当蒸发源不稳定的时候对于均匀性的影响就会越大，因此，提出一种能够稳定的增加镀膜均匀性的修正挡板结构，成为本领域技术人员的基本诉求。
技术实现要素：
为了克服背景技术中的不足，本实用新型公开了一种真空镀膜的修正挡板结构，通过设置旋转组件驱动转轴上的修正挡板旋转，实现了真空镀膜更均匀的目的。
为实现上述发明目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种真空镀膜的修正挡板结构，包括真空镀膜室、旋转基片台和蒸发源，在真空镀膜室内设有蒸发源，在蒸发源的上部设有旋转基片台，在真空镀膜室的外部设有旋转组件，在旋转组件的中心处设有穿过真空镀膜室的转轴，在转轴上设有修正挡板。
由于采用了上述技术方案，本实用新型具有如下优越性：
本实用新型所述的真空镀膜的修正挡板结构，通过旋转组件带动修正挡板旋转来调节镀膜厚度，并调整修正挡板适合的角度和形状，从而使真空镀膜更为均匀。
【附图说明】
图1是本实用新型的结构示意图；
在图中：1、修正挡板；2、转轴；3、旋转组件；4、真空镀膜室；5、旋转基片台；6、蒸发源。
【具体实施方式】
通过下面的实施例可以更详细的解释本实用新型，本实用新型并不局限于下面的实施例；
结合附图1所述的真空镀膜的修正挡板结构，包括真空镀膜室4、旋转基片台5和蒸发源6，在真空镀膜室4内设有蒸发源6，在蒸发源6的上部设有旋转基片台5，在真空镀膜室4的外部设有旋转组件3，在旋转组件3的中心处设有穿过真空镀膜室4的转轴2，在转轴2上设有修正挡板1。
实施本实用新型所述的真空镀膜的修正挡板结构，在使用时，根据需要调整修正挡板1的角度和形状，进行固定，抽真空、打开蒸发源6，通过旋转组件3带动修正挡板1旋转来调节镀膜厚度，即可获取非常均匀的真空镀膜。
本实用新型未详述部分为现有技术。
为了公开本实用新型的发明目的而在本文中选用的实施例，当前认为是适宜的，但是，应了解的是，本实用新型旨在包括一切属于本构思和实用新型范围内的实施例的所有变化和改进。