一种真空镀膜的修正挡板结构的制作方法

文档序号:12430822阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种真空镀膜的修正挡板结构,包括真空镀膜室(4)、旋转基片台(5)和蒸发源(6),其特征是:在真空镀膜室(4)内设有蒸发源(6),在蒸发源(6)的上部设有旋转基片台(5),在真空镀膜室(4)的外部设有旋转组件(3),在旋转组件(3)的中心处设有穿过真空镀膜室(4)的转轴(2),在转轴(2)上设有修正挡板(1)。

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