一种PECVD镀膜承载器的制作方法

文档序号:12793700阅读:410来源:国知局
一种PECVD镀膜承载器的制作方法与工艺

本实用新型涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种PECVD镀膜承载器。



背景技术:

PECVD是太阳能电池片等离子体化学沉积镀膜工艺的简称,在太阳能电池的生产过程中,对硅片镀膜是提高太阳能电池吸收效率的关键技术,根据硅片的光电转换发电原理,光线照射到硅片上会产生反射,硅片的光学损失会使太阳能电池的输出低于理想值,硅片镀膜技术是提高太阳能电池吸收效率的成熟技术,已在太阳能电池工业化生产中得到广泛应用,通过PECVD能在硅片表面形成一层减反射膜。

现有技术中,PECVD镀膜时,将待镀膜的硅片平放在硅片承载器上,并由四个托钩水平托起,其镀膜是在硅片的正面镀膜,若要进一步提升电池效率,可以减少电池片的透过光,增强钝化效果,需要在背面镀膜,背电极位置镀膜后会存在接触不良,即使激光打孔仍会有空洞,导致开压和效率较低。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种PECVD镀膜承载器,其可保证背电极不被镀膜,使得银浆与硅片有良好的接触,提升了开压和效率。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种PECVD镀膜承载器,包括用于承载硅片的载框,载框设置有用于遮盖硅片的背电极的掩膜条,掩膜条的两端分别固定在载框的两侧,掩膜条为镂空结构,掩膜条在与背电极相对应的位置设置为实心部,掩膜条在其他位置设置为空心部。

其中,掩膜条通过螺钉与载框固定连接,载框设置有与螺钉相配合的安装孔。

其中,安装孔为腰型孔。

其中,掩膜条为石墨条。

其中,硅片设置有多条分段式的背电极,每条背电极均对应设置有一个掩膜条,与一个硅片相对应的多个掩膜条通过固定件与载框固定连接。

其中,固定件、掩膜条和载框一起通过螺钉固定连接。

其中,固定件为石墨片。

其中,载框的两侧均设置有用于承载硅片的挂钩。

本实用新型的有益效果:一种PECVD镀膜承载器,包括用于承载硅片的载框,载框设置有用于遮盖硅片的背电极的掩膜条,掩膜条的两端分别固定在载框的两侧,掩膜条为镂空结构,掩膜条在与背电极相对应的位置设置为实心部,掩膜条在其他位置设置为空心部。本实用新型的PECVD镀膜承载器,通过设置掩膜条,保证其他区域正常镀膜而背电极不被镀膜,使得银浆与硅片有良好的接触,提升了开压和效率。

附图说明

图1是本实用新型的硅片的结构示意图。

图2是本实用新型的硅片与掩膜条镀膜前的结构示意图。

图3是本实用新型的硅片与掩膜条镀膜后的结构示意图。

图4是本实用新型的载框上的一个硅片单元的结构示意图。

图5是本实用新型的PECVD镀膜承载器的结构示意图(5×10载框)。

附图标记如下:

1-载框;2-掩膜条;21-实心部;22-空心部;3-固定件;

10-硅片;101-背电极。

具体实施方式

下面结合图1至图5并通过具体实施例来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1至图5所示,一种PECVD镀膜承载器,包括用于承载硅片10的载框1,载框1设置有用于遮盖硅片10的背电极101的掩膜条2,掩膜条2的两端分别固定在载框1的两侧,掩膜条2为镂空结构,掩膜条2在与背电极101相对应的位置设置为实心部21,掩膜条2在其他位置设置为空心部22。本实用新型的PECVD镀膜承载器,通过设置掩膜条2,保证其他区域正常镀膜而背电极101不被镀膜,使得银浆与硅片10有良好的接触,提升了开压和效率。

本实施例中,掩膜条2通过螺钉与载框1固定连接,载框1设置有与螺钉相配合的安装孔(未图示)。优选地,安装孔为腰型孔,掩膜条2为石墨条。安装孔为腰型孔,使得掩膜条2可根据背电极101的位置,来相对载框1作相应调整。

本实施例中,硅片10设置有多条分段式的背电极101,每条背电极101均对应设置有一个掩膜条2,与一个硅片10相对应的多个掩膜条2通过固定件3与载框1固定连接。优选地,固定件3、掩膜条2和载框1一起通过螺钉固定连接,固定件3为石墨片。

本实施例中,载框1的两侧均设置有用于承载硅片10的挂钩(未图示)。

本实施例中,如图5所示,载框1上承载有5×10个硅片10,即载框1上设置有5行10列的硅片10,载框1在相邻的两个硅片10之间设置有用于隔开相邻的两个硅片10的框架,每行硅片10的同一行的背电极101通过一个掩膜条2固定,掩膜条2的两端分别固定在载框1的两侧,且与框架固定连接。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1