技术总结
本实用新型涉及镀膜技术领域，本实用新型公开了一种连续真空镀膜设备，包括机架，所述机架处设置有用于对零件进行镀膜的镀膜腔体，所述镀膜腔体两侧分别设置有进料腔体及出料腔体，所述镀膜腔体内设置有将零件排出镀膜腔体的第四输送带，所述机架还设置有用于用于清洗零件的清洗机构、用于烘干零件的烘干机构、用于检测零件镀膜情况并排出零件的检测出料机构，所述清洗机构及所述烘干机构设置于所述进料腔体，所述检测出料机构设置于所述出料腔体。本实用新型达到有效除去零件表面的污染物，提高零件镀膜的合格率。
技术研发人员：乔晓东;楚殿军;陈静伟
受保护的技术使用者：嘉兴浩宇等离子体科技有限公司
技术研发日：2018.12.17
技术公布日：2019.09.24