一种真空自耗炉的操作柜台的制作方法

1.本实用新型涉及一种操控柜台，尤其涉及一种真空自耗炉的操作和监控平台。


背景技术：

2.目前，公知的真空自耗重熔炉生产过程是一个钢锭重熔的的过程。其中钢锭在结晶器重熔过程中，是靠电极释放电流产生高温电弧融化钢锭重熔的过程，为了便于操控真空自耗炉需要用到集成的参控与监测平台。
3.目前没有专门的真空自耗炉操作和控制平台，不便于真空自耗炉的操作，需要进行改进。


技术实现要素：

4.鉴于目前操控平台存在的上述不足，本实用新型提供一种真空自耗炉的操控平台，能够达到便于操控真空自耗炉的效果。
5.为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
6.一种真空自耗炉的操控柜台，所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备，所述控制平台包括操作平台和监控平台，所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方，所述操作平台下方悬空，所述监控平台呈梯形，所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧，所述监控设备设置在监控平台的顶面上，所述操作设备设置在操作平台上，所述操作平台的顶面距离地面800
‑
840mm。
7.依照本实用新型的一个方面，所述柜体的背面设置有固定螺柱板，所述固定螺柱板上设置有螺柱，所述柜体通过固定螺柱板和螺柱与墙面相连。
8.依照本实用新型的一个方面，所述监控平台的斜面上设置有接线插口，所述接线插口通过电路与控制设备相连。
9.依照本实用新型的一个方面，所述底座与柜体宽和长相同，所述底座宽620
‑
660mm，所述底座长1180
‑
1200mm。
10.依照本实用新型的一个方面，所述柜体上设置有安装板。
11.依照本实用新型的一个方面，所述底座底部设置有出线孔。
12.本实用新型实施的优点：
13.本实用新型提供了一种真空自耗炉的操控平台，所述真空自耗炉的操控平台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备，所述控制平台包括操作平台和监控平台，所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方，所述操作平台下方悬空，所述监控平台呈梯形，所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧，所述监控设备设置在监控平台的顶面上，所述操作设备设置在操作平台上，所述操作平台的顶面距离地面800
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840mm。能够达到便于操控真空自耗炉的效果。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1为本实用新型所述的一种真空自耗炉的操作柜台的正视结构示意图；
16.图2为本实用新型所述的一种真空自耗炉的操作柜台的右视结构示意图；
17.图3为本实用新型所述的一种真空自耗炉的操作柜台的仰视结构示意图；
18.图4为本实用新型所述的一种真空自耗炉的操作柜台的俯视结构示意图。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.如图1、图2、图3和图4所示，一种真空自耗炉的操控柜台，所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座2、设置在底座2上的柜体1、设置在柜体1顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备 6和设置在控制平台上的监控设备10，所述控制平台包括操作平台5 和监控平台3，所述监控平台3设置在柜体1顶部、所述操作平台5设置在柜体1侧上方，所述操作平台5下方悬空，所述监控平台3呈梯形，所述监控平台3的斜面朝向操作平台5一侧，所述监控设备10设置在监控平台3的顶面上，所述操作设备6设置在操作平台5上，所述操作平台5的顶面距离地面800
‑
840mm。
21.在实际使用中，监控设备用于冶炼期间的数据监控，包括水温、真空度、电流、电压、熔速等几十项数据的实时监控和记录，每12秒记录一次所有数据。并且可以设定打印，纸质存档，方便历史查阅。
22.在本实施例中，所述柜体1的背面设置有固定螺柱板7，所述固定螺柱板7上设置有螺柱，所述柜体1通过固定螺柱板7和螺柱与墙面相连。
23.在本实施例中，所述监控平台3的斜面上设置有接线插口9，所述接线插口9通过电路与控制设备6相连。
24.在本实施例中，所述底座2与柜体1宽和长相同，所述底座2宽 620
‑
660mm，所述底座2长1180
‑
1200mm。
25.在本实施例中，所述柜体1上设置有安装板4。
26.在本实施例中，所述底座2底部设置有出线孔8。
27.本实用新型实施的优点：
28.本实用新型提供了一种真空自耗炉的操作柜台，所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备，所述控制平台包括操作平台和监控平台，所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方，所述操作平台下方悬空，所述监控平台呈梯形，所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧，所述监控设备设置在监控平
台的顶面上，所述操作设备设置在操作平台上，所述操作平台的顶面距离地面800
‑
840mm。能够达到便于操控真空自耗炉的效果。
29.此外，本实用新型操控平台提供了操作盘以及操控界面，并提供了有关真空电弧熔炉的运行操作的信息。
30.1.首先重量和措施以原始尺寸显示，然后转换该数值。仅在需要的地方显示转换值。对料杆,锭子的称重。
31.2.真空自耗炉操作主要在工控机界面以及操作平台上操作,在控制台上完成两个摄像头云台的移动,手动压摆和渣摆,急停的功能。
32.3.在熔炼过程中，检查坩埚中电极的位置，确保电极保持中心位置。使用x
‑
y控制来校正偏心电极。
33.4.系统能够监测并显示熔炼各个阶段，如起弧阶段,稳态阶段,热风顶阶段和熔炼结束状态。
34.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域技术的技术人员在本实用新型公开的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。