技术总结
本实用新型公开了一种真空自耗炉的操作柜台，所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备，所述控制平台包括操作平台和监控平台，所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方，所述操作平台下方悬空，所述监控平台呈梯形，所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧，所述监控设备设置在监控平台的顶面上，所述操作设备设置在操作平台上，所述操作平台的顶面距离地面800
技术研发人员：齐雪峰 桂大兴 杨巍峰
受保护的技术使用者：上海鑫蓝海自动化科技有限公司
技术研发日：2020.06.17
技术公布日：2021/5/14