一种玻璃盖板的抛光装置的制造方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种玻璃盖板的抛光装置。
【【背景技术】】
[0002]现有的玻璃盖板的制备过程一般包括开料、CNC工艺、抛光、钢化、超声波清洗、真空镀膜以及丝印等一系列特殊加工工艺，玻璃盖板具有美化装置和保护的作用，目前，玻璃盖板产品广泛用于手机镜片(LENS)、平板电脑、数码相框、汽车导航仪(GPS)、MP4镜片等触摸屏产品中。
[0003]其中，抛光工艺的作用理论包括机械切削法、化学凝胶法以及表面流动法。机械切削法是指采用坚硬的磨料切削玻璃表面凹凸微痕机构；化学凝胶法是指在玻璃表面水解形成硅酸凝胶层后去除，获得平整的玻璃盖板表面；而表面流动法，则是通过表面摩擦生热导致玻璃表面产生塑性流动，凸起部分可把凹点填平。其中，玻璃盖板的抛光工艺可以对玻璃盖板起到消痕、增亮的作用，也可以作为消除玻璃的浅表面划痕，是玻璃盖板制备过程中必不可少的一道工序。
[0004]现有技术中主要抛光操作中，一般是将玻璃盖板放置在一支撑平台上，需要进行抛光的玻璃盖板面朝上，然后抛光轮从上而下，与待抛光的玻璃盖板面接触后进行抛光操作。现有技术中，每次抛光工序只能允许一个置放有待抛光玻璃盖板的支撑平台进行加工，抛光时间长、工序复杂，且，由于在支撑平台上并未设置用于固定玻璃盖板的夹具，在玻璃盖板的抛光或传送过程中，玻璃盖板易发生位移，导致玻璃盖板损坏及玻璃盖板抛光效果不佳的问题。
【【实用新型内容】】
[0005]为克服现有玻璃盖板抛光装置中存在的效率低、效果不佳、玻璃盖板易发生位移的缺点，本实用新型提供一种操作简便、可固定玻璃盖板位置且不会对玻璃盖板造成磨损的抛光装置。
[0006]本实用新型中一种玻璃盖板的抛光装置，包括一机座、一抛光机构、一物料机构与一传送机构，抛光机构、物料机构与传送机构均设于机座上，其中，抛光机构与物料机构相对独立设置，传送机构设于机座的物理位置的中心。
[0007]优选地，抛光机构与物料机构相对独立设置，传送机构设于机座的物理位置的中心。
[0008]优选地，抛光机构包括相互连接的抛光驱动件与至少一个固定于机座上的抛光转轮。
[0009]优选地，物料机构包括固定于机座上的物料置放槽及放置在物料置放槽内的物料托盘，其中，物料托盘上包括双环形排列且均匀分布的多个托盘置放槽及至少一设置于托盘置放槽的横纵交点处并与之贯通的托盘气孔。
[0010]优选地，该托盘置放槽为“田”字型和/或“井”字型结构结合的托盘凹槽结构；该托盘置放槽还包括一个设于托盘凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的托盘气孔，或，两个及以上设于托盘凹槽结构内及相对于托盘凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的托盘气孔。
[0011]优选地，传送机构包括转动装置、传送机构驱动件及至少一传送真空吸附装置，其中，转动装置与传送真空吸附装置连接，并由传送机构驱动件可控制带动传送真空吸附装置转动；其中，传送真空吸附装置上包括双环形排列且均匀分布于传送吸附盘上的多个吸附板，该吸附板上包括“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构。该吸附板上还包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。
[0012]优选地，抛光机构还包括分别固定于机座上的第一抛光转轮、第二抛光转轮与第三抛光转轮。第一抛光转轮、第二抛光转轮、第三抛光转轮与物料机构中的物料置放槽分别相对于转动装置的X轴和Y轴的两侧等间距分布，其中，物料装置的X轴方向的两侧对应设有物料置放槽与第二抛光转轮，物料装置的Y轴方向的两侧对应设有第一抛光转轮与第三抛光转轮。
[0013]优选地，该物料托盘上设置的托盘置放槽与该传送吸附盘上设置的吸附板的数量及其相对位置一一对应匹配。
[0014]优选地，物料置放槽由两个贯通的上圆柱槽与下圆柱槽组成，其中，上圆柱槽的直径大于下圆柱槽的直径，下圆柱槽内配合置放物料托盘；物料置放槽内还包括用于固定物料托盘的托盘置放固定块。物料机构还包括与托盘气孔相连的托盘真空吸附装置，托盘置放槽、托盘气孔与托盘真空吸附装置之间形成贯通的气路。
[0015]优选地，传送机构包括设置于转动装置与传送真空吸附装置之间的传送控制气缸，传送控制气缸控制传送真空吸附装置的升降及转换传送真空吸附装置相对于机座为平行或垂直状态。
[0016]优选地，传送真空吸附装置包括第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置；转动装置的X轴方向的两侧对应设有第一传送真空吸附装置与第三传送真空吸附装置，相对地，转动装置的Y轴方向的两侧对应设有第二传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置。其中，转动装置带动与其连接的第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置水平转动，每次转动一个工位。
[0017]优选地，传送机构还进一步包括传送真空吸附气缸，传送真空吸附气缸设于转动装置上，并分别与第一传送真空吸附装置、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置与第四传送真空吸附装置分别设置的传送吸附气孔及与传送吸附气孔贯通的吸附板之间形成贯通的气路。
[0018]与现有技术相比，首先，本实用新型玻璃盖板抛光装置中包括至少一个物料机构以及至少一个抛光机构，在实际应用中可根据抛光的需要，在机座上设置多个抛光机构和/或物料机构，从而可在一个装置中满足不同玻璃盖板抛光的需求。
[0019]其次，在现有技术中，待抛光的玻璃盖板一般放置在一支撑平台上，且待抛光的玻璃盖板面朝上，抛光轮位于待抛光的玻璃盖板上方对其进行抛光，这样的抛光方式，易使在抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上，对玻璃盖板表面产生二次污染；本实用新型中将待抛光的玻璃盖板面朝下，而抛光转轮(包括第一抛光转轮、第二抛光转轮与第三抛光转轮)则固定在机座上，实现抛光转轮从玻璃盖板下方对玻璃盖板进行抛光处理，除了可以有效避免抛光过程中产生的小颗粒、杂质由于重力作用粘附在玻璃盖板上的问题，还便于采用传送机构传送玻璃盖板，从而实现在一个抛光装置中对玻璃盖板的进行多次抛光处理。
[0020]再次，在本实用新型中，在物料机构的物料托盘及传送机构中均设有相对应的真空吸附装置，其中，以传送机构中的第一传送真空吸附装置为例，该第一传送真空吸附装置中包括传送吸附盘，传送吸附盘上设有双环形排列且均匀分布的多个吸附板，该吸附板上用于放置玻璃盖板，其中玻璃盖板不用抛光的一面与吸附板接触，吸附板上还设有“田”字型或“井”字型或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构以及至少一个设于吸附凹槽结构横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔，传送吸附气孔与传送真空吸附装置气缸连接并形成贯通的气路。本实用新型中可通过传送真空吸附装置气缸、传送吸附气孔以及与其贯通连接的吸附凹槽结构，在吸附板与置放在其上的玻璃盖板接触面之间形成贯通的气路，实现真空负压或真空正压，使玻璃盖板与传送真空吸附装置的真空吸附固定持续的时间可控。进一步地，还可以根据不同玻璃盖板的要求，通过调整传送吸附气孔、吸附凹槽结构的形状与尺寸以及调整气缸的吸放气的速度与持续的时间，实现对不同玻璃盖板的抛光处理，从而有效解决了现有技术中玻璃盖板在抛光或传送过程中，玻璃盖板易发生位移、导致玻璃盖板损坏以及抛光效果不佳的问题且可适用于不同的玻璃盖板抛光处理中。而本实用新型中的物料托盘、第二传送真空吸附装置、第三传送真空吸附装置以及第四传送真空吸附装置均包含相类似的结构，且可实现相似的技术效果。
[0021]此外，本实用新型中传送真空吸附装置可通过传送控制气缸调整为相对于机座平行或垂直的状态，其中，当传送真空吸附装置相对于机座垂直设置时，可方便操作者对传送真空吸附装置上吸附固定的玻璃盖板位置进行调整，从而使玻璃盖板的抛光效果更好。
[0022]因此，本实用新型提供了一种操作快捷、方便检查和调整、可固定玻璃盖板位置且不会对玻璃盖板造成磨损的玻璃盖板的抛光装置，该玻璃盖板抛光装置适用范围广，具有非常好的市场应用价值。
【【附图说明】】
[0023]图1是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的结构示意图。
[0024]图2是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的俯视图。
[0025]图3是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的仰视图。
[0026]图4是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的结构示意图。
[0027]图5是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的传送吸附盘的吸附板的结构示意图。
[0028]图6是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的俯视图。
[0029]图7是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的物料托盘的结构示意图。
[0030]图8是本实用新型玻璃盖板的抛光装置第一实施例的物料托盘的俯视图。
[0031]图9是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第一变形实施例的俯视图。
[0032]图10是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第二变形实施例的俯视图。
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