33]图11是本实用新型玻璃盖板的抛光装置的传送吸附盘中吸附板的吸附凹槽结构的第三变形实施例的俯视图。
【【具体实施方式】】
[0034]为了使本实用新型的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0035]请参阅图1，在本实施例中，一种玻璃盖板的抛光装置10包括一机座11、一抛光机构12、一物料机构13与一传送机构14，其中，抛光机构12、物料机构13与传送机构14均设于机座11上，抛光机构12与物料机构13相对独立设置，传送机构14设于机座11的物理位置的中心。传送机构14包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144、转动装置145与传送机构驱动件(图中未示)。
[0036]抛光机构12包括分别固定于机座11上的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123，抛光机构12还包括抛光驱动件(图中未不)，其中，抛光驱动件与第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123连接，抛光驱动件控制并带动第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123在原位水平转动，通过对抛光驱动件的参数进行调整，还可以调整第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123的转动速率和持续转动的时间。
[0037]该抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123为羊毛轮。
[0038]物料机构13包括固定于机座11上的物料置放槽131及放置在物料置放槽131内的物料托盘132，其中，物料置放槽131由两个贯通的上圆柱槽(图中未示)与下圆柱槽(图中未示)组成，其中上圆柱槽的直径大于下圆柱槽的直径，下圆柱槽内可配合置放物料托盘132 ;物料置放槽131内还可包括用于固定物料托盘132的托盘置放固定块(图中未示)，托盘置放固定块可使物料托盘132在后续的操作过程中不会发生位移，提高抛光操作的精准度。
[0039]抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122、第三抛光转轮123与物料机构13中的物料置放槽131分别相对于转动装置145的X轴和Y轴的两侧等间距分布，其中，转动装置145的X轴方向的两侧对应设有物料置放槽131与第二抛光转轮122，转动装置145的Y轴方向的两侧对应设有第一抛光转轮121与第三抛光转轮123。
[0040]在传送机构14中的转动装置145上连接有第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144，转动装置145上各个传送真空吸附装置的排布方式可分为X轴和Y轴的分布方式，转动装置145的X轴方向的两侧对应设有第一传送真空吸附装置141与第四传送真空吸附装置144，相对地，转动装置145的Y轴方向的两侧对应设有第二传送真空吸附装置142与第三传送真空吸附装置143。转动装置145由传送机构驱动件(图中未示)控制实现转动，转动装置145带动与其连接的第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144水平转动，每次转动一个工位，如可水平转动至抛光机构12第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123与物料机构13的物料置放槽131的上方，并与之——对应匹配。
[0041]第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144在使用过程中，与机座11及设于机座11上的抛光机构
12、物料机构13平行设置。
[0042]传送机构14上还包括传送真空吸附气缸146，传送真空吸附气缸146设于转动装置145上，并分别与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144分别设置的传送吸附气孔1415及与传送吸附气孔1415贯通的吸附板1413之间形成贯通的气路，传送真空吸附气缸146可为第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144提供吸气或放气操作，实现第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144的真空负压或真空正压。
[0043]请参见图2，在本实施例中，传送机构14还可以进一步包括四个传送控制气缸147，传送控制气缸147分别设置于转动装置145与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144之间，用于分别连接转动装置145与第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144，传送控制气缸147控制传送真空吸附装置(包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144)的升降，使第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144与其相对应匹配的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122、第三抛光转轮123、物料置放槽131之间接触更平稳、准确。
[0044]该传送控制气缸147还可控制与其连接的传送真空吸附装置(包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144)可相对于机座11为平行或垂直设置。
[0045]请参见图3-6，在本实施例中，第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143与第四传送真空吸附装置144内均包括一传送吸附盘1411。图3中所示为传送吸附盘1411的仰视图，图4中所示为传送吸附盘1411的立体图，从图3-图4中可以看出，传送吸附盘1411为一定厚度的圆盘结构1412，传送吸附盘1411包括双环形排列且均匀分布于在传送吸附盘1411的表面上的吸附板1413。其中，在本实施例中，传送吸附盘1411上包括九个吸附板1413，其具体的排列方式为双环形排列并均匀分布，双环形分为外环和内环，其外环上设有六个吸附板1413、内环上设有三个吸附板1413。该吸附板1413为“田”字型和“井”字型结构相结合的吸附凹槽结构1414，吸附板1413上包括一个设于吸附凹槽结构1414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔1415。
[0046]该吸附板1413的较窄边与同一环(内环或外环)上的吸附板1413的较窄边相邻，以实现在相同面积的传送吸附盘1411上，放置较多的吸附板1413。
[0047]其中，传送吸附盘1411的直径为25-lOOcm，其直径还可为40-80cm，其直径还可为50-65cm，传送吸附盘1411的圆盘结构12的厚度为15_80mm，其厚度还可为20_60mm，其厚度还可进一步为30_50mm。
[0048]吸附板1413的厚度为10-50_，其厚度还可为20_40_，还可进一步为25_35_。待吸附处理的玻璃盖板的面积应大于单个吸附板1413的面积。
[0049]如图5-6中所示，在本实施例中，该吸附板1413上还包括至少一设于吸附凹槽结构1414的横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔1415，传送吸附气孔1415贯通吸附板1413。传送吸附盘1411上还设有与吸附板1413的传送吸附气孔1415相对应设置的通气口 1416，其中，通气口 102设置于吸附板1413上的传送吸附气孔1415与传送真空吸附气缸146之间，使传送吸附气孔1415、通气口 1416与传送真空吸附气缸146形成贯通的气路。该通气口 1416的孔径，通气口 1416的孔径的为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。该通气口 1416贯穿传送吸附盘1411。
[0050]传送吸附气孔1415设置在吸附板1413的中心位置。由于，传送吸附气孔1415设置的位置会影响传送真空吸附气缸146对整个传送吸附盘1411的作用力的分布，而如图3中所示的设置，可以有效的分散传送真空吸附气缸146对传送吸附盘1411与放置在其表面的传送吸附盘1411之间产生平衡的真空吸附力，不会出现因真空吸附受力不均、而导致玻璃盖板脱落的问题。
[0051]该吸附板1413的大小根据所需输送或转移的玻璃盖板的数量、大小而定，传送吸附气孔1415的深度也以贯穿传送吸附盘1411为准。
[0052]如图5中所示，吸附板1413上还设有“田”字型与“井”字型结合的吸附凹槽结构1414。该吸附凹槽结构1414的深度为3.0-10.1mm,其深度还可为5.0-10.0mm,其深度进一步可为6.5-8.5mm。该吸附凹槽结构1414的其宽度为3.0-10.0mm,其宽度还可为5.5-8.5mm，其宽度进一步可为6.5-7.0mm ;传送吸附气孔1415其孔径为3.0-10.0mm，其孔径还可为6.0-9.0mm，其孔径进一步可为6.5-8.0mm。
[0053]其中，传送吸附气孔1415与通气口 1416的孔径相同。
[0054]其中，吸附板1413由于具有10-50_的厚度，因此，吸附板1413略高于传送吸附盘1411的表面。此外，玻璃盖板需要加工处理(如抛光处理)的一面朝上