液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本申请涉及液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置。
【背景技术】
[0002]提出了使用等离子体对污染水等液体进行处理的杀菌装置。例如，专利文献I所公开的杀菌装置中，将高电压电极和接地电极设有规定间隔地配置在处理槽内的液体中。这样构成的杀菌装置，向双方的电极施加高电压脉冲而进行放电，使在因瞬间沸腾现象而产生的气泡内产生等离子体，从而生成OH、H、O、02_、0_等原子团以及H 202，将微生物及细菌杀灭。
[0003]专利文献1:日本特许第4784624号说明书
【发明内容】
[0004]但是，在所述的现有构造的装置中，液体的处理效率存在问题。
[0005]本申请提供高效地处理液体的液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置。
[0006]本申请的一个技术方案的液体处理单元具备:处理槽，设置有液体供给口及液体排出口，具有使液体的一部分滞留的形状；控制装置，在所述处理槽内存在液体的状态下，使液体向所述处理槽的供给及液体从所述处理槽的排出停止规定时间；以及等离子体产生装置，在使所述液体的供给及所述液体的排出停止的期间，在所述处理槽内的液体中产生等离子体而对所述液体进行处理；所述控制装置在所述液体被处理后使液体向所述处理槽的供给重新开始，使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时将液体排出。
[0007]根据本申请的液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置，能够高效地处理液体。
【附图说明】
[0008]图1是表示本申请的实施方式I的液体处理单元的整体构成的一例的概略图。
[0009]图2是表示本申请的实施方式I的液体处理单元的变形例的整体构成的一例的概略图。
[0010]图3是表示处理槽的构成的一例的截面图。
[0011]图4是表示控制装置执行的步骤的一例的流程图。
[0012]图5是表示在本申请的实施方式I的液体处理单元中等离子体产生装置的第I电极及其周边构成的变形例的概略图。
[0013]图6是表示本申请的实施例1的液体处理单元的实施例中的、采样时间与除菌率的关系的图。
[0014]图7是表示在参考例中使用金黄色葡萄球菌溶液作为要处理的液体的情况下的、采样时间与除菌率的关系的图表。
[0015]图8是表示在参考例中使用大肠杆菌溶液作为要处理的液体的情况下的、采样时间与除菌率的关系的图表。
[0016]图9是表示在本申请的实施方式2的液体处理单元中等离子体产生装置的第I电极的前端部分及其周边构成的一例的概略图。
[0017]图10是表示在本申请的实施方式3的液体处理单元中等离子体产生装置的第I电极及其周边构成的一例的概略图。
[0018]附图标记说明:
[0019]100、10a液体处理单元(unit) ;101处理槽；102等离子体产生装置；103、103a、103b、103c第I电极；104第2电极；105电源；106分配部；107液体供给口 ；108液体排出口 ；109气泡；112泵；113液体；116气液分离器；117泵；118控制装置；120保持构件(block) ；121电极部；122支持部;123贯通孔；124空间;125开口部;126、127螺纹部；128绝缘体；129气体。
【具体实施方式】
[0020](得到本申请的一个技术方案的过程)
[0021]如前述的“【背景技术】”栏所说明，专利文献I的杀菌装置将高压电极和接地电极配置在处理槽内的液体中而构成。这样构成的杀菌装置利用瞬间沸腾现象使液体瞬间汽化，并在高电压电极与接地电极之间放电，从而产生等离子体。并且，杀菌装置通过由等离子体生成的原子团与液体中的菌碰撞来进行液体处理。
[0022]但是，现有的杀菌装置难以使原子团与漂浮在液体中的菌碰撞。例如，在通过向处理槽内供给液体并同时进行排出从而连续地处理液体的情况下，存在难以提高通过I次处理槽时的除菌效率的课题。即，在现有的装置中，存在无法使液体中生成的原子团与在液体中移动的菌高效地碰撞、无法在短时间内进行液体的处理的课题。
[0023]因此，本发明人鉴于这样的现有技术的课题，提出了新的液体处理装置。本申请的一个技术方案的液体处理装置如下。
[0024]本申请的第I技术方案(方面)的液体处理单元具备:处理槽，设置有液体供给口及液体排出口，具有使液体的一部分滞留的形状；控制装置，在所述处理槽内存在液体的状态下，使液体向所述处理槽的供给及液体从所述处理槽的排出停止规定时间；以及等离子体产生装置，在使所述液体的供给及所述液体的排出停止的期间，在所述处理槽内的液体中产生等离子体而对所述液体进行处理；所述控制装置在所述液体被处理后，使液体向所述处理槽的供给重新开始，使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时将液体排出。
[0025]根据本申请的第I技术方案的液体处理单元，在向处理槽内新供给液体并且从处理槽排出液体的步骤中，在停止的步骤中被进行了等离子体处理的液体的一部分由于处理槽的形状而滞留在处理槽内，所以与新供给的液体在混合的状态下接触。在滞留的液体中残留着由等离子体生成的原子团。即，新供给并通过处理槽的液体与滞留的液体中的原子团接触，从而能够持续地得到具有除菌效果的液体。此外，例如在向处理槽内供给含有菌类及/或有机物的液体的情况下，通过残留在处理槽内的原子团，将液体中的菌类除去、及/或将液体中的有机物分解。
[0026]在本申请的第2技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I技术方案的所述控制装置也可以还在使所述液体的供给及所述液体的排出停止之前向所述处理槽供给液体，成为在所述处理槽内存在液体的状态。
[0027]通过向处理槽供给液体的步骤，能够形成在处理槽内存在液体的状态。
[0028]在本申请的第3技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I或第2技术方案的所述等离子体产生装置也可以还在使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时排出液体的期间，在所述处理槽内的液体中产生等离子体。
[0029]不仅在停止的步骤中，而且在供给并同时排出的步骤中，都在处理槽内的液体中产生等离子体。由此，在供给并同时排出的步骤中，新供给的液体还与由新产生的等离子体生成的原子团接触。由此提高除菌效果。
[0030]本申请的第4技术方案的液体处理单元，例如在所述第I?第3技术方案的任意一个技术方案的液体处理单元中，也可以在使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时排出液体的期间，从所述处理槽排出的液体的量为所述处理槽的容积以上。
[0031]通过使生成的原子团一部分残留在处理槽中，能够使新供给的液体与处理槽中已经生成的原子团接触。
[0032]在本申请的第5技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I?第3技术方案的任意一个技术方案的液体处理单元也可以还具备具有比所述处理槽的内部空间的截面更小的截面的液体排出口。
[0033]处理槽的液体排出口的截面具有比处理槽的内部空间的截面更小的形状，所以在液体的供给或排出时，一部分液体滞留在处理槽内。由此，能够使新供给的液体与已经进行了等离子体处理的液体接触。
[0034]在本申请的第6技术方案的液体处理单元中，例如，所述第5技术方案的所述等离子体产生装置也可以产生具有比所述处理槽的内部空间的截面更小的截面的气泡。
[0035]从等离子体产生装置产生的气泡的截面具有比处理槽的内部空间的截面更小的形状，所以在气泡排出时，能够抑制液体被卷入而被排出。即，在液体排出时，能够使一部分液体滞留在处理槽内。通过该形状，能够使新供给的液体与已经进行了等离子体处理的液体接触。
[0036]在本申请的第7技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I?6技术方案的任意一个技术方案的液体处理单元也可以还具备分配部和从所述液体排出口向所述液体供给口的循环流路，所述分配部使从所述处理槽排出的液体中的一部分经由所述循环流路回流到所述处理槽。
[0037]分配部使从处理槽排出的液体的一部分回流到处理槽。在回流的液体中存在原子团，所以通过该回流液体中的原子团，能够对新供给的液体进行处理。
[0038]在本申请的第8技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I?第7技术方案的任意一个技术方案的液体处理单元也可以还具备气液分离器，所述气液分离器设置在所述处理槽的上游侧或下游侧的流路，从液体及气体的混合体提取气体并放出到外部。
[0039]由于具备气液分离器，能够实质上增加向处理槽供给的液体的流量或者从处理槽排出的液体的流量。
[0040]在本申请的第9技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I?第8技术方案的任意一个技术方案的所述等离子体产生装置也可以具备:第I电极，至少一部分配置在所述处理槽内；第2电极，至少一部分配置在所述处理槽内；绝缘体，配置为在所述第I电极的周围形成空间，且具有使所述处理槽内部与所述空间连通的开口部；电源，向所述第I电极与所述第2电极之间施加电压；以及气体供给装置，向所述空间供给气体。
[0041]在本申请的第10技术方案的液体处理单元中，例如，所述第9技术方案的所述电源也可以在所述第I电极的位于所述处理槽内的导电体露出部分被所述气体覆盖的状态下施加电压。
[0042]由此，等离子体产生装置能够生成残留时间长的原子团。因此，能够使新供给的液体与已经进行了等离子体处理的液体接触。例如，在向处理槽新供给的液体含有菌及/或有机物的情况下，能够使残留的原子团与液体中的菌及/或有机物高效地碰撞。
[0043]在本申请的第11技术方案的液体处理单元中，例如，所述第I?第10技术方案的任意一个技术方案的所述等离子体产生装置也可以具备:第I电极，至少一部分配置在所述处理槽内；第2电极，至少一部分配置在所述处理槽内；绝缘体，配置为在所述第I电极的周围形成空间，且具有使所述处理槽内部与所述空间连通的开口部；以及电源，向所述第I电极与所述第2电极之间施加电压。
[0044]在本申请的第12技术方案的液体处理单元中，例如，所述第11技术方案的所述电源也可以通过施加电压使所述空间内的液体汽化而生成气体，并且在所述第I电极的位于所述处理槽内的导电体露出部分被所述气体覆盖的状态下施加电压。
[0045]由此，等离子体产生装置能够生成残留时间长的原子团。因此，能够使新供给的液体与已经进行了等离子体处理的液体接触。例如，在向处理槽新供给的液体含有菌及/或有机物的情况下，能够使残留的原子团与液体中的菌及/或有机物高效地碰撞。
[0046]本申请的第13技术方案的冲洗坐便盖例如具备所述第I?第12技术方案的任意一个技术方案的所述液体处理单元、以及被供给从所述处理槽排出的液体的冲洗喷嘴。
[0047]在本申请的第14技术方案的冲洗坐便盖中，例如，所述第13技术方案的冲洗坐便盖也可以还具备输入部，所述输入部构成为从用户接受用于指示冲洗的输入；所述控制装置在接受到来自所述输入部的输入之前，使所述液体的供给及所述液体的排出停止，所述等离子体产生装置至少在使所述液体的供给及所述液体的排出停止的期间，在所述处理槽内的液体中产生等离子体而对所述液体进行处理，所述控制装置基于来自所述输入部的输入，使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时将液体排出到所述冲洗喷嘴。
[0048]本申请的第15技术方案的洗衣机例如具备所述第I?12技术方案的任意一个的所述液体处理单元、以及被供给从所述处理槽排出的液体的洗涤槽。
[0049]在本申请的第16技术方案的洗衣机中，例如，所述第15技术方案的洗衣机也可以还具备输入部，所述输入部构成为从用户接受用于指示开始洗涤的输入；所述控制装置基于来自所述输入部的输入，使所述液体的供给及所述液体的排出停止，所述等离子体产生装置至少在使所述液体的供给及所述液体的排出停止的期间，在所述处理槽内