的液体中产生等离子体而对所述液体进行处理，所述控制装置在所述液体被处理后，使所述处理后的液体的一部分滞留在所述处理槽内并同时将液体排出到所述洗涤槽。
[0050]本申请的第17技术方案的液体处理装置例如具备所述第I?第12技术方案的任意一个技术方案的所述液体处理单元、以及被供给从所述处理槽排出的液体的供水口，该液体处理装置是从水净化装置、空调机、加湿器、电动剃刀清洗器、洗碗机、水培用处理装置及营养液循环装置的组中选出的装置。
[0051]本申请的第18技术方案的液体处理单元例如具备:处理槽，设置有液体供给口及液体排出口，且具有使液体的一部分滞留的形状；等离子体产生装置，在所述处理槽内存在液体的状态下，在所述液体中产生等离子体；从所述液体排出口向所述液体供给口的循环流路；以及分配部，使从所述处理槽排出的液体中的一部分经由所述循环流路回流到所述处理槽。
[0052]以下，参照【附图说明】本申请的实施方式。另外，在以下的全部附图中，对于同一或相当部分赋予同一附图标记，有时省略重复的说明。
[0053]另外，下面说明的实施方式均用于示出总括性或者具体性的示例。在下面的实施方式中示出的数值、形状、材料、构成要素、构成要素的配置、连接方式、步骤及步骤的顺序等仅是一例，其主旨不是限定本申请。此外，多个步骤可以在时间上分别执行，也可以同时执行。此外，也可以在各步骤之间插入其他步骤。并且，下面实施方式的构成要素之中、在表示最上位概念的独立权利要求中没有记载的构成要素，将被作为任意的构成要素进行说明。
[0054](实施方式I)
[0055]<液体处理单元>
[0056]图1是表示实施方式I的液体处理单元100的概略构成的一例的框图。图2是表示本申请的实施方式I的变形例的液体处理单元10a的整体构成的一例的概略图。
[0057]实施方式I的液体处理单元100具备:处理槽101，供液体滞留；液体供给口 107，向处理槽101供给液体；液体排出口 108，从处理槽101排出液体；等离子体产生装置102 ；以及控制装置118，对从处理槽101排出的液体和向处理槽101供给的液体各自的流量进行控制。等离子体产生装置102在处理槽101的至少一部分区域的液体中产生等离子体。等离子体产生装置102具备第I电极103、第2电极104和电源105。该液体处理单元100使液体在处理槽101中滞留，同时通过等离子体产生装置102在处理槽101内的液体中产生等离子体，通过生成的原子团对滞留的液体进行处理。此外，在从处理槽101排出已处理的液体的一部分并同时向处理槽101供给新的液体的情况下，已处理的液体也由于处理槽101的形状而滞留。因此，能够使新供给的液体与已处理的液体混合。由此，能够有效利用已处理的液体中含有的残留时间长的原子团而对新供给的液体进行处理。
[0058]另外，“对从处理槽排出的液体和向处理槽供给的液体各自的流量进行控制”也包括:能够选择性地切换从处理槽排出液体的模式和不从处理槽排出液体的模式，并且能够选择性地切换向处理槽供给液体的模式和不向处理槽供给液体的模式。即，控制装置能够控制是否从处理槽排出液体、以及是否向处理槽供给液体即可。
[0059]另外，如图2所示，该液体处理单元100也可以还在处理槽101的流路的途中具有气液分离器116。此外，液体处理单元100也可以具备分配部106。分配部106设置在从处理槽101向液体排出口 108的途中，对从处理槽101向分配部106的流路中流通的液体中的、经由液体排出口 108排出的液体与向处理槽101回流的液体的分配比进行控制。此外，分配部106使已处理的液体的一部分回流到处理槽101。在该回流的液体中存在残留时间长的原子团，所以液体处理单元100能够通过该原子团对从液体供给口 107新供给的液体进行处理。
[0060]此外，液体处理单元100在具备分配部106的情况下，也可以在从处理槽101到分配部106的途中还具备使液体沿一定方向循环的泵117。液体处理单元100可以在液体供给口 107附近具备向处理槽101供给液体113的泵112。此外，液体处理单元100也可以具备对处理槽101内的液体的流量进行控制的控制装置118。
[0061]另外，“对经由液体排出口排出的液体与向处理槽回流的液体的分配比进行控制”也包括:选择性地切换不排出处理槽的液体的模式和从流入分配部的液体中以预先设定的分配比使一部分液体排出的模式。即，分配部能够使从处理槽流入的液体中的一部分回流到处理槽、并使剩余部分经由液体排出口排出即可。
[0062]以下说明构成该液体处理单元100的构成部件的一例。
[0063]<处理槽>
[0064]图3是表示处理槽101的构成的一例的截面图。处理槽101具有能够使液体滞留的形状。处理槽101具备向处理槽101供给液体的液体供给口 107和从处理槽101排出液体的液体排出口 108。在图3所示的例子中，设置于处理槽101的液体排出口 108的截面(图3中的A)比处理槽101的内部空间的截面(图3中的B)更小。通过该形状，图3所示的处理槽101在供给及/或排出液体时能够使一部分液体滞留在处理槽101内。在等离子体产生装置102产生气泡109的情况下，处理槽101的内部空间的截面(图3中的B)可以比气泡109的截面(图3中的C)更大。由此，在从处理槽101排出气泡109时，能够抑制液体被卷入而被排出。即，在排出液体时，能够使一部分液体滞留在处理槽101内。
[0065]另外，液体处理单元100在具备分配部106的情况下，也可以在从处理槽101向液体排出口 108的途中还具备使液体沿一定方向循环的泵117。使液体循环的方法不限于泵117ο此外，液体处理单元100可以在液体供给口 107附近具备向处理槽101供给液体113的泵112。处理槽101只要是不与液体反应的材料即可。处理槽101例如能够使用由玻璃、塑料、娃酮(silicone)或金属等素材构成的部件。
[0066]在本申请中，“处理槽的内部空间的截面”指的是与通过处理槽内的液体的流向垂直的截面。此外，“能够使一部分液体滞留在处理槽内的形状”例如指的是处理槽的内部空间的截面中的最大截面比液体排出口的截面大的形状。
[0067]<等离子体产生装置>
[0068]等离子体产生装置102在处理槽101的至少一部分区域的液体中产生等离子体。由此，在液体中生成残留时间长的原子团，对处理槽101中滞留的液体进行处理。此外，等离子体产生装置102可以在处理槽101的多个部位设置。等离子体产生装置102可以设置在处理槽101的邻近液体供给口 107的一侧或者邻近液体排出口 108的一侧。该等离子体产生装置102例如可以具备:第I电极103，至少一部分配置在处理槽101内；第2电极104，至少一部分配置在处理槽101内；以及电源105，向第I电极103与第2电极104之间施加电压。
[0069]〈第I电极〉
[0070]第I电极103的至少一部分配置在处理槽101内即可。第I电极103的配置只要是在处理槽101内即可，没有特别限制。第I电极103例如由铁、钨、铜、销、钼、或者含有从这些金属选出的I个或多个金属的合金等材料形成。此外，为了增长电极寿命，可以在第I电极103的表面的一部分喷镀被添加有导电性物质的氧化钇。被添加有导电性物质的氧化钇具有例如I?30 Dcm的电阻率。第I电极103的形状例如可以是面向处理槽101的一端开口的筒状(例如圆筒状)。但是，第I电极103不限于该形状。
[0071]<第2电极>
[0072]第2电极104的至少一部分配置在处理槽101内即可。第2电极104的配置只要是在处理槽101内即可，没有特别限制。第2电极104由导电性的金属材料形成即可。第2电极104例如与第I电极103同样，由铁、钨、铜、铝、铂、或者含有从这些金属选出的I个或多个金属的合金等材料形成。
[0073]< 电源 >
[0074]电源105配置在第I电极103与第2电极104之间。电源105向第I电极103与第2电极104之间施加高频的交流电压。交流电压的频率例如为IkHz以上即可。此外，电源105可以交替地施加正的脉冲电压和负的脉冲电压、即所谓的双极脉冲电压。通过使用双极脉冲电压，能够延长电极的寿命。
[0075]<气液分离器>
[0076]如图2所示，该液体处理单元100可以在从处理槽101向分配部106的流路的途中具有气液分离器116。该气液分离器116从流路中的由液体及气体构成的混合体提取气体并向外部放出。由此，能够使回流到处理槽101的液体的实质流量增加。
[0077]<控制装置>
[0078]该液体处理单元可以具备对从处理槽101排出的液体和向处理槽101供给的液体各自的流量进行控制的控制装置118。图4表示包括该控制装置118所执行的步骤的流程图的一例。另外，以下所示的第I步骤(SI)?第3步骤(S3)表示一系列(连续的)液体处理步骤。
[0079]在第I步骤(SI)中，经由液体供给口 107向处理槽101供给液体。但是，在处理槽101内已经存在一定量以上的液体的情况下，该第I步骤可以省略。
[0080]在第I步骤之后、或者在处理槽101内存在一定量以上的液体的状态下执行的第2步骤(S2)中，使液体经由液体供给口 107向处理槽101的供给和液体经由液体排出口 108从处理槽101的排出停止。例如，在第I步骤中供给的液体在处理槽101内滞留规定时间。执行第2步骤的时间根据生成的原子团的残留时间的长度、处理槽的容积、液体中的菌及/或有机化合物的种类及量、以及在之后的第3步骤中供给的液体的流量等适应性地设定。
[0081]在第2步骤之后，在第3步骤(S3)中，经由液体供给口 107向处理槽101供给液体，并同时经由液体排出口 108从处理槽101将处理槽101内滞留的液体的一部分排出。这时，开始供给液体的时机与开始排出液体的时机可以不完全一致。此外，供给或排出的液体的流量和执行第3步骤的时间，根据生成的原子团的残留时间的长度、处理槽的容积、液体中的菌及/或有机化合物的种类及量等适应性地设定。
[0082]这种情况下，在第2步骤中，等离子体产生装置102在处理槽101内的液体中产生等离子体，从而生成原子团并对液体进行处理。
[0083]另外，可以在第3步骤中排出了规定量的液体后，再次执行第2步骤及之后的第3步骤。此外，也可以反复执行第2步骤及第3步骤。
[0084]另外，在本申请中提到“重新开始向处理槽供给液体”的情况下，重新开始后向处理槽供给的液体可以是与之前向处理槽供给的液体同种的液体，也可以是不同的液体。例如，在第I步骤中向处理槽供给的液体可以是纯水或自来水，在第3步骤中向处理槽供给的液体可以是含有菌及/或有机物的污染水。
[0085]等离子体产生装置102可以不仅在第2步骤中，而且在第I步骤及/或第3步骤中在处理槽101内的液体中产生等离子体。例如，不仅在第2步骤中，而且在第3步骤中也在处理槽101内的液体中产生等离子体，由此在第3步骤中新供给的液体也能够与由第3步骤中产生的等离子体新生成的原子团接触。由此，提高了除菌率。
[0086]此外，该控制装置在第3步骤中也可以排出处理槽101的容积以上的液体。在将处理槽101的容积以上的液体排出的情况下，在排出的液体中肯定含有在该第3步骤中新供给的液体。在由等离子体生成的原子团的残留时间长的情况下，在第3步骤中新供给的液体能够与原子团更多地接触，所以能够在充分除菌的状态下将液体排出。
[0087]此外，该控制装置118也可以使通过执行第I步骤或第3步骤而供给的液体的至少一部分经由分配部106回流到处理槽101内。
[0088]该控制装置118在第I步骤中向处理槽101供给液体，在第2步骤中在使该液体滞留于处理槽101内的状态下进行等离子体