高分子界面聚合材料及低压纳滤膜及低压纳滤膜制备方法、应用与流程

技术特征：

1.高分子界面聚合材料，其特征在于：包括结构为如通式(Ⅰ)所示的聚合物或其所有可能的异构体：

其中：R₁选自基团；

R₂选自基团；

R₃选自基团；

所述R₁，所述R₂，所述R₃中至少有一个基团为

2.一种低压纳滤膜，其特征在于：在基膜上修饰了如权利要求1所述的高分子界面聚合材料。

3.一种低压纳滤膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

将单宁酸溶于水相溶剂中，并将pH值控制在6-11，得到界面聚合反应水相溶液；

取聚砜基膜，单面接触所述水相溶液0.5-10min，得到吸附有单宁酸的聚砜基膜吸附面；

清除多余水相溶液；

将芳香族多元酰氯溶于油相溶剂中，得到界面聚合反应油相溶液；

将所述聚砜基膜吸附面接触所述油相溶液反应0.5-2min；

干燥后即可得到低压纳滤膜产品。

4.如权利要求3所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述水相溶剂为樟脑磺酸和三乙胺的水溶液，或水。

5.如权利要求4所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述樟脑磺酸按重量百分比计，含量为1％-4％；所述三乙胺按重量百分比计，含量为0-2％，不包括0％。

6.如权利要求3所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述水相溶液中，单宁酸以重量百分比计，含量为0.1-1％；

7.如权利要求3所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述油相溶剂为正庚烷、正己烷或异构烷烃系列溶剂。

8.如权利要求3所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述油相溶液中，所述芳香族多元酰氯以重量百分比计，含量为0.1-0.6％。

9.如权利要求8所述的低压纳滤膜制备方法，其特征在于：所述芳香族多元酰氯为均苯三甲酰氯或均苯三甲酰氯与间苯二甲酰氯、对苯二甲酰氯中任一种的混合物。

10.一种低压纳滤膜元件，其特征在于：采用了如权利要求2所述低压纳滤膜。