技术总结
本发明涉及制备金属锂带的方法，具体涉及一种连续电沉积制备锂带的方法。本发明解决的技术问题是提供一种连续电沉积制备锂带的方法。该方法包括依次进行的如下步骤：a、前处理：对金属基带进行活化处理；b、电沉积锂：采用恒流电沉积锂，先控制电流密度为5～50mA/cm2，沉积0.5～10s；再调整电流密度为0.02～1mA/cm2，沉积时间为1～10h；c、后处理：将电沉积后的金属带进行钝化，得到金属锂带。该金属锂带各处厚度均匀致密，通过调节电流密度与浸入镀液时间来调控锂镀层的厚度，易于制得各类厚度的锂带，尤其可制得厚度低于30μm的超薄锂带。本发明方法简单，成本低廉，可使金属锂带的生产大规模化。
技术研发人员：曹乃珍;徐川;刘强;高洁;邹崴;何霞
受保护的技术使用者：天齐锂业股份有限公司
文档号码：201611176573
技术研发日：2016.12.19
技术公布日：2017.05.24