所示放大结构示意图。
[0029]图4是本发明第二实施例挂镀生产工艺的流程示意图。
[0030]图5是本发明第二实施例挂镀生产工艺的待电镀产品在处理前翻转区高度变化的轨迹示意图。
[0031]图6是本发明第二实施例挂镀生产工艺的待电镀产品在处理后翻转区高度变化的轨迹示意图。
【【具体实施方式】】
[0032]为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0033]请参见图1，本发明第一实施例提供了一种挂镀生产线10，该挂镀生产线10包括传送带110及依次连接的上挂前处理区20、处理前翻转区30、处理反应区40、处理后翻转区50及下挂后处理区60。该传送带110依次连续通过上挂前处理区20、翻转前处理区30、处理反应区40、翻转后处理区50及下挂后处理区60后，又回到上挂前处理区20，进行周而复始的循环运转，使所述挂镀生产线10形成连续生产的闭合结构。
[0034]本发明提供的挂镀生产线10还可以具有多种变形结构，如该挂镀生产线10中的钢带101可以为封闭的呈U形的双线折叠结构，也可以是封闭的双直线形或其他形式的双线循环结构。
[0035]所述上挂前处理区20与所述处理反应区40之间通过设置所述处理前翻转区30进行分区，所述处理反应区40与所述下挂后处理区60之间通过设置所述处理后翻转区50进行分区，其中，所述上挂前处理区20与所述处理反应区40，及所述处理反应区40与所述下挂后处理区60之间均独立运行。
[0036]所述上挂前处理区20包括依次连接的上挂段21、除油段22、活化段23及预镀段24。其中，所述传送带110在所述上挂段21进行待电镀产品111的装载操作，所述除油段23用于对装载在所述传送带110上的待电镀产品111进行除油处理。所述活化段23用于对所述待电镀产品111进行活化处理，即去除待电镀产品111表面的氧化膜，使其表面活化，从而保证镀层与待电镀产品之间有足够的附着力。
[0037]所述预镀段24可为镀冲击镍段，所述预镀段24用于改善镀层与待电镀产品111的基体的结合力，所述预镀段24可以使镀沙丁镍层工序中，沙丁镍层可以更加牢固地附着在所述待电镀产品111上。所述预镀段24包括至少一镀冲击镍/铜段、至少一预镀导电段及至少一水洗段，所述镀冲击镍/铜段包括第一镀冲击镍/铜段、第二镀冲击镍/铜段及第三镀冲击镍/铜段，所述预镀导电段包括第一预镀导电段、第二预镀导电段及第三预镀导电段，其中，第一至第三镀冲击镍/铜段及第一至第三预镀导电段按顺序依次交错设置，上述第一至第三镀冲击镍/铜段及第一至第三预镀导电段在图中均为示出。
[0038]请参阅图2，所述挂镀生产线10包括一槽体37、所述槽体37进一步包括一第一端板33、一第二端板53、一第一过渡隔板32及一第二过渡隔板52。所述第一过渡隔板32与第二过渡隔板52设置在所述第一端板33与第二端板53之间。其中，所述第一端板33与第二过渡隔板52设置在所述处理前翻转区30中，所述第二端板53与第二过渡隔板33设置在所述处理后翻转区50。在所述第一过渡隔板32及第二过渡隔板52之间还设有至少一第三过渡隔板42。
[0039]所述第一端板33与所述第二端板53上分别设有一第一凹型槽口 331与第二凹型槽口 531，该第一凹型槽口 331与该第二凹型槽口 531的宽度为5-lOcm，所述第一凹型槽口331的最低处为所述第一凹型槽口底部332，第二凹型槽口 531的最低处为所述第二凹型槽口底部532。所述第一凹型槽口底部332与所述槽体37底部之间的高度差优选为25-45cm，更优选为30-40cm，还可优选为32-36cm。第二凹型槽口底部532与所述槽体37底部之间的高度优选为20-40cm，更优选为25-35cm，还可优选为28_33cm。
[0040]此外，在所述第一凹型槽口 331与第二凹型槽口 321上还分别设有一第一导轮333、一第二导轮533，所述第一导轮333、第二导轮533分别与第一凹型槽口 331、第二凹型槽口 531的其中一侧壁贴合设置。
[0041]所述第一过渡隔板32、第二过渡隔板52及第三过渡隔板42上分别设有第一过渡槽口 321、第二过渡槽口 521及导向槽口 421，其中所述第一过渡槽口 321、第二过渡槽口521及导向槽口 421的最低处分别定义为所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522及第二过渡槽口底部422。所述第一过渡槽口 321、第二过渡槽口 521及导向槽口 421上还分别设有第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423，所述第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423分别与所述第一过渡槽口 321、第二过渡槽口 521及导向槽口 421的其中一边贴合设置。所述第一过渡槽口 321、第二过渡槽口 521及导向槽口 421上均设有一倾斜边(未标号)，所述第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423均分别设置在所对应槽口的倾斜边上，所述倾斜边与垂直方向上的夹角为60° -85°。所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522与所述槽体37底部的高度差大于第一凹型槽口底部332、第二凹型槽口底部532与所述槽体37底部的高度差。所述导向槽口底部422与所述槽体37底部的高度差小于所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522与所述槽体37底部的高度差。所述第一凹型槽口 331、第一过渡槽口 321、导向槽口 421、第二过渡槽口 521及第二凹型槽口 531的沿着同一轴向设置。所述传送带110连续依次穿过所述第一凹型槽口 331、第一过渡槽口 321、导向槽口 421、第二过渡槽口521及第二凹型槽口 531。
[0042]第一端板33与所述第一过渡隔板32之间的空间界定为第一腔体31，所述第二过渡隔板52与所述第二端板53之间的空间界定为第二腔体51。即所述第一腔体31设置在所述处理前翻转区30中，所述第二腔体51设置在所述处理后翻转区40中。所述第一过渡隔板32与所述第二过渡隔板52之间的空间界定为第三腔体41，所述第三腔体41部分设置在所述处理反应区40中。所述第三过渡隔板42设置在所述第三腔体41内。所述传送带110垂直穿过第三腔体41。
[0043]请参阅图3A-3C，所述第一腔体31与第三腔体41之间由所述第一过渡隔板32分隔开，所述第一腔体31及所述第三腔体41内液体的液位高度均低于所述第一过渡隔板32的第一过渡槽口底部322的高度。
[0044]所述第三腔体41与第二腔体51之间由所述第二过渡隔板52分隔开，所述第二腔体41及所述第二腔体51内液体的液位高度均低于所述第二过渡隔板52的第二过渡槽口底部522的高度。
[0045]所述装载有待电镀产品111的传送带110穿过所述第一端板33的第一导轮333及第一过渡隔板32的第一过渡导轮323并由驱动装置(图未示)驱动带动，使待电镀产品111连续穿过所述第一端板33上第一导轮333导向并进入所述第一腔体31中后，所述待电镀产品111由相对于所述槽体37底部垂直90度设置，逐渐翻转倾斜，使所述待电镀产品111的最低位逐渐翻转提高，并使其通过所述第一过渡隔板32后，进入所述第三腔体41中进行镀沙丁镍的反应。
[0046]如图3B中所示，所述传送带110进一步包括一挂具112及钢带113，其中，所述挂具112与所述钢带113卡合连接，所述待电镀产品111装载在所述挂具112上。
[0047]待电镀产品111处于所述第一端板33时的最低处低于当待电镀产品111处于第一过渡隔板32时的最低处，两者之间的高度差为hl，而所述第一端板33上的第一凹型槽口底部332低于当所述第一过渡隔板32上的第一过渡槽口底部322，两者之间的高度差为h2，其中hi大于或等于h2。
[0048]在本发明及其它实施例中，所述第一凹型槽口底部332的高度与第一腔体31内液体的高度之间的关系不受限制。
[0049]所述装载有待电镀产品111的传送带110通过所述第一过渡隔板32进入所述第三腔体41中后，再通过所述第三过渡隔