基于InSAR技术的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法与流程

技术特征：

1.基于InSAR技术的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于包括如下步骤：

S1、分别在两个高度条件下对目标进行直线扫描，获取目标的两个二维像；

S2、根据两次直线扫描的高度差Δh和两个二维像的相位差Δφ，确定目标的每个散射源的高度；

S3、基于目标的每个散射源的高度，在高度向对目标进行滤波，将滤波后的散射源进行重构得到杂波抑制后的目标RCS；

其中，Δφ小于360°。

2.如权利要求1所述的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于，两次直线扫描的高度差Δh满足如下关系：

式中，Δh为两次直线扫描的高度差，λ为入射电磁波波长，R₀为扫描天线沿其指向方向距离目标的距离，D_h为目标在高度方向的最大尺寸，单位为m。

3.如权利要求1所述的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于，步骤S2之前进一步包括：按照如下方法确定两次直线扫描的高度和两个二维像的相位与散射源的高度之间的关系：

根据扫描天线的位置以及目标的空间分布，分别确定两次直线扫描的高度与散射源的高度之间的关系：

分别确定两个二维像的相位与散射源的高度之间的关系：

两个二维像的相位与散射源的高度之间的关系：

式中，h₁、h₂分别为两次直线扫描的高度，φ₁、φ₂分别为两个二维像的相位，r₁、r₂分别为两次直线扫描时天线与散射源的距离，(x₀，y₀，z₀)为散射源的坐标，λ为入射电磁波波长，(p，-R₀，h₁)为高度h₁条件下天线在扫描坐标系的坐标，(p，-R₀，h₂)为高度h₂条件下天线在扫描坐标系的坐标，单位为m；扫描坐标系以目标所在位置为坐标原点，以扫描移动方向X轴、以天线指向为Y轴、以目标的高度方向为Z轴。

4.如权利要求3所述的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于，扫描天线沿其指向方向到目标的距离R₀不小于目标最大几何尺寸的10倍。

5.如权利要求4所述的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于，将公式2和公式3分别转化为：

步骤S2中按照如下关系确定散射源的高度：

$z_0=\frac{{\mathrm{\Δ\φ\λR}}_0}{4\mathrm{\π}\mathrm{\Δ}h}$

式中，Δh为两次直线扫描的高度差，Δφ为散射源在两个二维像的相位差，单位为m；Δh＝h₁-h₂、Δφ＝φ₁-φ₂，或者Δh＝h₂-h₁、Δφ＝φ₂-φ₁。

6.如权利要求1所述的直线扫描近场RCS测试杂波抑制方法，其特征在于，步骤S3包括：

将散射源高度与目标实际高度之间的差值不大于预设阈值的散射源标记为有效散射源、散射源高度与目标实际高度之间的差值大于预设阈值的散射源标记为杂波；

滤除所述杂波，并以所述有效散射源进行重构得到杂波抑制后的目标RCS。