制作纳米级导电薄膜的方法及其触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及导电薄膜领域，特别涉及一种制作纳米级导电薄膜的方法与具有该纳米级导电薄膜的触控显示装置。
【背景技术】
[0002]触控面板(touch panel)或触控屏幕(touch screen)逐渐普遍应用于电子装置中，特别是可携式或手持式电子装置，例如个人数字助理(PDA)或行动电话。在许多触控面板中，氧化铟锡(indium tin oxide ；ΙΤ0)仍为主要的透明导电材料。无论是因为ITO导电薄膜有缺点(例如质脆、不可挠性)或是想降低成本，寻求ITO导电薄膜的替代材料一直是触控产业重要的发展项目之一。纳米级导电薄膜，例如纳米银(silver nanowire ;SNW)透明导电薄膜，因具备优异的导电性与光学穿透率且深具成本上的优势，遂成为取代ITO导电薄膜的选项之一。
[0003]在某些现有的制造方法中，是使用湿蚀刻来界定纳米银透明导电薄膜的电气特性。纳米银透明导电薄膜具有一保护层，用以固定纳米银涂层于基板上，并且保护纳米银涂层使其不易于与空气中的环境分子发生氧化或硫化。然而也因保护层的原因，使蚀刻液与纳米银接触的可能明显降低，从而造成蚀刻不均、蚀刻困难及蚀刻前后雾度变化过大等情形。另外，蚀刻制造方法后，因蚀刻液有残留于材料之中的可能，会造成后续纳米银透明导电薄膜的电性持续性的损耗。
[0004]此外，在某些现有的制造方法中是以干蚀刻来界定纳米银透明导电薄膜的电气特性，例如在真空条件下以粒子撞击来蚀刻纳米银透明导电薄膜。然而这些干蚀刻制造方法无法有效保留保护层，使纳米银透明导电薄膜的电气特性蒙受较大的风险。
[0005]经上述说明可知，如何有效改变纳米级导电薄膜的电气特性，并同时维持其光学穿透率或雾度等光学特性，是本领域技术人员所需探讨的课题。
【发明内容】
[0006]有鉴于此，本发明的目的在于提出一种制作纳米级导电薄膜的方法，能达到有效的蚀刻效果以界定出纳米级导电薄膜的电气特性，并且有效降低保护层的损耗而维持纳米级导电薄膜的光学特性。
[0007]本发明的另一目的在于提供另一种制作纳米级导电薄膜的方法。
[0008]本发明的又一目的在于提供一种触控显示装置。
[0009]为达到上述的发明目的，本发明所采用的技术方案为提供一种制作纳米级导电薄膜的方法，包括:提供一纳米基材，该纳米基材具有一基板、位于该基板的一侧的一第一保护层以及叠层于该基板与该第一保护层之间的一第一纳米材料层；形成一第一图案化绝缘层于该第一保护层上，该第一图案化绝缘层暴露出部分该第一保护层，该第一纳米材料层划分为由该第一图案化绝缘层所遮罩的多个第一区域以及未由该第一图案化绝缘层所遮罩的多个第二区域；以及在一电流产生系统中以该第一图案化绝缘层为罩幕蚀刻该纳米基材，使该第一纳米材料层中所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离。
[0010]本发明的实施例中，该第一纳米材料层中所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0011]本发明的实施例中，其中蚀刻具有该第一图案化绝缘层的纳米基材包括通入空气、氮气或其组合以作为反应气体。
[0012]本发明的实施例中，该电流产生系统包括一介电质放电电流产生系统与一电弧喷射式电流产生系统两者之一。
[0013]本发明的实施例中，该第一纳米材料层包括纳米银线。
[0014]本发明的实施例中，该第一图案化绝缘层包括光学特性与该第一纳米材料层相匹配的材料。
[0015]本发明的实施例中，该纳米基材还具有位于该基板的另一侧的一第二保护层以及叠层于该基板与该第二保护层之间的一第二纳米材料层，该方法还包括:形成一第二图案化绝缘层于该第二保护层上，该第二图案化绝缘层暴露出部分该第二保护层，该第二纳米材料层划分为由该第二图案化绝缘层所遮罩的多个第一区域以及未由该第二图案化绝缘层所遮罩的多个第二区域；以及在一电流产生系统中蚀刻具有该第二图案化绝缘层的纳米基材，使该第二纳米材料层中所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离。
[0016]本发明的实施例中，该第二纳米材料层中所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0017]为达上述目的，本发明的实施例还提供一种制作纳米级导电薄膜的方法，包括:提供一纳米基材，该纳米基材具有一基板、位于该基板的一侧的一第一保护层以及叠层于该基板与该第一保护层之间的一第一纳米材料层，该第一纳米材料层划分为多个第一区域以及多个第二区域；以及在一电弧喷射式电流产生系统中，蚀刻该纳米基材中该第一纳米材料层的所述第二区域，使该第一纳米材料层中所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离。
[0018]本发明的实施例中，该第一纳米材料层中所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0019]本发明的实施例中，其中蚀刻该纳米基材包括通入空气、氮气或其组合以作为反应气体。
[0020]本发明的实施例中，该第一纳米材料层包括纳米银线。
[0021]本发明的实施例中，该第一图案化绝缘层包括光学特性与该第一纳米材料层相匹配的材料。
[0022]本发明的实施例中，该纳米基材还具有位于该基板的另一侧的一第二保护层以及叠层于该基板与该第二保护层之间的一第二纳米材料层，该第二纳米材料层划分为多个第一区域以及多个第二区域，该方法还包括:在一喷射式电流产生系统中，依据该第二纳米材料层的所述第二区域蚀刻该纳米基材，使该第二纳米材料层中所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离。
[0023]本发明的实施例中，该第二纳米材料层中所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0024]为达上述目的，本发明的实施例还提供一种触控显示装置，包括:一透明基板，具有一第一表面以及一第二表面，该第一表面与该第二表面位于该透明基板的相反侧；一显示模块，位于该透明基板的第一表面侧；以及一第一感测电极层，位于该透明基板与该显示模块之间，该第一感测电极层包括一第一纳米材料层，该第一纳米材料层具有多个第一区域与多个第二区域，所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离，且所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0025]本发明的实施例中，该第一感测电极层设置于该透明基板的第一表面上，且所述第一区域包括间隔排列的第一感测电极与第二感测电极。
[0026]本发明的实施例中，还包括一第一承载板，用以承载该第一感测电极层于该透明基板与该显示模块之间，且所述第一区域包括间隔排列的第一感测电极与第二感测电极。
[0027]在本发明的实施例中，还包括一第一承载板与一第二感测电极层，该第一承载板位于该透明基板与该显TJK模块之间，其中该第一感测电极层设置于该第一承载板的一第一表面上，该第二感测电极层设置于该第一承载板的一第二表面上，该第一表面与该第二表面位于该第一承载板的相反侧。
[0028]在本发明的实施例中，该第二感测电极层包括一第二纳米材料层，该第二纳米材料层具有多个第一区域与多个第二区域，所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离，且该第二纳米材料层的所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0029]在本发明的实施例中，该第一感测电极层的所述第一区域包括沿一第一方向排列的第一感测电极，而该第二感测电极层的所述第一区域包括沿一第二方向排列的第二感测电极。
[0030]在本发明的实施例中，还包括一第一承载板与一第二感测电极层，该第一承载板位于该透明基板与该显示模块之间，其中该第一感测电极层设置于该透明基板的第一表面上，该第二感测电极层位于该第一感测电极层与该第一承载板之间且设置于该第一承载板上。
[0031]在本发明的实施例中，该第二感测电极层包括一第二纳米材料层，该第二纳米材料层具有多个第一区域与多个第二区域，所述第一区域之间以所述第二区域电性隔离，且该第二纳米材料层的所述第一区域与所述第二区域间的雾度值之差不大于0.1%。
[0032]在本发明的实施例中，该第一感测电极层的所述第一区域包括沿一第一方向排列的第一感测电极，而该第二感测电极层的所述第一区域包括沿一第二方向排列的第二感测电极。
[0033]本发明的有益效果在于:本发明能达到有效的蚀刻效果以界定出纳米级导电薄膜的电气特性，并且有效降低保护层的损耗而维持纳米级导电薄膜的光学特性。另外，本发明的纳米级导电薄膜的制作方法与某些现有的制造方法相比较，可大幅缩短制造方法时间。另外，依本发明的制作方法所制备的纳米级导电薄膜因蚀刻处理前后光学表现无明显改变，具有较高的潜力将线路隐藏而提升光学品味。
[0034]本发明的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本发明所属技术领域技术人员应了解，在不背离所附的权利要求书所列的权利范围所界定的本发明精神和范围内，本发明的教示及揭示可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多元件可以不同的结构实施或以其它相