技术特征：
1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：反应容器，其具有配置基板的第一区域和不配置基板的第二区域；加热器，其对上述第一区域进行加热；气体供给机构，其供给多种气体，该多种气体包括对上述反应容器内进行清洁的清洁气体；以及控制部，其控制上述气体供给机构或上述加热器和冷却机构，以便通过上述气体供给机构供给不同的两种清洁气体、上述气体供给机构从不同的两部位供给清洁气体、以及上述加热器使温度在上述第一区域和上述第二区域不同中的至少一个，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述反应容器具备筒状的反应管，上述反应管具有能够穿过上述第二区域在上述第一区域存取上述基板的开口，上述第一区域和上述第二区域进行流体连通，在上述基板配置于上述第一区域的期间，在上述第二区域配置隔热结构体。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备冷却上述反应容器的开口侧的冷却机构。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体供给机构具有：从上述第一区域供给第一清洁气体的第一喷嘴；以及从上述第二区域供给第二清洁气体的第二喷嘴。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一喷嘴供给含氟气体与包含氧及氮的气体的混合气体作为上述第一清洁气体，上述第二喷嘴供给氟化氢气体作为上述第二清洁气体。6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一区域的温度为200℃以上且400℃以下，上述第二区域的温度为5℃以上且75℃以下。7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述控制部控制上述气体供给机构或上述加热器和冷却机构，以便通过上述气体供给机构供给不同的两种清洁气体、上述气体供给机构从不同的两部位供给清洁气体、以及上述加热器使温度在上述第一区域和上述第二区域不同中的至少两个，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。8.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体供给机构具有：从上述反应容器的中心侧且配置基板的区域的附近供给第一清洁气体的第一喷嘴；以及从上述开口的附近供给第二清洁气体的第二喷嘴，在同时进行上述清洁时，上述冷却机构在上述反应容器的中心侧的温度为200℃以上且400℃以下的状态下将上述反应容器的上述开口侧的整周冷却至5℃以上且75℃以下。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述控制部控制上述气体供给机构或上述加热器和冷却机构，以便通过上述气体供给机构从不同的两部位供给不同的两种清洁气体，且上述加热器使温度在上述第一区域和上述第二区域不同，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。
10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一清洁气体包括f2气体。11.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一清洁气体包括一氧化氮。12.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，上述第二清洁气体包括氟化氢。13.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述反应容器具备：耐热耐腐蚀材料制的反应管；以及入口凸缘，其将上述反应管的开口连接于上述反应容器的开口，并且具有将上述清洁气体导入上述反应容器内的端口。14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一喷嘴沿上述反应管的内表面与管轴平行地配置，且沿与管轴垂直的方向吐出含氟气体与包含氧和氮的气体的混合气体作为第一清洁气体，上述第二喷嘴沿上述入口凸缘的周向吐出氟化氢作为第二清洁气体。15.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，上述冷却机构以与上述反应容器的上述开口的实质上整周接触的方式设置，并通过在内部流通冷却介质来冷却上述反应容器的上述开口侧，在对基板进行处理时，上述入口凸缘的内表面维持为200℃以上。16.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述控制部按照将向上述第一区域供给的第一清洁气体和向上述第二区域供给的第二清洁气体以1：4以上的流量比同时供给、以4以上：1的流量比同时供给、以及将上述第一清洁气体及上述第二清洁气体交替供给中的任一方法，供给上述第一清洁气体及上述第二清洁气体。17.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，使用了基板处理装置，且具有如下工序：在具有配置基板的第一区域和不配置基板的第二区域的反应容器内的上述第一区域处理基板；以及在上述第一区域不配置基板的状态下，通过向上述反应容器内供给不同的两种清洁气体、从不同的两部位供给清洁气体、以及利用加热器加热上述第一区域而使温度在上述第一区域和上述第二区域不同中的至少一个，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。18.一种基板处理装置的清洗方法，其特征在于，在具有配置基板的第一区域和不配置基板的第二区域的反应容器内的上述第一区域不配置基板的状态下，通过向上述反应容器内供给不同的两种清洁气体、从不同的两部位供给清洁气体、以及利用加热器加热上述第一区域并利用冷却机构冷却上述第二区域而使温度在上述第一区域和上述第二区域不同中的至少一个，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。19.一种计算机能够读取的存储介质，其特征在于，存储使基板处理装置具有的计算机执行以下步骤的程序：在具有配置基板的第一区域和不配置基板的第二区域的反应容器内的上述第一区域处理基板；
在上述第一区域不配置基板的状态下，通过向上述反应容器内供给不同的两种清洁气体、从不同的两部位供给清洁气体、以及利用加热器加热上述第一区域而使温度在上述第一区域和上述第二区域不同中的至少一个，以不同的条件对上述第一区域和上述第二区域进行清洁。