面板装置及其检测方法

文档序号:8262385阅读:370来源:国知局
面板装置及其检测方法
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种面板装置及其检测方法,且特别是有关于一种由两个基板组立而成的面板装置及其检测方法。
【背景技术】
[0002]随着信息技术与半导体制程能力的发展,市面上的各类产品在反应速率、处理效能、显示品质等条件上都不断提升使得制作合格率与制作误差受到相当严谨的要求。以显示面板来说,显示面板通常是由两个或是两个以上的基板组立而成,其供这基板上面制作有不同的构件。将两个或多个基板组立在一起的过程中,若对位上的误差过大,将使最终产品无法满足市场的需求。因此,在组立多个基板时,需要有适当的方法与手段来检测对位偏移是否超过可容忍的限度。另外,在基板上制作不同元件时,不同元件的制作过程不一定同步,因此也可能产生对位上的误差,这类误差也往往需要被要求在一定的程度之内以符合市场的需求。

【发明内容】

[0003]本发明提供一种面板装置,提供量测结构以供正确检测出对位偏移的程度。
[0004]本发明提供一种面板装置的检测方法,可以确实检测出对位偏移是否超出容许范围。
[0005]本发明的面板装置包括一第一基板、一第二基板、一第一量测结构以及一第二量测结构。第二基板与第一基板以面对面方式组立。第一量测结构配置于第一基板与第二基板其中一者上,并具有N个量测开口,其中N为正整数。第二量测结构配置于第一基板与第二基板其中一者上,并具有N个量测图案。各量测图案的面积对应地遮蔽住其中一个量测开口。在一选定量测方向上各量测图案的宽度不小于对应的其中一个量测开口的宽度,其中第一量测结构与第二量测结构由不同膜层构成。
[0006]在本发明的一实施例中,上述第i个量测图案的宽度为Xi,第i个量测开口的宽度Yi,X1-Yi =Wi彡O。第j个量测图案的宽度为Xj,第j个量测开口的宽度Yj,Xj-Yj =Wj ^ Oo i与j各自为I?N,i不等于j,且Wi不等于Wj。
[0007]在本发明的一实施例中,上述N个量测图案的宽度不一致。
[0008]在本发明的一实施例中,上述N个量测开口的宽度不一致。
[0009]在本发明的一实施例中,各量测图案与对应的其中一个量测开口具有相同形状却不同尺寸的轮廓。
[0010]在本发明的一实施例中,上述轮廓为多边形,且多边形的至少一边落在对应的量测图案的面积内。
[0011 ] 在本发明的一实施例中,至少一个量测开口未被对应的量测图案完全遮蔽而形成一间隙。
[0012]在本发明的一实施例中,第一量测结构与第二量测结构分别位于第一基板与第二基板上。
[0013]在本发明的一实施例中,各量测图案的宽度大于对应的其中一个量测开口的宽度而与第一量测结构重叠以形成一重叠面积。各量测图案具有一标记。不同量测图案构成的重叠面积彼此不同而且不同量测图案的标记彼此不同。
[0014]本发明的一种面板装置的检测方法,包括判断上述面板中置中是否有量测开口未被对应的量测图案的面积完全遮蔽而形成一间隙,若是,则表示面板装置存在一制程对位偏移。
[0015]在本发明的一实施例中,第i个量测图案的宽度为Xi,第i个量测开口的宽度Yi,X1-Yi = Wi彡0,而第j个量测图案的宽度为Xj,第j个量测开口的宽度Yj,Xj-Yj =Wj彡0,i与j各自为I?N,j不等于i,且Wj不等于Wi。第i个量测开口未被第i个量测图案填满,第j个量测开口被第j个量测图案填满,则第一基板与第二基板在选定量测方向上的制程对位偏移为(Wi)/2至(Wj)/2。
[0016]在本发明的一实施例中,各量测图案的宽度大于对应的其中一个量测开口的宽度而与第一量测结构重叠以形成一重叠面积,而且不同量测图案构成的该些重叠面积彼此。不同面板装置的各量测图案具有一标记,不同量测图案的标记彼此不同。面板装置的该检测方法包括依据间隙所对应的量测图案上的标记来判断制程对位偏移的程度。
[0017]基于上述,本发明实施例的面板装置中具有由不同膜层构成的第一量测结构与第二量测结构,其中第一量测结构的量测开口分别对应于第二量结构的量测图案且各量测图案的尺寸不小于对应的量测开口的尺寸。如此一来,第一量测结构与第二量测结构可以用来准确的判断面板装置是否存在制程对位偏移。
[0018]以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。
【附图说明】
[0019]图1A为本发明一实施例的面板装置的局部上视示意图。
[0020]图1B为图1A的面板装置沿剖线1-1的剖面示意图。
[0021]图1C与图1D表示在组立过程中发生制程误差的面板装置的示意图。
[0022]图2A为本发明一实施例的面板装置的其中一组检测对的上视示意图。
[0023]图2B为图2A的剖线I1-1I的剖面示意图。
[0024]图3A为图2A的面板装置存在对位偏移时其中一组检测对的上视示意图。
[0025]图3B为图3A的剖线II1-1II的剖面示意图。
[0026]图4A为图2A的面板装置存在对位偏移时其中一组检测对的上视示意图。
[0027]图4B为图4A的剖线IV-1V的剖面示意图。
[0028]图5A为本发明另一实施例的面板装置的局部上视示意图。
[0029]图5B为图5A的剖线V-V的剖面示意图。
[0030]图5C为在制作过程中发生制程误差的面板装置的示意图。
[0031]图为图5C的剖线V-V的剖面示意图。
[0032]图6A为本发明一实施例的面板装置的局部上视示意图。
[0033]图6B为图6A的面板装置沿剖线V1-VI的剖面示意图。
[0034]图7A为本发明一实施例的面板装置中第一量测结构与第二量测结构的上视示意图。
[0035]图7B为图7A中区域E内的量测图案542的局部放大示意图。
[0036]图8A为一实施例的面板装置的第一基板的上视示意图。
[0037]图SB为一实施例的面板装置的第二基板的上视示意图。
[0038]图8C为图8A与图8B的两个基板组立成面板装置之后,沿剖线VI1-VII的剖面示意图。
[0039]图8D为图8A与图8B的两个基板组立之后,沿剖线VII1-VIII的剖面示意图。
[0040]其中,附图标记
[0041]100、100’、200、300、300’、400、800:面板装置
[0042]110、210、310、410:第一基板
[0043]120、220、320、420:第二基板
[0044]130、230、330、430、530:第一量测结构
[0045]132、1321、132j、232、332、3321、332j、432、4321、432j、532:量测开口
[0046]140、240、340、440、540:第二量测结构
[0047]142、1421、142j、242、242A、342、3421、342j、442、4421、442j、542:量测图案
[0048]542A:标记
[0049]810:第一功能层
[0050]812:遮光矩阵
[0051]820:第二功能层
[0052]822:信号屏蔽线
[0053]824、G、G1、G2:间隙
[0054]A:重叠面积
[0055]A1、Aj:重叠宽度
[0056]Dl:方向
[0057]DL:信号线
[0058]E:区域
[0059]F1、F2、R:距离
[0060]1-1、11-11、II1-1I1、IV-1V、V-V、V1-V1、VI1-VI1、VII1-VII1:剖线
[0061]PE:画素电极
[0062]S1:第一侧
[0063]S2:第二侧
[0064]X1、Xj、Y1、Yj:宽度
【具体实施方式】
[0065]下面结合附图和具体实施例对本发明技术方案进行详细的描述,以更进一步了解本发明的目的、方案及功效,但并非作为本发明所附权利要求保护范围的限制。
[0066]图1A为本发明一实施例的面板装置的局部上视示意图,而图1B为图1A的面板装置沿剖线1-1的剖面示意图。请同时参照图1A与图1B,面板装置100包括第一基
当前第1页1 2 3 4 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1