图3B可知，如果制程精度相当准确，第二量测结构240具有量测图案242A。此时，第一基板210与第二基板220之间在方向Dl上的对位偏移量超过距离Fl之后，量测开口 232与量测图案242之间就会形成间隙。因此，检测面板装置200时，观察到本组量测对中形成有间隙时，可以判断为对位偏移的程度为大于距离Fl。
[0079]图4A为图2A的面板装置存在对位偏移时其中一组检测对的上视示意图，而图4B为图4A的剖线IV-1V的剖面示意图。由图4A与图4B可知，量测图案242的实际尺寸小于预定要制作的量测图案242A的尺寸。在这样的情形下，第一基板210与第二基板220之间在方向Dl上的对位偏移量超过距离F2之后，量测开口 232与量测图案242A之间就会形成间隙。
[0080]由图2B、图3B与图4B可知，距离Fl大于距离F2。因此，当制作过程导致量测图案242的尺寸小于预定设计的尺寸时，第一基板210与第二基板220组立时的对位偏移还不到距离Fl，此量测对就可以被判别出来。也就是说，本实施例的量测对虽然预定是用来表示对位偏移到达距离Fl的程度，但实际情形下，量测开口 232与量测图案242会反应出更小的误差程度。如此一来，第一量测结构230与第二量测结构240的设计提供更严格的标准来判别出对位偏移的程度。换言之，如果判读出对位偏移时，实际对位偏移量小于预先设定，则使得误差程度被高估，这有助于确保产品的品质都在可容许的范围内。因此，本实施例的量测对可以降低不合格品通过检测的机率。
[0081]上述实施例将第一量测结构与第二量测结构分别制作于第一基板与第二基板上，不过本发明不以此为限。图5A为本发明另一实施例的面板装置的局部上视示意图，而图5B为图5A的剖线V-V的剖面示意图。请同时参照图5A与图5B，面板装置300包括第一基板310、第二基板320、第一量测结构330以及第二量测结构340。第二基板320与第一基板310以面对面方式组立，因此图5A中以相同的矩形框表示第一基板310与第二基板320的轮廓。第一量测结构330配置于第一基板310上，并具有N个量测开口 332，其中N为正整数。第二量测结构配置340于第二基板320上，并具有N个量测图案342。由图5A可知，各量测图案342的面积对应地遮蔽住其中一个量测开口 332而构成一个量测对。另外，第一量测结构330与第二量测结构340都制作于第二基板320上，且两者由不同膜层构成。
[0082]具体而言，在一选定量测方向，例如平行于剖线V-V的方向Dl上，各量测图案342的宽度不小于对应的其中一个量测开口 332的宽度。举例而言，第i个量测图案342i具有宽度Xi，第i个量测开口 332i具有宽度Yi，且X1-Yi = Wi彡O。同样地，第j个量测图案342j具有宽度Xj，第j个量测开口 332j具有宽度Yj，且Xj-Yj = Wj彡O。另外，在本实施例中，所有的量测开口 332具有相同的尺寸，不过量测图案342分别具有不同尺寸。因此，由图5B可知，Xi等于Xj，而Yi不等于Yj，因此Wi不等于Wj。另外，量测图案342i的位置与量测开口 332i的位置彼此对准，使得量测图案342i在其中一侧重叠于第一量测结构330的重叠宽度Ai为(Wi)/2。同样地，量测图案342 j的位置与量测开口 332 j的位置彼此对准，使得量测图案342j在其中一侧重叠于第一量测结构330的重叠宽度Aj为(Wj)/2。
[0083]图5C为在制作过程中发生制程误差的面板装置的示意图，而图为图5C的剖线V-V的剖面示意图。请参照图5C与图ro，面板装置300’为面板装置300在制作过程中发生对位偏移后所具有的结构。在本实施例中，第一量测结构330与第二量测结构340由不同的膜层制作，因此在对位偏移之下，至少有一个量测开口 332将不会被对应的量测图案342完全遮蔽。由图5C与图可知，图面中最左侧的两个对位开口 342未完全被遮蔽而与对应的对位图案342之间形成有间隙G。
[0084]在此，五个量测开口 332的尺寸设计为相同，而五个量测图案342的尺寸设计为彼此不同，其中若将这些量测开口 132由第一侧SI至第二侧S2依序编号，则第一个量测图案342的尺寸至第五个量测图案342的尺寸设计为逐渐增加，且第一个量测图案342的尺寸可以相同于一个量测开口 332的尺寸。
[0085]由图可知，第二个量测开口 332i与对应的量测图案342i之间形成有间隙G，而第三个量测开口 332j仍完全被对应的量测图案334j遮蔽。因此，第一基板110与第二基板120在选定量测方向(即方向Dl)上的制程偏移应会落在(Wi)/2至(Wj)/2。藉由间隙G的分布情形就可以判别出第一量测结构330与第二量测结构340在制程上的对位偏移的程度。
[0086]上述实施例皆以量测开口具有相同尺寸而量测图案具有不同尺寸来说明，但本发明不以此为限。图6A为本发明一实施例的面板装置的局部上视示意图，而图6B为图6A的面板装置沿剖线V1-VI的剖面示意图。请同时参照图6A与图6B，面板装置400包括第一基板410、第二基板420、第一量测结构430以及第二量测结构440。第二基板420与第一基板410以面对面方式组立，因此图6A中以相同的矩形框表示第一基板410与第二基板420的轮廓。第一量测结构430配置于第一基板410上，并具有N个量测开口 432，其中N为正整数。第二量测结构配置440于第二基板420上，并具有N个量测图案442。由图6A可知，各量测图案442的面积对应地遮蔽住其中一个量测开口 432。另外，第一量测结构430与第二量测结构440由于分别制作于第一基板410与第二基板420上。
[0087]在本实施例中，量测开口 432的数目与量测图案442的数目相同，且量测开口 432与量测图案442 —对一的对应而构成一个量测对。具体而言，本实施例不同于图1A与图1B的实施例之处在于，在本实施例中，所有的量测图案442具有相同的尺寸，不过量测开口432分别具有不同尺寸。在一选定量测方向，例如方向Dl上，各量测图案442的宽度不小于对应的其中一个量测开口 432的宽度。举例而言，第i个量测图案442i具有宽度Xi，第i个量测开口 432i具有宽度Yi，且X1-Yi =Wi彡O。同样地，第j个量测图案442 j具有宽度Xj，第j个量测开口 432j具有宽度Yj，且Xj-Yj =Wj彡O。以本实施例而言，宽度Xi相等于宽度Xj，而宽度Yi小于宽度Yj，所以Wi不等于Wj，但不以此为限。在其他实施例中，无须限定宽度Xi是否相等于宽度Xj，也无须限定宽度Yi是否等于宽度Yj。Wi不等于Wj时，不同量测组的量测开口 432与量测图案442就可以用来判断制程误差程度。在此，制程误差程度的判断可以参照前述实施例的说明，不另赘述。
[0088]图7A为本发明一实施例的面板装置中第一量测结构与第二量测结构的上视示意图，而图7B为图7A中区域E内的量测图案542的局部放大示意图。请参照图7，第一量测结构530具有多个量测开口 532，而第二量测结构540包括多个量测图案542。各个量测开口 532与对应的量测图案542的相对关系与尺寸设计可以参照前述实施例的说明，此处不另赘述。也就是说，量测开口 532与量测图案542的尺寸与位置关系可以相同于量测开口132与量测图案142、相同于量测开口 232与量测图案242、相同于量测开口 332与量测图案342或是相同于量测开口 432与量测图案442。
[0089]在本实施例中，每个量测图案542具有标记542A，其中标记542A可以是文字、数字、符号或其组合。标记542A可以藉由在各量测图案542中形成开口或是薄化区所定义出来。另外，由图7可知，各量测图案542的宽度等于或是大于对应的其中一个量测开口 532的宽度。因此，各量测图案542与第一量测结构530由上视图(图7)所观看到的面积会重叠以形成一重叠面积A。同时，量测图案542的尺寸彼此不同，使得不同量测图案542构成的重叠面积A彼此不同。在此，不同量测图案542上的标记542A彼此不同。
[0090]具体而言，本实施例的标记542A为数字O?4，其中这些不同标记542A用来表示不同的对位偏移程度。举例而言，本实施例的设计中，标记542A为O的量测图案542具有与对应的量测开口 532相同的面积。同时，标记542A为I?3的量测图案542具有比对应的量测开口 532更大的面积，且标记542A的数字越大则对应的量测图案542的尺寸越大。因此，进行检测时，只要观察哪一个标记542A所对应的量测图案5