实施例提供的形成像素界定层的过程示意图三；
[0032]图8a-8d为本发明实施例提供的制备OLED用显不基板的过程不意图。
[0033]【附图说明】:
[0034]01-像素区域；02_非像素区域；20_像素界定层；100-基板；200_像素界定层基本图案；200a-第一图案；200b-第二图案；210_氟代单分子层；300_(感光型)有机树脂层；300a-感光型有机树脂材料的第二薄膜；400_负性感光型有机树脂材料的第三薄膜；400a-第三图案；500_无机材料的第四薄膜；600_负性感光型有机树脂材料的第五薄膜；600a-第五图案；700-第一电极；800_有机材料功能层；900_第二电极层。
【具体实施方式】
[0035]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0036]本发明实施例提供了一种像素界定层的制备方法，该方法包括:
[0037]S01、如图3a所示，在基板100上形成像素界定层基本图案200 ;所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方。
[0038]即:所述像素界定层基本图案200除包括第一图案200a外还包括其他图案，且第一图案位于其他图案上方。
[0039]所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方，可以是所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还可以包括无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a位于第二图案200b的上方。
[0040]这里，在所述像素界定层基本图案200的第一图案200a和第二图案200b材料相同的情况下，可通过同一层无机材料薄膜形成该像素界定层基本图案200，即该层无机材料薄膜的厚度为第一图案200a和第二图案200b的厚度和，在此情况下，区分第一图案200a和第二图案200b仅是为后续方便描述氟代单分子层210的结构，附图3a和图3b中区分第一图案200a和第二图案200b的虚线实际上并不存在。
[0041]当然，在所述像素界定层基本图案200的第一图案200a和第二图案200b材料相同的情况下，也可通过两层无机材料薄膜形成该像素界定层基本图案200，即一层无机材料薄膜用于形成第一图案200a，另一层无机材料薄膜用于形成第二图案200b，具体可根据实际情况设定，在此不做限定。
[0042]或者，所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方，还可以是所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还包括有其材料例如有机材料的第三图案，且所述第一图案200a位于第三图案的上方。在此情况下，所述第二图案200b和所述第三图案的区别仅在于材料不同。
[0043]当然，本发明实施例也并不限定所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外只包括第三图案，也可包括其他图案，只要这些图案能构成所述像素界定层基本图案200，且使所述第一图案200a位于最上方即可。
[0044]基于上述情况，可具体根据实际情况进行设定，在此不做限定。
[0045]S02、如图3b所示，对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。
[0046]这里，本领域技术人员应该知道，自组装后，所述氟代单分子层210是通过共价键与所述第一图案200a进行连接。
[0047]示例的，可以选择氟代硅烷例如氟辛基三氯硅烷作为自组装疏液材料，对所述第一图案200a进行自组装表面处理；该材料自组装的原理如图4所示。
[0048]具体的，例如可以将形成所述第一图案200a的基板置于氟辛基三氯硅烷氛围中，在100-250度的温度范围内保持2小时。
[0049]需要说明的是，第一，不对上述基板100进行限定，其可以是形成有相应图案层的基板，也可以是没有形成任何图案层的衬底基板。
[0050]第二，不对第一图案200a的厚度进行限定，可根据实际情况进行设定。
[0051]第三，由于现有技术中的像素界定层并没有额外形成所述氟代单分子层210，因而，本发明实施例中的所述像素界定层基本图案200实质上就是现有技术中描述的像素界定层。
[0052]本发明实施例提供了一种像素界定层的制备方法，包括:在基板100上形成像素界定层基本图案200 ;所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。由于自组装的氟代单分子层210是基于共价键与第一图案200a连接的，因而长时间放置、一般的清洗步骤(等离子除外)、退火等工艺并不会影响其疏液性能，因此通过这种方法形成的像素界定层20，其疏液性能可以长久的保持，而不担心失效的问题。此外，通过自组装氟代单分子层210，其接触角可达110°以上。
[0053]优选的，上述S02可具体包括如下步骤:
[0054]S201、如图5a所示，在所述像素界定层基本图案200之间形成感光型有机树脂层300，所述感光型有机树脂层300露出所述第一图案200a。
[0055]S202、对露出的所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理。
[0056]S203、如图5b所示，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。
[0057]S204、去除所述感光型有机树脂层300，形成如图3b所示的结构。
[0058]一方面，通过在除所述像素界定层基本图案200所在区域之外的其他区域形成所述感光型有机树脂层300，可以在形成所述氟代单分子层210时，对其他区域的图案层起到保护作用；另外通过设定所述感光型有机树脂层300的厚度，可以确定所述第一图案200a的厚度，从而确定形成所述氟代单分子层210的范围。
[0059]另一方面，相比其他非感光有机材料，本发明实施例中采用感光型有机树脂材料，在形成所述有机树脂层300时，可简化工艺。
[0060]基于此，可通过如下两种情况进行具体说明，第一种情况:
[0061]当对像素界定层基本图案200的高度要求不高的情况下，优选直接采用无机材料形成所述像素界定层基本图案200，即:上述SOl可具体包括如下步骤:
[0062]S101、在基板100上形成无机材料的第一薄膜。
[0063]S102、对所述第一薄膜进行构图工艺，形成如图3a所示的由所述第一图案200a和第二图案200b构成的所述像