素界定层基本图案200。
[0064]即，所述第一图案200a和所述第二图案200b —体形成。
[0065]需要说明的是，通过S101-S102形成的所述像素界定层基本图案200，实际并不存在图3a中的用于区分第一图案200a和第二图案200b的虚线，本发明在附图中设置在虚线主要为了方便描述氟代单分子层210的形成范围。
[0066]在此情况下，进一步的，上述S201可具体包括如下步骤:
[0067]S201a、如图6所示，在形成有所述像素界定层基本图案200的基板上形成感光型有机树脂材料的第二薄膜300a，所述第二薄膜300a覆盖所述像素界定层基本图案200。
[0068]此处，所述感光型有机树脂材料例如可以是有机光刻胶。
[0069]S201b、采用等离子体对所述第二薄膜300a进行刻蚀露出所述第一图案200a，使所述像素界定层基本图案200之间的所述第二薄膜形成如图5a所示的所述感光型有机树脂层300。
[0070]这里，通过控制等离子刻蚀的时间，可以控制所述感光型有机树脂层300的高度，从而确定所述第一图案200a的高度。
[0071]这样，相比直接形成有机树脂层300，可避免在形成有机树脂层300时沉积不均匀而造成后续自组装时，对其他区域的图案层造成损伤。
[0072]第二种情况:
[0073]当对像素界定层基本图案200的高度要求高的情况下，优选采用有机材料和无机材料共同形成像素界定层基本图案200，即:上述SOl可具体为:在基板100上形成由所述第一图案200a和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案200 ;其中，所述第一图案200a位于所述第三图案的上方。
[0074]进一步的，上述形成由所述第一图案200a和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案200，具体可通过如下步骤实现:
[0075]S111、如图7a所示，在基板100上依次形成负性感光型有机树脂材料的第三薄膜400、无机材料的第四薄膜500以及负性感光型有机树脂材料的第五薄膜600。
[0076]这里，对于所述第三薄膜400的材料优选采用负性感光型有机树脂材料，目的是最终形成的所述第三图案是曝光后被固化的部分即保留在基板上的部分是被固化的部分，没有保留在基板上的是未被固化的部分，这样在后期的清洗使用等过程中，能够使其结构很好的保持且稳定性较好。
[0077]S112、如图7b所示，采用普通掩膜板对形成有所述第三薄膜400、所述第四薄膜500和所述第五薄膜600的基板进行曝光，使所述第三薄膜400中被固化的部分形成所述第三图案400a，使所述第五薄膜600中被固化的部分形成第五图案600a，显影后所述第五薄膜中未被固化的部分被去除。
[0078]这里，由于采用同一个掩膜板对形成有所述第三薄膜400、所述第四薄膜500和所述第五薄膜600的基板进行曝光，在所述第三薄膜400中被固化的部分形成所述第三图案400a的情况下，所述第五薄膜600中被固化的部分即第五图案600a必然是位于所述第三图案400a上方的。因此，只要第三图案400a的位置被限定，第五图案600a的位置则相应的被限定。
[0079]其中，可通过控制掩膜板的开口在基板的投影的位置，来控制基板的曝光区域。
[0080]S113、如图7c所示，以所述第五图案600a为掩膜，对所述第四薄膜500进行刻蚀，形成所述第一图案200a ;其中，所述第三图案400a和所述第一图案200a构成所述像素界定层基本图案200。
[0081]之后，如图7d所示，去除所述第五图案600a，使所述第三薄膜400中未被固化的部分形成所述感光型有机树脂层300。
[0082]这样，仅使用一次掩膜板便可形成所述像素界定层基本图案200，并形成位于所述像素界定层基本图案200之间的感光型有机树脂层300。
[0083]在此情况下，进一步的，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。然后，去除所述感光型有机树脂层300，形成如图7e所示的结构。
[0084]基于上述，可采用氟代硅烷对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理；在此基础上，在采用氟代硅烷对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理之前，所述方法还包括:对所述第一图案200a进行羟基化处理。
[0085]经过羟基化处理，可使所述第一图案200a更容易与硅烷进行反应。
[0086]本发明实施例还提供了一种像素界定层20，如图3b、图7e所示，该像素界定层20包括:像素界定层基本图案200 ;所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；还包括:自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层210。
[0087]其中，参考图3b所示，所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还可以包括无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a位于第二图案200b的上方。此处，区分所述第一图案200a和第二图案200b仅是为后续方便描述氟代单分子层210的结构，附图3b中区分第一图案200a和第二图案200b的虚线实际上并不存在。
[0088]参考图7e所示，所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a夕卜，还包括有机材料的第三图案400a，且所述第一图案200a位于第三图案400a的上方。
[0089]本发明实施例还提供一种像素界定层20，包括:像素界定层基本图案200 ;所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；还包括:自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层210。由于自组装的氟代单分子层210是基于共价键与第一图案200a连接的，因而长时间放置、一般的清洗步骤(等离子除外)、退火等工艺并不会影响其疏液性能，因此通过这种方法形成的像素界定层20，其疏液性能可以长久的保持，而不担心失效的问题。
[0090]当对像素界定层基本图案200的高度要求不高的情况下，如图3b所示，优选直接采用无机材料形成所述像素界定层基本图案200，即:所述像素界定层基本图案200包括无机材料的所述第一图案200a和无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a和所述第二图案200b—体形成。即:所述第一图案200a和所述第二图案200b通过一层薄膜经过构图工艺后形成。
[0091]需要说明的是，实际并不存在附图3b中的用于区分第一图案200a和第二图案200b的虚线，本发明在附图中设置在虚线主要为了方便描述氟代单分子层210的形成范围。
[0092]当对像素界定层基本图案200的高度要求高的情况下，如图7e所示，优选采用有机材料和无机材料共同形成像素界定层基本图案200，即:所述像素界定层基本图案200包括无机材料的所述第一图案200a和有机材料的第三图案400a。
[0093]进一步的，所述第三图案400a的材料为固化后的感光型有机树脂材料。
[0094]本发明实施例