1.一种利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，包括机架，所述机架上相对设有两个绝缘的安装座，两个所述安装座之间设有支撑轴，所述支撑轴上套设有橡胶套，所述橡胶套在支撑轴上转动设置，所述支撑轴的一侧设有支撑架，所述支撑架的两端分别与两个安装座固定连接，所述支撑轴与支撑架之间设有与支撑轴平行的静电放射管，所述静电放射管通过绝缘的绝缘棒固定安装于支撑架上，所述静电放射管包括绝缘外壳，所述绝缘外壳内设有正极放电针，所述正极放电针沿着绝缘外壳的长度设置，所述机架上设有静电发射电控箱，所述正极放电针与静电发射电控箱电连接，所述支撑轴内沿着支撑轴的长度方向设有负极针，所述负极针与静电发射电控箱电连接，所述绝缘外壳靠近支撑轴的一侧沿着绝缘外壳的长度方向设有若干放电孔。
2.如权利要求1所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述橡胶套的两端内侧均固定设有轴承，所述橡胶套通过轴承转动安装于支撑轴上。
3.如权利要求2所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述橡胶套的两端设有挡圈，所述挡圈固定于支撑轴上。
4.如权利要求1所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述机架上设有一侧开口的外罩，所述外罩由支撑架至支撑轴的方向罩住支撑架、静电放射管以及支撑轴，所述外罩的上方设有第一进风口，所述第一进风口通过进风管连接有干燥空气发生器。
5.如权利要求4所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述干燥空气发生器包括气泵，所述气泵的出气口通过送风管与进风管连通，所述送风管上由气泵至进风管的方向依次设有进风加热装置以及进风冷却装置。
6.如权利要求5所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述进风加热装置包括加热箱，所述加热箱的两侧分别具有第二进风口以及第二出风口，所述第二进风口以及第二出风口分别与送风管连通，所述加热箱内设有若干电热丝。
7.如权利要求5所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述进风冷却装置包括降温箱，所述降温箱内的底部设有支架，所述支架上固定设有若干冷却棒，所述冷却棒竖直设置，若干所述冷却棒之间间隔设置，所述降温箱的上方设有半导体制冷片，所述半导体制冷片的冷端朝下，所述半导体制冷片与降温箱不相连，所述冷却棒的上端穿过降温箱与半导体制冷片的冷端连接，所述支架上具有若干漏水孔，所述降温箱的底部具有排水孔，所述降温箱的下方设有冷凝水收集箱，所述冷凝水收集箱与排水孔连通，所述降温箱的两侧分别具有第三进风口以及第三出风口，所述第三进风口以及第三出风口风别与送风管连通。
8.如权利要求7所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述冷却棒的上部与降温箱的连接处设有石棉用于隔热。
9.如权利要求7所述的利用静电处理基材膜的装置，其特征在于，所述冷却棒采用铜棒。