辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法与流程

技术特征：

技术总结
一种辐射敏感组合物，其含有(A)抗蚀剂基材、(B)重氮萘醌光活性化合物以及(C)溶剂，前述辐射敏感组合物中的固体成分的含量为1～80质量％，溶剂的含量为20～99质量％，前述(A)抗蚀剂基材为式(1)所示的化合物。

技术研发人员：越后雅敏;樋田匠;佐藤隆
受保护的技术使用者：三菱瓦斯化学株式会社
技术研发日：2016.03.28
技术公布日：2017.12.01