具有高介电常数的可光成像薄膜的制作方法

文档序号:15738606发布日期:2018-10-23 21:54阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于制备可光成像膜的制剂;所述制剂包含:(a)负性光致抗蚀剂,其包含:(i)具有环氧基的丙烯酸粘合剂和(ii)光活性物质;以及(b)官能化氧化锆纳米颗粒。

2.根据权利要求1所述的制剂,其中所述官能化氧化锆纳米颗粒的平均直径是0.3nm到50nm。

3.根据权利要求2所述的制剂,其中所述官能化氧化锆纳米颗粒包含具有羧酸、醇、三氯硅烷、三烷氧基硅烷或混合氯/烷氧基硅烷官能团的配体。

4.根据权利要求3所述的制剂,其中所述配体具有一到二十个非氢原子。

5.根据权利要求4所述的制剂,其中所述丙烯酸粘合剂包含(i)(甲基)丙烯酸C1-C4烷基酯、(ii)包含环氧基的C3-C12(甲基)丙烯酸酯和(iii)C3-C8羧酸单体的聚合残基。

6.根据权利要求5所述的制剂,其中所述制剂中的官能化纳米颗粒的量以整个制剂的固体基准计算是50到95wt%。

7.根据权利要求6所述的制剂,其中所述丙烯酸粘合剂的重均分子量是5,000到50,000。

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