具有高介电常数的可光成像薄膜的制作方法

技术总结
一种用于制备可光成像膜的制剂；所述制剂包含：(a)负性光致抗蚀剂，其包含：(i)具有环氧基的丙烯酸粘合剂和(ii)光活性物质；以及(b)官能化氧化锆纳米颗粒。

技术研发人员：C·沃尔福-古普塔;Y·饶;S·韩;羽贺满;W·H·H·伍德沃德
受保护的技术使用者：陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
技术研发日：2016.12.07
技术公布日：2018.10.23