1.一种曝光设备，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：
台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及
构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，
其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且
至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。
2.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分相对于所述第一凹入部分设置于在扫描曝光期间所述台的扫描方向上。
3.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分在所述扫描方向上的长度小于所述第二凹入部分在垂直于所述扫描方向的方向上的长度。
4.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，在垂直于所述扫描方向的方向上，所述第二凹入部分的长度不小于所述第一凹入部分的长度。
5.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，所述第一表面与所述第二表面之间的距离小于所述第二凹入部分在所述扫描方向上的长度。
6.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分设置成在第二表面中围绕所述第一凹入部分的外部。
7.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，在所述台的所述第一表面上，所述第二凹入部分的外部的区域包括所述第一表面与所述第二表面之间的距离最小的部分。
8.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第一凹入部分和所述第二凹入部分中的每一个具有不小于所述原稿的厚度的深度。
9.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分的深度不大于所述第一凹入部分的深度。
10.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，在所述第一表面中，多个第二凹入部分设置于所述第一凹入部分的外部，所述多个第二凹入部分中的每一个比所述第一凹入部分容积更小。
11.根据权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备还包括供应单元，所述供应单元构造成通过从设置于所述构件的所述第一表面中的出口吹出净化气体来在所述台的移动期间向所述第一凹入部分和所述第二凹入部分供应净化气体。
12.根据权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备还包括第二供应单元，所述第二供应单元设置于所述台中，并且构造成向所述第二凹入部分供应净化气体。
13.根据权利要求12所述的曝光设备，所述曝光设备还包括第三供应单元，所述第三供应单元设置于所述台中，并且构造成向所述第一凹入部分供应净化气体。
14.根据权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备还包括构造成照射所述原稿的照明光学系统，
其中，所述构件相对于所述台设置于所述照明光学系统这一侧上。
15.根据权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备还包括构造成将所述原稿的图案投影到所述基板上的投影光学系统，
其中，所述构件相对于所述台设置于所述投影光学系统这一侧上。
16.一种制造制品的方法，所述方法包括：
使用曝光设备来曝光基板；
使所曝光基板显影；以及
处理所显影基板以制造所述制品，
其中，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：
台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及
构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，
其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且
至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。