光学膜的制造方法与流程

光学膜的制造方法
1.本技术是申请人提交的申请号为201610076537.5、发明名称为“光学膜的制造方法”的申请的分案申请。母案申请日为2016年2月3日，优先权日为2015年2月16日。
技术领域
2.本发明涉及一种使用了液晶材料的光学膜的制造方法。


背景技术：

3.液晶材料的光学各向异性比通常的树脂材料大，因此在将其用于相位差膜、偏振片等光学膜的情况下，能够减小膜厚，并且对器件的薄型化、轻量化有利。通过在膜基材上涂布液晶材料(液晶单体和/或液晶聚合物)，并根据需要进行液晶单体的聚合、液晶材料的取向处理、溶剂除去(干燥)等，形成液晶层，由此来制造液晶光学膜。
4.在光学膜的制造中发现了下述问题：附着于基材上的异物等混入涂布层与基材的界面、涂布层中，成为光学缺陷。另外，在利用液晶材料的光学膜的制造中还存在下述问题：若在基材上存在异物，则在涂布于其上的液晶产生取向缺陷、突起缺陷。
5.因此，提出了在对基材的涂布面进行清洗而除去异物后再涂布液晶材料的方法。作为除去附着于基材的异物的方法，已知：使用超声波空气的方法(例如专利文献1)、喷吹清洗气体的方法(例如专利文献2)、水洗基材的方法(例如专利文献3)、与粘合辊接触的方法(例如专利文献4)等。
6.在使用为了使液晶分子沿规定方向取向而实施了摩擦处理的基材的情况下，由于在基材表面附着大量异物，因此为了除去附着异物而在液晶材料的涂布前进行清洗处理。由于对实施过摩擦等取向处理的基材的表面无法进行擦洗，因此通常采用非接触的清洗方法。例如在专利文献5中公开了对实施过取向处理的基材的表面照射紫外线而除去附着异物的方法。
7.现有技术文献
8.专利文献
9.专利文献1：日本特开平10-309553号公报
10.专利文献2：日本特开2009-66982号公报
11.专利文献3：日本特开2007-105662号公报
12.专利文献4：日本特开平9-304621号公报
13.专利文献5：日本特开2003-4948号公报


技术实现要素：

14.发明要解决的课题
15.在像液晶光学膜那样形成于基材的涂布层的膜厚小的光学膜上有时产生点状的干涉不均之类的缺点(以下，有时称作“点状不均”)。根据本发明人等的研究，通过对基材的表面(液晶层的形成面)进行清洗，可以降低源自液晶层、或者液晶层与基材的界面的各种
缺陷，但是点状不均的发生数几乎看不到变化。
16.进一步进行了研究，结果：在发生点状不均的部分，膜的膜厚会局部变小，有时会周期性地体现在基材的运送方向(md)上，推定为由附着于涂布辊的异物所致的影响。为此，本发明人等通过使异物除去用刀片(刮刀)与在基材上涂布液晶材料时的涂布辊接触来进行辊表面的清扫，尝试了点状不均的减少。但是，在清扫辊表面的方法中，无法明确地确认点状不均的降低效果。
17.鉴于上述情况，本发明的目的在于：在基材上形成液晶层的光学膜的制造中，减少局部膜厚变小的“点状不均”缺陷的发生，得到高品质的光学膜。
18.用于解决课题的手段
19.鉴于上述情况进行研究，结果发现：在将基材抽出后直至涂布液晶材料的期间，对基材的制膜面和相反侧的面(背面)进行在线清洗，由此点状不均减少。进一步研究的结果发现通过利用清洗液使基材的背面与辊接触同时进行湿式清洗，由此使点状不均大幅减少，从而完成了本发明。
20.本发明涉及使用了液晶材料的光学膜的制造方法。在本发明的光学膜的制造方法中，从挠性基材的卷绕体将长状的基材退卷，向下游侧连续地运送(抽出工序)。基材具有作为制膜面的第一主面和作为制膜面的背面的第二主面。在本发明的制造方法中，将基材的第二主面清洗(清洗工序)，其后，在基材的第一主面上涂布液晶材料(制膜工序)。
21.在清洗工序中，在基材的背面与清洗辊之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在基材上，由此进行清洗。清洗辊优选在表面具有凹凸图案，其中，优选使用凹凸图案的凸部与辊的圆周方向非平行地延伸存在的清洗辊。认为：像这样，在本发明中，通过隔着清洗液使清洗辊与基材的背面接触来进行湿式清洗，由此附着于基材的背面的异物被除去，点状不均减少。
22.作为在本发明中使用的清洗辊的例子，可举出凹版辊、线棒辊等。另外，作为清洗液，优选使用沸点比水低的高挥发性液体。
23.发明效果
24.根据本发明的制造方法，能够得到膜厚局部变小的“点状不均”缺陷的发生被抑制的高品质的光学膜。
附图说明
25.图1是表示光学膜制膜装置的一个实施方式的示意图。
26.图2是用于说明凹版辊的表面形状的示意俯视图。
27.图3a是用于说明线棒辊的表面形状的示意俯视图。
28.图3b是图3a的线棒辊的b1-b2线的剖视图。
具体实施方式
29.图1是表示本发明的光学膜的制造中使用的制膜装置的一个实施方式的示意图。在图1所示的制膜装置100中，长状的基材的卷绕体2设置于抽出部10。从卷绕体2退卷的基材1从抽出部10向制膜装置的下游侧连续地运送，经过导辊51、52，向设置于导辊52的下游侧的清洗部40运送(抽出工序)。在清洗部40，清洗基材1的背面(清洗工序)。将清洗后的基
材1进一步向下游侧运送，经过导辊54，向制膜部60运送，进行在基材上的液晶材料的涂布(制膜工序)。
30.[基材]
[0031]
基材1只要具有挠性即可，优选使用机械强度、热稳定性、阻水性等优异的基材。基材具有第一主面和第二主面，在第一主面上形成液晶层。以下，在本说明书中，将第一主面称为“制膜面”，将作为其相反侧的面的第二主面称为“背面”。
[0032]
作为基材，使用例如树脂膜、金属箔、纸、布和它们的层叠体等。其中，由于表面平滑性优异且来自基材本身的异物的产生少，因此优选使用树脂膜。
[0033]
作为构成基材膜的树脂材料，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃；聚降冰片烯等环状聚烯烃；尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；聚碳酸酯；氯乙烯；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜；聚醚醚酮；聚苯硫醚；乙烯醇系聚合物；氯乙烯；环氧系聚合物等。其中，优选使用在涂布液晶材料时不溶解于溶剂的树脂材料。
[0034]
基材可以为无色透明，也可以为有色或不透明。在基材上形成液晶层后，将基材与液晶层的层叠体作为光学膜供于实用的情况下，基材优选使用透明且光学特性均匀的基材。
[0035]
基材只要兼具自支承性和挠性，其厚度就没有特别限定。基材的厚度一般为20μm～200μm左右，优选30μm～150μm，更优选35μm～100μm。当在膜等挠性基材上形成液晶层的情况下，由于基材的长度有限，因此能够连续制膜的长度有限。通常，对于抽出部10、制膜后的卷取部(末图示)，设置于架台的卷绕体的重量、直径的上限已确定。因此，若基材的厚度小，则可以使连续制膜长度变大，实现生产率的提高。因此，在不会损害制膜性、操作性的范围内，优选基材的厚度尽可能小。
[0036]
另一方面，根据本发明人的研究，在基材的厚度小的情况下，在基材上形成有液晶层的光学膜中能观察到点状不均的发生数增大的倾向。与此相对，如后面详细叙述的那样，在本发明中，通过在液晶材料的涂布前用规定的方法清洗基材的背面，由此即使在基材的厚度小的情况下，也可以抑制点状不均的发生。
[0037]
为了使液晶分子沿规定方向取向，可以使用取向基材。作为取向基材，可列举拉伸高分子膜、对表面进行过摩擦处理的膜、在表面具备摩擦取向膜的膜等。作为取向膜，可以使用聚乙烯醇系薄膜、聚酰亚胺系薄膜、聚硅氧烷系薄膜、玻璃质高分子薄膜等。摩擦处理例如通过用卷绕有由人造丝、棉花等细纤维形成的摩擦布的摩擦辊在基材上进行摩擦来进行。通过调整摩擦辊的配置角度，从而使基材的运送方向与摩擦方向保持规定的角度，也可以制作具有各种光轴(液晶分子的取向方向)的光学膜。
[0038]
在使用摩擦处理基材的情况下，可以将摩擦处理后的基材的卷绕体设置于制膜装置100的抽出部10，也可以在将末处理的基材从抽出部10抽出后进行基材的摩擦处理。从防止异物向液晶层混入、防止工序污染的观点出发，优选将摩擦处理后的基材的卷绕体设置于制膜装置的抽出部后再使用。当在将末处理的基材从抽出部抽出后进行基材的摩擦处理的情况下，在基材的抽出后且清洗处理之前实施摩擦处理。
[0039]
此外，可以对基材膜的表面进行易粘接处理、脱模处理、抗静电处理、抗粘连处理
等处理。另外，出于防止粘连等目的，可以对基材的宽度方向的端部实施印花加工(knurling，滚花)等。
[0040]
[液晶材料]
[0041]
液晶材料含有液晶单体或液晶聚合物、或者它们的混合物。液晶单体和液晶聚合物(有时将它们统称记载为“液晶化合物”)可以为显示热致液晶性的物质，也可以为显示溶致液晶性的物质。
[0042]
作为液晶单体，可以使用显示向列性、近晶性等取向性且在末端具有至少1个丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键、环氧基等聚合性官能团的液晶性化合物。含有液晶单体的液晶材料除液晶单体外还可以含有聚合引发剂。作为聚合性液晶单体的聚合方法，例如可列举热聚合、紫外线聚合等，可以根据聚合方法使用适宜的聚合引发剂。
[0043]
作为液晶聚合物，可以使用显示向列性、近晶性等液晶取向的、主链型液晶聚合物或侧链型液晶聚合物、或者它们的复合型的液晶性化合物。液晶聚合物的分子量并无特别限制，优选重均分子量为2000～100000左右的液晶聚合物。
[0044]
也可以通过使向列性的液晶材料含有手性剂、或者向液晶聚合物的结构中导入手性成分而使液晶材料成为胆固醇取向性。手性剂的种类、添加量可以根据胆固醇型液晶的选择反射波长、螺旋间距等的设定值进行适当确定。
[0045]
当在基材上涂布液晶材料时，通常使用液晶化合物的溶液。使液晶材料溶解的溶剂可以根据液晶材料的种类、基材的种类适当确定。作为溶剂的具体例，可列举：氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯等卤代烃类；苯酚、对氯苯酚等酚类；苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1，2-二甲氧基苯等芳香族烃类；丙酮、乙酸乙酯、叔丁醇、甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇单甲基醚、二乙二醇二甲基醚、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、2-吡咯烷酮、n-甲基-2-吡咯烷酮、吡啶、三乙基胺、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、乙腈、丁腈、二硫化碳等。溶剂可以混合使用两种以上。
[0046]
除聚合引发剂、手性剂等以外，液晶材料溶液也可以根据需要包含色素、流平剂、增塑剂、紫外线吸收剂、防劣化剂等添加剂。液晶材料溶液的固体成分、粘度等可以根据液晶材料的种类、分子量、液晶层的厚度、制膜方法等进行适当设定。
[0047]
[清洗部]
[0048]
在基材1的运送路径中，在抽出部10与制膜部60之间设置有清洗部40。在清洗部40，边使基材1的背面12与清洗辊41隔着清洗液接触边进行湿式清洗。在本发明中推定：将在清洗辊与基材背面之间供给的清洗液利用清洗辊在基材上涂布展开时，通过在清洗液与基材的界面赋予剪切力，可以有效地清洗除去附着于基材的异物等，可以抑制点状不均。
[0049]
在图1所示的方式中，清洗部40具备以与基材1的制膜面11接触的方式设置的支撑辊42、和以与基材1的背面12接触的方式设置的清洗辊41。在清洗盘48内贮存有清洗液47，用刮片44将附着于清洗辊41的表面的清洗液的剩余部分刮掉，所述清洗液被引向基材1的背面12。
[0050]
＜清洗辊＞
[0051]
作为清洗辊41，使用刀辊(逗点辊)、舔液辊(
キスロ
一
ル
)、凹版辊、线棒辊等在溶液涂布中使用的各种辊。清洗辊可以是旋转辊，也可以是不旋转辊。清洗辊为旋转辊时，旋转方向可以为正向旋转、逆向旋转的任一种。
[0052]
从提高基材的清洗效率的观点考虑，优选在清洗辊的表面形成有凹凸。清洗辊表面的凹凸图案优选凸部与辊的圆周方向非平行地延伸存在。通过与清洗辊41的圆周方向非平行地延伸存在的凸部与基材的背面接触，有能够更有效地清洗除去附着于基材的异物等、抑制点状不均的倾向。
[0053]
作为具有在与圆周方向非平行的方向延伸存在的凸部的辊，可举出例如凹版辊、线棒辊、印花辊等。由于不使基材损伤而将清洗液涂布展开于基材背面，因此特别优选使用凹版辊和线棒辊作为清洗辊。
[0054]
图2是显示凹版辊的表面的凹凸图案形状的一例的俯视图。在凹版辊140的表面以图案状形成有凹部(凹版沟)141和凸部142。认为：在使用凹版辊作为清洗辊时，在该凹部贮存的液体与基材表面接触，并且附着于基材表面的异物通过与凸部的接触而被刮掉，从而除去异物。需要说明的是，在图2中，作为凹版图案形状，图示出四边形(square型)的图案形状，但若凸部向倾斜方向延伸存在，则凹版图案的形状没有特别限定，例如可以是三角形、蜂巢型等多边形状、斜线形状、曲线形状等线状。
[0055]
图3a是表示线棒辊240的表面的凹凸图案形状的一例的俯视图，图3b是b1-b2线的剖视图。线棒辊是线等细线242在辊主体(圆筒)241的表面以螺旋状卷绕而成的辊，通过细线242，形成在与圆周方向非平行的方向延伸存在的凸部。认为：在使用线棒辊作为清洗辊时，在相邻的细线242的间隙贮存的液体与基材表面接触，并且附着于基材表面的异物通过与以螺旋状卷绕的细线242的接触而被刮掉，从而除去异物。需要说明的是，在图3a和b中，图示出一条细线242卷绕于圆筒的形态，但线棒也可以由多条细线卷绕而成。细线242可以没有间隙地卷绕，也能以一定的间隔卷绕。相邻的细线间的间隔优选与细线的宽度相同程度或其以下。
[0056]
清洗辊表面的凸部的高度没有特别限定，但与通常的凹版辊、线棒辊等的凸部的高度同样地优选0.1μm～10μm左右的范围。若凸部的高度过小，则有时清洗效果变得不充分。另一方面，若凸部高度过大，则清洗液的展开厚度变大，因此有时清洗效率降低、或清洗液的干燥需要长时间，从而使生产效率降低。
[0057]
＜清洗液＞
[0058]
在清洗工序中，在清洗辊41与基材1的背面12之间供给清洗液。通过清洗辊41与基材1的背面12接触，在基材的背面涂布展开清洗液，进行清洗。清洗液为液体，只要不溶解基材1就没有特别限定，可以使用水、有机溶剂、水与有机溶剂的混合物等。
[0059]
从有效地进行从抽出部10到制膜部60的运送路线上的在线清洗的观点考虑，优选使用低沸点且挥发性高的液体作为清洗液。作为高挥发性的液体，可举出：甲醇、乙醇、异丙醇等醇类；丙酮、甲乙酮等酮类；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等卤代烷类；二乙醚、乙丙醚、乙基异丙基醚等醚类等。另外，也可以使用这些有机溶剂的混合物、这些有机溶剂与水的混合物等。另外，以清洗力的提高等为目的，可以在清洗液中添加表面活性剂、亲水性有机化合物等。作为亲水性有机化合物，可举出具有羟基、氨基、酰胺基、业胺基、酰业胺基、硝基、氰基、异氰酸酯基、羧基、酯基、醚基、羰基、磺酸基、so基等的有机化合物。
[0060]
＜清洗方法＞
[0061]
清洗方法只要是将在清洗辊41与基材1的背面12之间供给的清洗液涂布展开在基材上的方法就没有特别限定。将清洗液向清洗辊与基材之间供给的方法也没有特别限定。
在图1中，图示出使清洗辊41与清洗盘48内的清洗液47直接接触的形态(直接凹版法)，但也可以采用例如：使其他辊(胶版辊)与清洗盘内的清洗液接触，使附着于胶版辊表面的清洗液向以与胶版辊接触的方式配置的清洗辊移动的方法(间接凹版(offset gravure))等。除了使清洗液附着于清洗辊41的表面的方法以外，也可以在基材1与清洗辊41接触前，通过利用缝形模头、喷雾等在基材1的背面12涂布清洗液的方法、在清洗盘内使基材移动的方法、利用喷雾等使清洗液附着于清洗辊41表面的方法等而在清洗辊41与基材1的背面12之间供给清洗液。
[0062]
基材1边与清洗辊41接触，边向下游侧(图1的左侧)运送，因此在清洗辊41与基材之间供给的清洗液必然在基材表面涂布展开。清洗辊41可以与基材1的背面12直接接触，也可以具有间隙。清洗辊与基材的背面的间隙优选例如0.1μm～10μm左右。在间隙过大时，辊与基材隔着清洗液接触时的界面处的剪切力变小，存在清洗效率降低的倾向。清洗辊在表面具有凹凸气图案时，如前所述，根据辊表面的凸部的高度，可以将清洗辊与基材的间隙调整至所希望的范围。清洗辊在表面不具有凹凸图案时，可以根据清洗辊与基材的相对的位置关系来调整间隙。
[0063]
在图1中，图示出基材1的背面12与清洗辊41在清洗部40接触，制膜面11与支撑辊42接触的形态，但若以基材1的背面12与清洗辊41隔着清洗液接触的方式构成基材的运送路径，则不一定需要清洗部40中的支撑辊。另外，可以使用在表面具有凹凸的辊等来代替支撑辊42，与基材1的背面12同时对制膜面11进行清洗。
[0064]
在清洗部40将背面12清洗了的基材1经过导辊54向制膜部60运送。需要说明的是，在将基材从清洗部40向制膜部60运送时，可以进行附着于基材表面的清洗液的干燥。干燥方法没有特别限定，可举出喷吹洁净气体的方法、使基材通过加热烘箱内的方法等。
[0065]
[制膜部]
[0066]
在制膜部60中，在基材1的制膜面11上涂布液晶材料溶液，依照常规方法进行制膜。在图1中，图示出使用了挤压(extrusion)模头61的模具涂机。在该涂布机中，边使基材1的背面12与支撑辊62接触，边在基材的制膜面上涂布从模头61的模唇排出的液晶材料。通过调整来自模头的液晶材料的涂布量和基材的运送速度，从而调整液晶材料的涂膜的厚度。
[0067]
制膜部60中的制膜方法不限于模涂布，可以使用舔液辊涂布、凹版涂布、反转涂布、喷涂、线棒涂布、气刀涂布、淋涂等各种方法。
[0068]
使用了液晶材料的光学膜的特性多依赖于液晶层的膜厚。例如相位差膜的延迟值、旋光元件的光轴的旋转角度、偏振片的吸光度与液晶层的厚度成比例。因此，为了使光学膜的特性均匀，优选使制膜时的膜厚均匀。为了使膜厚均匀，如图1所示，优选边用支撑辊62将基材1的背面12支承边进行制膜。
[0069]
另一方面，若在支撑辊62与基材1的背面12之间存在异物，则通过该挤压而使基材1的制膜面11变形为凸状。认为：若在其上涂布液晶材料，则基材变形的部分的涂布厚度局部变小，产生点状不均。与此相对，在本发明中，通过对基材1的背面12进行在线清洗，由此除去附着异物，因此推定即使在边用支撑辊将基材支承边进行制膜时也能抑制点状不均的发生。
[0070]
根据目标光学膜的特性等例如以干燥后的膜厚为0.1μm～20μm左右的方式设定液
晶层的厚度。通常存在液晶层的厚度越小则点状不均的发生越显著的倾向。对此，在本发明中，通过经过上述的清洗工序，从而即使在干燥后的液晶层的膜厚为20μm以下的情况下，也能抑制点状不均的发生。因此，本发明的制造方法适合用于制造涂布层的厚度小的液晶光学膜。
[0071]
[涂布后的上序]
[0072]
将在基材1的制膜面11上涂布的液晶材料的涂膜与基材1一起向干燥炉20内运送，除去溶剂，从而形成膜。除干燥以外，还可以进行液晶分子的取向处理、液晶单体的聚合等。例如在使用显示热致性液晶性的液晶单体的情况下，加热至单体显示液晶相的温度区域以上，使其干燥后，冷却至显示液晶相的状态的温度，通过紫外线照射进行聚合，由此能够使液晶的取向状态固定。另外，溶致液晶也可以通过赋予剪断力而使液晶分子沿规定取向而取向。
[0073]
形成液晶层后的基材可以直接以使基材与液晶层密合的状态卷取。可以将形成于基材上的液晶层转印到其他膜、或者在将基材和液晶层剥离后将基材和液晶层分别进行卷取。另外，可以将从基材剥离的液晶层或者转印于其他膜上的液晶层供于干燥、取向处理、拉伸等其他工序。
[0074]
以与基材密合的状态卷取的液晶层可以与基材一体地作为光学膜供于实用。另外，也可以以使液晶层密合于基材上的状态供于拉伸等其他工序。其后，可以将基材与液晶层一体地作为光学膜使用，也可以将从基材剥离的液晶层作为光学膜使用，或者也可以将液晶层转印到其他膜上后作为光学膜来使用。还可以在液晶层上进一步涂布其他涂布层等。
[0075]
由于像这样得到的本发明的光学膜的点状不均减少且光学缺陷少，因此可以作为图像显示装置用的光学膜使用。作为图像显示装置用的光学膜，具体而言，可举出相位差板等光学补偿膜、偏振片、偏振片保护膜等。
[0076]
实施例
[0077]
以下举出有关液晶光学膜的制作的实施例对本发明进行更详细地说明，但本发明不限于下述的实施例。
[0078]
[制作例1：使用了胆固醇型液晶材料的负c片的制作]
[0079]
在制作例1a～1m中，使用厚度75μm的聚酯膜(末进行摩擦处理)作为基材膜，并将以下的涂布液涂布于基材膜上，制作成具备由胆固醇型液晶层形成的负c片(选择反射波长：200～220nm)的光学膜。
[0080]
＜液晶材料的涂布液的制备＞
[0081]
将下述的向列液晶单体：90重量份、
[0082]
【化1】
[0083][0084]
下述式的聚合性手性剂：10重量份、
[0085]
【化2】
[0086][0087]
和uv聚合引发剂(商品名“irgacure 907”basf公司制)：5重量份溶解于甲乙酮：300重量份中，制备成包含手性剂的聚合性液晶材料溶液。
[0088]
[制作例1a(实施例)]
[0089]
将基材膜的卷绕体放置于制膜装置的抽出部，边将基材膜抽出并使其移动，边将异丙醇作为清洗液并使沿着与基材的运送方向相反方向旋转的凹版辊与基材膜的背面侧接触，由此进行基材背面的清洗。在清洗后的基材的制膜面上以使干燥后的膜厚达到2μm的方式涂布上述的聚合性液晶材料溶液，在70℃使其干燥3分钟后，冷却到室温，以300mj/cm2的累积光量照射紫外线，由此使液晶单体同化，同定液晶分子的取向。所得的液晶层卷取成与基材膜的层叠体。
[0090]
[制作例1b(实施例)]
[0091]
在上述制作例1a中，除基材膜的背面侧外，还在制膜面侧也将异丙醇作为清洗液边使其接触凹版辊边进行清洗。即，在制作例1b中，边使凹版辊与基材膜的背面和制膜面这两面接触边进行清洗。其后，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0092]
[制作例1c、1d(实施例)]
[0093]
使用线棒辊来代替凹版辊。除此以外，与制作例1a、1b同样地进行清洗后，进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，形成液晶层。即，在制作例1c中，边使线棒辊与基材膜的背面接触边进行清洗，在制作例1d中边使线棒辊与基材膜的两面接触边进行清洗。
[0094]
[制作例1e(比较例)]
[0095]
对基材膜的背面、制膜面均不进行清洗，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0096]
[制作例1f(比较例)]
[0097]
在上述制作例1b中，不进行基材膜的背面侧的清洗，边使凹版辊仪与基材膜的制膜面接触边进行清洗。其后，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0098]
[制作例1g(比较例)]
[0099]
在上述制作例1d中，不进行基材膜的背面侧的清洗，边使线棒辊仪与基材膜的制膜面接触边进行清洗。其后，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0100]
[制作例1h(比较例)]
[0101]
与制作例1e同样地对基材膜的背面、制膜面均不进行清洗，并且与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。在制作例1h中，在聚合性液晶材料溶液的涂布时，使刮刀与相接于基材背面的支撑辊接触，边时常清扫支撑辊边进行制膜。
[0102]
[制作例1i(比较例)]
[0103]
将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与基材的背面接触的导辊变更为粘合辊，通过与粘合辊的接触进行基材背面的清洗。另一方面，在制作例1i中，不进行使用清洗辊的清洗。除此以外，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0104]
[制作例1j(比较例)]
[0105]
将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与基材的制膜面接触的导辊变更为粘合辊，通过与粘合辊的接触进行基材制膜面的清洗。另一方面，在制作例1j中，不进行使用清洗辊的清洗。除此以外，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0106]
[制作例1k(比较例)]
[0107]
将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与基材的背面接触的导辊和与制膜面接触的导辊分别变更为粘合辊，通过与粘合辊的接触进行基材的背面和制膜面的清洗。另一方面，在制作例1k中，不进行使用清洗辊的清洗。除此以外，与制作例1a同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0108]
[制作例1l(比较例)]
[0109]
与制作例1a同样地，边将异丙醇作为清洗液并使其接触凹版辊，边清洗基材膜的背面侧。其后，不涂布液晶材料溶液，暂且卷取基材膜(离线清洗)。将卷取后的基材膜再次放置于制膜装置，对基材膜的背面、制膜面均不进行清洗，进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0110]
[制作例1m(比较例)]
[0111]
在上述制作例1l中，使用线棒辊来代替凹版辊，对基材膜的背面侧进行离线清洗后，暂且卷取基材膜。将卷取后的基材膜再次放置于制膜装置，对基材膜的背面、制膜面均不进行清洗，进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0112]
[评价]
[0113]
在暗室内，对上述制作例1a～1m中所得的光学膜，以在基材膜上层叠有液晶层的状态从液晶层侧照射白色光，目视确认有无因膜厚变化而在反射光中产生环状的干涉条纹的部位。数出在1m2的区域中产生环状的干涉条纹的部位的数目，将其作为点状不均数。在表1中一览示出制作例1a～1m中的基材的清洗条件和点状不均数。
[0114]
【表1】
[0115][0116]
在制作例1f、1g中，进行了基材的制膜面的清洗，但是与不进行清洗的制作例1e相比，未观察到点状不均数的明确变化。另外，即使在清扫了支撑辊的制作例1h和将制膜面利用粘合辊进行了清洗的制作例1j中，也未观察到点状不均数的明确变化。
[0117]
与此相对，在线进行了背面清洗的制作例1a～1d和制作例1i、1k中，点状不均数大幅减少。另一方面，在离线进行了背面清洗的制作例1l、1m中，未观察到点状不均数的明确变化。由这些结果可知：通过在线清洗基材的背面，从而点状不均大幅减少。
[0118]
通过与粘合辊接触而进行了基材的背面清洗的制作例1i、1k中的每1m2的点状不均数分别为7个和6个。在每1m2存在6处由点状不均引起的不良时，若在5英寸的画面尺寸的图像显示装置(每1m2约为140片)中使用光学膜，则相当于不良率约4％。但是，在画面尺寸为11英寸时不良率约为20％，若画面尺寸为20英寸以上则不良率上升至大约100％。因此可知：将光学膜用于形成大型的图像显示装置时，在利用粘合辊的清洗下，由点状不均引起的不良率高，极难得到优质的光学膜的片。
[0119]
与此相对，可知：像制作例1a～1d那样，通过隔着清洗液使辊与基材接触，进行基材背面的湿式清洗，由此几乎没有点状不均，可以得到在大型的图像显示装置的形成中也可以适宜地使用的高品质的光学膜。
[0120]
[制作例2：在摩擦基材上的正a片的制作]
[0121]
在制作例2a～2m中，使用对表面实施了摩擦处理的厚度40μm的三乙酰基纤维素膜作为基材膜，并将以下的涂布液涂布于基材膜上，制作成具备由向列液晶层形成的正a片的光学膜。
[0122]
＜液晶材料的涂布液的制备＞
[0123]
将显示向列液晶相的液晶单体(商品名“paliocolor lc242”basf公司制)：100重量份和光聚合引发剂(商品名“irgacure 907”basf公司制)：3重量份溶解于甲苯400重量份，制备成聚合性液晶材料溶液。
[0124]
＜基材的摩擦处理＞
[0125]
利用日本特开2006-235611号的实施例1-1中记载的方法对实施了皂化处理的厚度40μm的三乙酰基纤维素膜实施了摩擦处理。摩擦角度相对于基材膜的运送方向倾斜24.3
°
。对于摩擦处理后的基材，在进行水洗和干燥后，暂且卷取成辊状。
[0126]
[制作例2a～2d(实施例)]
[0127]
将经过摩擦处理的基材膜的卷绕体放置于制膜装置的抽出部，边将基材膜抽出并使其移动，边与制作例1a～1d同样地进行基材的清洗。在清洗后的基材的制膜面上以使干燥后的膜厚达到1μm的方式涂布上述的聚合性液晶材料溶液，在90℃使其干燥2分钟后，冷却到室温，以300mj/cm2的累积光量照射紫外线，由此使液晶单体固化，固定液晶分子的取向。所得的液晶层卷取成与基材膜的层叠体。
[0128]
[制作例2e～2m(比较例)]
[0129]
将经过摩擦处理的基材的清洗方法变更为与制作例1e～1m同样的方法。除此以外，与上述制作例2a～2d同样地进行聚合性液晶材料溶液的涂布、干燥、冷却和紫外线照射，在基材膜上形成液晶层。
[0130]
[评价]
[0131]
利用与上述制作例1同样的评价方法，评价了制作例2a～2m中所得的光学膜的点状不均的数目。将评价结果示于表2中。
[0132]
【表2】
[0133][0134]
在制作例2e～2m中，与制作例1e～1m相比，观察到点状不均的数目变多的倾向。其原因推定为源于在摩擦处理时产生的异物(摩擦渣滓等)附着于基材表面。另一方面，在线进行背面清洗的制作例2a～2d中，与制作例1a～1d同样，末观察到点状不均。
[0135]
由这些结果可知：无论有无基材的摩擦处理、液晶材料的种类，通过利用本发明的方法对基材的背面进行在线清洗，从而得到几乎无点状不均、且高品质的光学膜。
[0136]
符号说明
[0137]
1：基材
[0138]
11：制膜面(第一主面)
[0139]
12：背面(第二主面)
[0140]
2：卷绕体
[0141]
10：抽出部
[0142]
20：干燥炉
[0143]
40：清洗部
[0144]
41：清洗辊
[0145]
42：支撑辊
[0146]
44：刮片
[0147]
47：清洗盘
[0148]
48：清洗液
[0149]
51、52、54：导辊
[0150]
60：制膜部
[0151]
61：模头
[0152]
62：支撑辊
[0153]
140：凹版辊
[0154]
141：凹部
[0155]
142：凸部
[0156]
240：线棒辊
[0157]
241：圆筒
[0158]
242：细线(凸部)。