技术特征：
1.一类锌氧簇化合物在光刻胶领域的应用，其特征在于：所述锌氧簇化合物的结构通式如a所示：其中：r选自下述取代基中的一种：2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述应用包括将上述结构通式如a所示的锌氧簇化合物i或ii为唯一组分直接作为光刻胶应用3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述应用包括作为光刻胶组合物。4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述应用包括利用上述结构式如i或ii的锌氧簇化合物制备的光刻胶组合物，所述的组合物包括下述组分按重量份组成：结构式如i或ii的锌氧簇化合物占1～15重量份；有机溶剂占85～99重量份；流平剂占0～0.05重量份；分散剂占0～0.05重量份；增黏剂占0～0.05重量份；其他添加剂0～0.1重量份；所述有机溶剂包括酯类、醇类、醚类、环醚类、苯类、羧酸类、烷烃类中的一种；所述其他添加剂选自光引发剂和/或自由基淬灭剂。5.根据权利要求4所述的应用，其特征在于：所述有机溶剂包括四氢呋喃、1，4-二氧六环、苯、甲苯、对二甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、均三甲苯、氯苯、氟苯、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚、丙二醇单醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、氯仿及二氯甲烷、甲醇、乙醇、1，2二氯乙烷的一种或多种的混合。6.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述应用包括利用上述结构式如i或ii的锌氧簇化合物或光刻胶组合物施加在基底上成膜制备的光刻胶涂层。7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：所述应用包括一种优化锌氧簇光刻胶涂层的方法，包括如下步骤：通过调节固含量、配胶溶剂、匀胶时间、匀胶转速、烘烤温度和时间参数来调节成膜特性，获得锌氧簇薄膜。8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于：所述应用是对锌氧簇薄膜的数据由原子力显微镜地探针式扫描测量得到，薄膜粗糙度行为用ra和rq来评价，所制备的薄膜r
a
和r
q
均在
0.3nm之下，较好质量的薄膜粗糙度ra和rq控制在0.3nm以下；较好质量的薄膜粗糙度ra和rq控制在0.3nm以下；r
a
——取样区域范围内，相对中央平面测的高度偏差绝对值的算术平均值，nm；r
q
——取样区域范围内，轮廓偏离平均线的均方根值，它是对应于ra的均方根参数，nm；l——取样长度，nm；z
j
——计算r
a
时的取样高度，nm；z
i
——计算r
q
时的取样高度，nm。9.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：所述应用包括所述的光刻胶涂层在膜科学或者光刻中的应用。10.根据权利要求6所述应用，其特征在于：所述应用包括将所述光刻胶涂层用于248nm光刻、193nm光刻、极紫外光刻、超极紫外光刻、纳米压印光刻或电子束光刻。11.根据权利要求6所述应用，其特征在于：所述应用包括一种电子束光刻方法，其特征在于：将权利要求4所述的光刻胶涂层进行匀胶、软烘、曝光、后烘、显影、硬烘；匀胶为：速度500rpm～5000rpm、时间10s～300s，软烘温度为60℃～160℃、时间10s～300s；显影时间为10s～300s。
技术总结
本发明公开一类锌氧簇化合物在光刻胶领域的应用，其结构通式如A所示；将所述锌氧簇化合物或其组合物用作制备光刻胶，该一体化的光刻胶分子既是光敏剂，又是树脂，合成方法简单，原料简单易得，反应一步即可高产率得到产物，产物纯净，其中苯及其衍生物配体大大提高了锌氧簇在各种溶剂或显影剂中的溶解度，尤其是4-三氟苯基配体的分子适合绝大多数溶剂，具有很强的工艺包容性，非常适合制备15～100nm不同厚度且均一的光刻胶薄膜。在生产中可以不加任何助剂，实施方便，大大降低了成本。所合成的光刻胶分子具有很高的热稳定性及储存稳定性、烘烤时不析出、光刻中不易变性、较好的成膜性、较低的粘度等，适用于不同类型的光刻技术。适用于不同类型的光刻技术。适用于不同类型的光刻技术。
技术研发人员：樊江莉 司友明 陈鹏忠 彭孝军
受保护的技术使用者：大连理工大学宁波研究院
技术研发日：2022.07.18
技术公布日：2022/11/29