一种集成电路用KOH显影液组合物的制作方法

文档序号:40955773发布日期:2025-02-18 19:19阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,按质量百分数之和为100%计,所述koh显影液组合物中各组分所占质量百分数为:

2.根据权利要求1所述的一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,所述无机碱为浓度45wt%的电子级氢氧化钾水溶液,其金属杂质含量低于10ppm。

3.根据权利要求1所述的一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,所述显影增强剂为偏硅酸钾、偏硅酸钠、硼酸、四硼酸钾、四硼酸钠、磷酸、柠檬酸、均苯四甲酸中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,所述表面活性剂为腰果酚席夫碱表面活性剂,其化学结构式为:

5.根据权利要求4所述的一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,所述表面活性剂的制备方法包括以下步骤:

6.根据权利要求1所述的一种集成电路用koh显影液组合物,其特征在于,所述水为电阻率不低于18mω·cm的高纯水。


技术总结
本发明公开了一种集成电路用KOH显影液组合物,该组合物是由无机碱、显影增强剂、腰果酚席夫碱表面活性剂和高纯水组成。该显影液具有优异的显影性能、润湿性好、金属杂质少、泡沫小、对金属铝基底无腐蚀、易漂洗,不在芯片上残留,对环境无污染等特点,可满足芯片集成电路使用的性能及洁净度要求。

技术研发人员:刘小勇,邱小真,黄晓莉,房龙翔,肖小江,刘文生
受保护的技术使用者:福建省佑达环保材料有限公司
技术研发日:
技术公布日:2025/2/17
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