一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法

文档序号:8921717阅读:275来源:国知局
一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及显示器技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作 方法。
【背景技术】
[0002] 裸眼3D显示器凭借其全方位的展现与呼之欲出的震撼感觉,以及不需要佩戴特 殊眼镜的优点,成为3D显示研宄的主要方向,是新一代显示器件的研宄热点。裸眼3D显示 器主要包括狭缝光栅式显示器和柱镜光栅式显示器,其原理都是基于光栅的分光原理,通 过对光栅形状的设计及光栅到显示器距离的精确控制,使通过显示平面的各像素的光线分 别只进入人的左眼或右眼,双眼看到不同的画面,从而产生空间感。由于显示器的像素排 布是有序排列的周期结构,同一行像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的数据 线,或者同一列像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的扫描线,导致其发出的 光强也具有周期性排布结构,这样的光强与显示器前面的周期性光栅结构相互干涉,很容 易形成彩色或者黑色莫尔条纹。莫尔条纹的产生会影响3D显示效果,破坏图像的观赏性。
[0003] 图1为现有技术中一种可以消除莫尔条纹的阵列基板的结构示意图,如图1所示, 多条扫描线11和多条数据线12绝缘相交限制出多个像素单元10,为消除莫尔条纹,需要同 一行像素单元10的任意一个聚焦位置的亮度相同,现有技术在每个像素单元10中周期性 的放置遮光的金属伪电极13,金属伪电极13与遮光的数据线12形成周期性排列,使得位于 每个像素单元10中或者位于不同像素单元10中的聚焦位置14、15、16的亮度都相同,进而 使得像素单元10内部每个聚焦位置的亮度与邻近数据线12的每个聚焦位置的亮度相同, 从而所以可以消除莫尔条纹。但是放置金属伪电极13后,会导致阵列基板的开口率明显降 低。

【发明内容】

[0004] 本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法,相比现有技术 通过设置金属伪电极的方式消除莫尔条纹的方法,能够提高像素开口率,提升显示亮度。
[0005] 第一方面,本发明实施例提供了一种阵列基板,包括:
[0006] 基板;
[0007] 彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线;
[0008] 其中,每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部,相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接;
[0009] 其中,所述阵列基板包括透光区和非透光区,所述扫描线或所述数据线的金属走 线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0010] 第二方面,本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法,包括:
[0011] 首先,在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部;
[0012] 接着,形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部;
[0013] 其中,每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部,相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接;所述阵列基板包括透光区和非透光区,所述扫 描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0014] 第三方面,本发明实施例还提供一种显示面板,包括:
[0015] 本发明第一方面所述的阵列基板;
[0016] 与所述阵列基板相对设置的彩膜基板;
[0017] 以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层。
[0018] 第四方面,本发明实施例还提供一种显示装置,包括:
[0019] 本发明第三方面所述的显示面板;
[0020] 位于所述显示面板的显示侧上方的狭缝光栅或透镜光栅。
[0021] 本发明实施例提供的技术方案,通过将每条扫描线或每条数据线设置为包括多个 透明导电部以及多个金属走线部,相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接,并且所 述阵列基板包括透光区和非透光区,所述扫描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列 基板的非透光区,能够在不影响像素开口率的情况下,消除莫尔条纹现象。
【附图说明】
[0022] 图1为现有技术中一种消除解决莫尔条纹的阵列基板的结构示意图;
[0023] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图;
[0024] 图3为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图;
[0025] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图;
[0026] 图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图;
[0027] 图6为图5中沿AA'的剖面示意图;;
[0028] 图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图;
[0029] 图8为图7中沿BB'的剖面示意图;
[0030] 图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图;
[0031] 图10为图9中沿BB'的剖面示意图;
[0032] 图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图;
[0033] 图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图;
[0034] 图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图;
[0035] 图14为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图;
[0036] 图15为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
[0037] 图16为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0038] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描 述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便 于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0039] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图,如图2所示,所述阵列基板包 括:基板20 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线23和多条数据线24 ;其中,每条扫描线23包括多 个透明导电部231以及多个金属走线部232,相邻的透明导电部231通过所述金属走线部 232电连接。所述阵列基板包括透光区21和非透光区22,所述扫描线23的金属走线部232 位于所述阵列基板的非透光区22。
[0040] 本发明实施例提供的阵列基板,通过将扫描线设置为包括多个透明导电部以及多 个金属走线部,并将所述扫描线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区,由于透光区 中没有遮光的金属材料,因此任意聚焦位置的亮度相同,所以可以避免莫尔条纹的出现,且 无需在透光区设置遮光的金属伪电极,从而可以提高像素的开口率以及显示亮度。在上述 实施例的基础上,所述扫描线23的透明导电部231至少部分位于所述阵列基板的透光区 21,图2示例性的设置扫描线23的透明导电部231部分位于所述阵列基板的透光区21。
[0041] 优选的,如图3所示,也可以设置为所述扫描线23的透明导电部231的全部位于 所述阵列基板的透光区21。这样设置的好处是,可以增加透光区21的面积,从而提升阵列 基板的开口率。
[0042] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图,如图4所示,所述阵列基板 包括:基板30 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线33和多条数据线34 ;其中,每条数据线34括多 个透明导电部341以及多个金属走线部342,相邻的透明导电部341通过所述金属走线部 342电连接。所述阵列基板包括透光区31和非透光区32,所述数据线34的金属走线部342 位于所述阵列基板的非透光区32。
[0043] 在上述实施例的基础上,所述数据线的透明导电部至少部分位于所述阵列基板的 透光区。优选的,也可以设置为所述数据线的透明导电部的全部位于所述阵列基板的透光 区,这样设置可以增加透光区的面积,从而提升阵列基板的开口率。
[0044] 在上述各实施例的基础上,所述扫描线的透明导电部或所述数据线的透明导电部 的材料为氧化铟锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。
[0045] 由于透明导电部的电阻比金属走线部的电阻大很多倍,用透明导电部作为扫描线 和/或数据线的一部分必然导致扫描线或数据线的电阻的增大,所以需要增加每个透明导 电部的宽长比W/L,以减小透明导电部的电阻。以扫描线为例具体参见图2,本发明实施例 采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部,虽然扫描线由透明导电部与金属 走线部组成,采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部形成的扫描线,与现 有技术中扫描线全部使用金属材料制作相比,整条扫描线的阻值与现有技术中相近,并没 有明显增加。需要说明的是,表1中沿扫描线延伸方向为长L,沿数据线延伸方向为宽W。
[0047]表 1
[0048] 在上述各实施例的基础上,所述阵列基板还包括像素电极和公共电极,所述像素 电极和公共电极可以同层绝缘间隔设置,还可以异层绝缘设置。本发明实施例提供的阵列 基板可适用于TN型、IPS型以及FFS型的液晶驱动面板。
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