延迟膜、线偏振片以及取向层，因此，与现有的例如利用贴附而设置在显示面板外部的减反射结构相比，根据本发明实施例的减反射结构具有显著减小的厚度，从而采用该减反射结构的显示器能够实现超薄显示。进一步地，在本发明的实施例中，为了在减薄减反射结构的同时，获得较高的偏光度，光截止层还进一步被提供，该光截止层构造为截止不利于偏光度提高的光，从而在减小厚度的同时，获得较高的偏光度。这样采用该减反射结构的显示器，由于有效地减少了内部构件对外部光的反射，从而显著提高了图像显示的对比度，而且在厚度显著减薄的同时，提高了偏光度。
[0185]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明实施例的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明实施例揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明实施例的保护范围之内。
【主权项】
1.一种减反射结构，包括: 延迟膜； 第一取向层，设置在所述延迟膜的出光侧；以及 线偏振片，设置在所述第一取向层的出光侧， 其中，所述延迟膜和所述线偏振片包括液晶。2.根据权利要求1所述的减反射结构，其中所述线偏振片包括二向色性染料、可聚合液晶和光引发剂，所述延迟膜包括可聚合液晶和光引发剂。3.根据权利要求2所述的减反射结构，其中所述线偏振片包括质量百分比为1%-20%的二向色性染料、质量百分比为75%-95%的可聚合液晶和质量百分比为0.1 的光引发剂。4.根据权利要求1中所述的减反射结构，还包括: 光截止层，设置在所述线偏振片的出光侧且构造为截止特定波长范围的光。5.根据权利要求4所述的减反射结构，其中所述光截止层构造为截止波长范围为650nm至Ij780nm的光。6.根据权利要求5所述的减反射结构，其中所述光截止层构造为截止波长范围为700nm至Ij780nm的光。7.根据权利要求1-3中任一项所述的减反射结构，其中所述第一取向层构造为对所述线偏振片进行取向， 所述减反射结构还包括第二取向层，所述第二取向层设置在所述延迟膜的入光侧且构造为对所述延迟膜进行取向。8.根据权利要求1-3中任一项所述的减反射结构，其中所述第一取向层构造为对所述延迟膜进行取向， 所述减反射结构还包括第二取向层，所述第二取向层设置在所述线偏振片的出光侧且构造为对所述线偏振片进行取向。9.根据权利要求4所述的减反射结构，其中所述第一取向层构造为对所述延迟膜进行取向， 所述减反射结构还包括第二取向层，所述第二取向层设置在所述线偏振片与所述截止层之间且构造为对所述线偏振片进行取向。10.根据权利要求4所述的减反射结构，其中所述光截止层包括交替设置的多个高折射率层和多个低折射率层。11.根据权利要求10所述的减反射结构，其中所述多个高折射率层的每个为氮化硅层，所述多个低折射率层的每个为氧化硅层。12.根据权利要求11所述的减反射结构，其中所述多个高折射率层的每层的厚度相等或不相等，所述多个低折射率层的每层的厚度相等或不相等。13.一种减反射结构，包括: 延迟膜； 线偏振片，设置在所述延迟膜的出光侧； 第一取向层，设置在所述延迟膜的与所述线偏振片相反的一侧；以及 第二取向层，设置在所述线偏振片的与所述延迟膜相反的一侧， 其中，所述延迟膜和所述线偏振片包括液晶。14.根据权利要求13所述的减反射结构，其中所述线偏振片包括二向色性染料、可聚合液晶和光引发剂，所述延迟膜包括可聚合液晶和光引发剂。15.根据权利要求14所述的减反射结构，其中所述线偏振片包括质量百分比为I%-20 %的二向色性染料、质量百分比为75%-95%的可聚合液晶和质量百分比为0.1 %-5 %的光引发剂。16.根据权利要求13-15中任一项所述的减反射结构，还包括: 光截止层，设置在所述第二取向层的与所述线偏振片相反的一侧且构造为截止特定波长范围的光。17.根据权利要求16所述的减反射结构，其中所述光截止层构造为截止波长范围为650nm 到 780nm 的光。18.—种显示器，包括: 显示面板； 减反射结构，如权利要求1-17中任一项所述， 其中，所述减反射结构设置在所述显示面板内或设置在所述显示面板的出光侧。19.根据权利要求18所述的显示器，其中，所述显示面板包括: 阵列基板，包括: 衬底基板； 多个像素单元，形成在所述衬底基板上且所述多个像素单元的每个中形成有有机发光二极管和薄膜晶体管； 对置基板，在所述多个像素单元的出光侧与所述阵列基板对盒， 其中所述减反射结构设置在所述阵列基板与所述对置基板之间。20.根据权利要求18所述的显示器，其中，所述显示面板包括: 阵列基板，包括: 衬底基板； 多个像素单元，形成在所述衬底基板上且所述多个像素单元的每个中形成有有机发光二极管和薄膜晶体管； 对置基板，在所述多个像素单元的出光侧与所述阵列基板对盒， 其中所述减反射结构设置在所述对置基板与所述阵列基板相反的一侧。21.根据权利要求19所述的显示器，其中所述减反射结构与其上形成有所述有机发光二极管和所述薄膜晶体管的所述衬底基板之间还形成有平坦化层。22.—种显示器的制造方法，包括: 提供显示面板，所述显示面板包括彼此对盒的阵列基板以及对置基板，所述阵列基板包括:衬底基板；以及多个像素单元，形成在所述衬底基板上且所述多个像素单元的每个中形成有有机发光二极管和薄膜晶体管，其中所述对置基板设置在所述多个像素单元的出光侧； 制造减反射结构，包括: 在其上形成有所述有机发光二极管和薄膜晶体管的衬底基板或者所述对置基板上形成延迟膜、第一取向层和线偏振片； 其中所述第一取向层位于所述延迟膜与所述线偏振片之间，所述延迟膜和所述线偏振片包括液晶。23.如权利要求22所述的显示器的制造方法，其中形成延迟膜、第一取向层和线偏振片包括: 在其上形成有所述有机发光二极管和薄膜晶体管的衬底基板或所述对置基板上形成所述延迟膜； 在所述延迟膜上形成所述第一取向层；以及 在所述第一取向层上形成所述线偏振片。24.如权利要求23所述的显示器的制造方法，其中所述制造减反射结构还包括:在所述线偏振片上形成光截止层。25.如权利要求23或24所述的显示器的制造方法，其中在其上形成有所述有机发光二极管和薄膜晶体管的衬底基板或所述对置基板上形成延迟膜之前，所述制造方法还包括: 在其上形成有所述有机发光二极管和薄膜晶体管的衬底基板或所述对置基板上形成第二取向层； 对所述第二取向层进行摩擦取向； 其中所述在其上形成有所述有机发光二极管和薄膜晶体管的衬底基板上或所述对置基板上形成延迟膜包括: 在所述第二取向层上涂敷包括可聚合液晶和光引发剂的第二材料层； 对所述第二材料层进行取向固化； 其中在所述延迟膜上形成第一取向层之后，还包括: 对所述第一取向层进行摩擦取向； 其中在所述第一取向层上形成线偏振片，包括: 在所述第一取向层上涂敷包括二向色性染料、可聚合液晶和光引发剂的第一材料层； 对所述第一材料层进行取向固化。26.如权利要求25所述的显示器的制造方法，还包括: 在其上形成有所述有机发光二极管和所述薄膜晶体管的衬底基板上形成平坦化层， 其中所述减反射结构形成在所述平坦化层上。27.如权利要求25所述的显示器的制造方法，还包括:在所述线偏振片上形成保护层，其中所述减反射结构位于所述对置基板的与所述阵列基板相反的一侧。28.如权利要求22所述的显示器的制造方法，其中形成延迟膜、第一取向层和线偏振片包括: 在所述对置基板上形成所述线偏振片； 在所述线偏振片上形成所述第一取向层；以及 在所述第一取向层上形成所述延迟膜。29.如权利要求28所述的显示器的制造方法，其中在所述对置基板上形成所述线偏振片之前，还包括: 在所述对置基板上形成第二取向层； 对所述第二取向层进行摩擦取向； 其中所述在所述对置基板上形成线偏振片包括: 在所述第二取向层上涂敷包括二向色性染料、可聚合液晶和光引发剂的第二材料层； 对所述第二材料层进行取向固化； 其中在所述线偏振片上形成第一取向层之后，还包括: 对所述第一取向层进行摩擦取向； 其中在所述第一取向层上形成延迟膜，包括: 在所述第一取向层上涂敷包括可聚合液晶和光引发剂的第一材料层； 对所述第一材料层进行取向固化； 其中所述减反射结构位于所述阵列基板与所述对置基板之间。30.如权利要求28所述的显示器的制造方法，其中在所述对置基板上形成所述线偏振片之前，所述制造减反射结构还包括:在所述对置基板上形成光截止层。31.如权利要求30所述的显示器的制造方法，其中在所述对置基板上形成光截止层之后且在所述对置基板上形成所述线偏振片之前，还包括: 在所述对置基板上形成第二取向层； 对所述第二取向层进行摩擦取向； 其中所述在所述对置基板上形成线偏振片包括: 在所述第二取向层上涂敷包括二向色性染料、可聚合液晶和光引发剂的第二材料层； 对所述第二材料层进行取向固化； 其中在所述线偏振片上形成第一取向层之后，还包括: 对所述第一取向层进行摩擦取向； 其中在所述第一取向层上形成延迟膜，包括: 在所述第一取向层上涂敷包括可聚合液晶和光引发剂的第一材料层； 对所述第一材料层进行取向固化； 其中所述减反射结构位于所述阵列基板与所述对置基板之间。32.根据权利要求30或24所述的显示器的制造方法，其中所述光截止层通过采用等离子体气相沉积法交替沉积多个高折射率层和多个低折射率层而形成。33.根据权利要求32所述的显示器的制造方法，其中所述高折射率层为氮化硅层，沉积所述氮化硅层的反应气体为SiH4、NH3和N2的混合气体。34.根据权利要求32所述的显示器的制造方法，其中所述低折射率层为氧化硅层，沉积所述氧化硅层的反应气体为SiH4、N02和N2的混合气体。35.一种减反射结构的制造方法，包括: 准备基板； 在所述基板上形成延迟膜、第一取向层和线偏振片， 其中所述第一取向层位于所述延迟膜与所述线偏振片之间，所述延迟膜和所述线偏振片包括液晶。36.如权利要求35所述的减反射结构的制造方法，其中在所述基板上形成延迟膜、第一取向层和线偏振片包括: 在所述基板上形成所述延迟膜； 在所述延迟膜上形成所述第一取向层；以及 在所述第一取向层上形成所述线偏振片。37.如权利要求35所述的减反射结构的制造方法，其中在所述基板上形成延迟膜、第一取向层和线偏振片包括: 在所述基板上形成所述线偏振片； 在所述线偏振片上形成所述第一取向层；以及 在所述第一取向层上形成所述延迟膜。
【专利摘要】一种减反射结构及其制造方法、显示器及其制造方法，该减反射结构顺次包括：延迟膜；第一取向层，设置在所述延迟膜的出光侧；以及线偏振片，设置在所述第一取向层的出光侧；其中，所述延迟膜和所述线偏振片包括液晶。根据本发明实施例的减反射结构具有超薄的厚度且对入射的环境光有很好的防反效果，从而采用该减反射结构的显示器能够实现超薄显示。
【IPC分类】G02F1/13363, H01L21/77, G02B1/111, H01L27/32, G02B5/30
【公开号】CN105510999
【申请号】CN201610061301
【发明人】谭纪风
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2016年1月28日