1.一种结构致密的导磁涂层，其作为层状涂层施涂在基材的表面上，其特征在于，所述导磁涂层由冷喷涂工艺制成，所述导磁涂层的孔隙率为0.05～0.5％。
2.根据权利要求1所述一种结构致密的导磁涂层，其作为层状涂层施涂在基材的表面上，其特征在于，所述导磁涂层由冷喷涂工艺制成，所述导磁涂层的孔隙率为0.05～0.25％。
3.根据权利要求1所述的结构致密的导磁涂层，其特征在于，所述导磁涂层的厚度为0.1～0.6mm。
4.根据权利要求1所述的结构致密的导磁涂层，其特征在于，所述导磁涂层为通过工作气体将导磁金属的粉末冷喷涂在待喷涂结构的表面所形成的涂层。
5.根据权利要求4所述的结构致密的导磁涂层，其特征在于，所述工作气体为空气、氦气、氮气中的一种或几种。
6.根据权利要求4所述的结构致密的导磁涂层，其特征在于，所述导磁金属选自Fe、Ni、Co、Fe-Si、不锈钢中一种或几种的混合。
7.根据权利要求4-6任一项所述的结构致密的导磁涂层，其特征在于，所述导磁金属的粉末粒度为1～50μm。
8.一种锅体，其特征在于，包括锅本体和如权利要求1-7任一项所述的导磁涂层，所述导磁涂层位于锅本体的外表面，且位于锅本体的侧壁的下部和/或底部上。
9.根据权利要求8所述的锅体，其特征在于，所述锅本体的材质为铝合金、不锈钢、高强陶瓷、高强玻璃中的一种或几种。
10.一种烹饪器具，其特征在于，包括电磁感应线圈和如权利要求8或9 所述的锅体，所述电磁感应线圈和所述导磁涂层对应设置。
11.根据权利要求10所述的烹饪器具，其特征在于，所述电磁感应线圈往所述锅体的投影为投影区，所述投影区位于所述导磁涂层内，且所述投影区的区域边缘距离所述导磁涂层的边缘1mm以上。
12.根据权利要求10所述的烹饪器具，其特征在于，所述电磁感应线圈和所述导磁涂层外表面之间的间距小于10mm。