1.一种承载头的隔膜，使用于化学机械式研磨装置用承载头，其特征在于，包括：
底板，其由可挠性弹性材质构成，用于对晶片的板面加压；
侧面，其由可挠性弹性材质构成，在所述底板的边缘向上方折弯形成；
第二膜瓣，其从所述侧面朝向外侧延伸；
第三膜瓣，其从所述侧面的上端朝向上方延伸后朝向外侧延伸。
2.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第二膜瓣以不形成弯曲部的方式从所述侧面延伸。
3.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第二膜瓣从所述侧面的上端延伸形成。
4.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第二膜瓣的厚度薄于所述侧面的厚度。
5.根据权利要求4所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第二膜瓣的剖面以所述侧面的剖面的1/2以下面积形成。
6.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
在所述侧面的内表面与所述第三膜瓣从所述侧面的上端部开始延伸的第三膜瓣内侧面之间形成有间隔。
7.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述侧面的上表面在所述第三膜瓣延伸位置的外侧形成有平坦面。
8.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第三膜瓣的厚度厚于所述第二膜瓣的厚度。
9.根据权利要求1所述的承载头的隔膜，其特征在于，
还包括第一膜瓣，其从所述侧面朝向内侧延伸，
在所述第一膜瓣的下侧，形成有与所述晶片贴紧的所述底板上侧的多个压力腔室中的最外侧压力腔室。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的承载头的隔膜，其特征在于，
包括第四膜瓣，所述第四膜瓣在所述第二膜瓣的下侧从所述侧面向外侧延伸。
11.根据权利要求10所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第四膜瓣以不形成弯曲部的方式从所述侧面延伸。
12.根据权利要求10所述的承载头的隔膜，其特征在于，
所述第四膜瓣的厚度薄于所述侧面的厚度。
13.一种化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，包括：
底座，其在研磨工序中旋转驱动；
卡环，其以包围所述底座的四周的形态形成，与所述底座一同旋转驱动；
权利要求1至9中任意一项所述的隔膜，
所述第二膜瓣和所述第三膜瓣延伸形成至所述卡环。
14.根据权利要求13所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
在形成于第一膜瓣下侧的最外侧压力腔室的上侧，不重复配置所述第二膜瓣与所述第三膜瓣之间形成的加压腔室。
15.根据权利要求13所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
从所述隔膜的底板延伸形成有可挠性材质的多个隔壁并固定于所述底座，通过所述隔壁形成多个对位于所述底板下侧的晶片进行加压的压力腔室。
16.根据权利要求13所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
所述隔膜还包括位于所述第二膜瓣的下侧且从所述侧面延伸至所述卡环的第四膜瓣，
在所述第四膜瓣与所述第二膜瓣之间，形成有对所述侧面加压的第二加压腔室。
17.根据权利要求16所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
所述第二膜瓣以不形成弯曲部的方式从所述侧面延伸。
18.根据权利要求17所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
所述第四膜瓣的厚度薄于所述侧面的厚度。
19.根据权利要求13所述的化学机械式研磨装置的承载头，其特征在于，
在所述隔膜的所述侧面，一同配置有硬度高于所述底板的环形加强材料。