1.一种打磨抛光设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部设有滑动板(2)，所述滑动板(2)顶部设有批量承载机构(3)，所述批量承载机构(3)包括承载模框(10)，所述承载模框(10)上贯穿设有承载孔(11)，所述承载模框(10)顶部设有上承载板(12)以及底部设有下承载板(13)，所述滑动板(2)上贯穿设有丝杆(4)，所述丝杆(4)一端设有正反电机(5)以及另一端外侧套接设有限位板(6)，所述底板(1)顶部设有外罩(7)，所述外罩(7)上设有打磨抛光机构(8)与余灰清理机构(9)，所述余灰清理机构(9)设于打磨抛光机构(8)一侧。
2.根据权利要求1所述的一种打磨抛光设备，其特征在于：所述上承载板(12)底部、下承载板(13)顶部和承载模框(10)上均嵌套设有磁铁(14)，所述上承载板(12)和下承载板(13)均通过磁铁(14)和承载模框(10)可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的一种打磨抛光设备，其特征在于：所述承载模框(10)两侧均设有把手(15)，所述把手(15)与承载模框(10)固定连接，所述承载模框(10)、上承载板(12)底部和下承载板(13)均由泡沫塑料制成。
4.根据权利要求1所述的一种打磨抛光设备，其特征在于：所述打磨抛光机构(8)与余灰清理机构(9)均包括气缸(16)，所述气缸(16)底部固定设有安装块(17)，所述安装块(17)侧面固定设有变频电机(18)。
5.根据权利要求4所述的一种打磨抛光设备，其特征在于：所述打磨抛光机构(8)中变频电机(18)上设有打磨轮(19)，所述余灰清理机构(9)中变频电机(18)上设有安装板(20)，所述安装板(20)底部粘接设有擦拭布(21)。