1.一种溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)配制含有银包覆贱金属粉末、玻璃粉和有机载体的金属浆料，所述银包覆贱金属的壳层为银，内核为贱金属，所述银包覆贱金属包括银包铜、银包镍、银包锌、银包铝中的至少一种；
(2)将步骤(1)的金属浆料涂覆或丝网印刷在靶材表面形成金属浆料薄层；
(3)将含有金属浆料薄层的靶材在真空条件下进行扩散热处理，扩散热处理结束后自然冷却至室温，获得表面金属化的靶材。
2.根据权利要求1所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述银包覆贱金属中银的含量为3-20wt％。
3.根据权利要求2所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述银包覆贱金属中银的含量为10-20wt％。
4.根据权利要求1所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述步骤(2)中，金属浆料薄层的厚度为10-200μm。
5.根据权利要求1所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述步骤(3)中，真空度为5×10-3pa到100pa，热处理温度为200℃-600℃，保温时间为60-300min。
6.根据权利要求5所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述步骤(3)中，热处理温度为420℃-520℃，保温时间为60-90min。
7.根据权利要求1-6所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述玻璃为硅系高铋玻璃粉，玻璃化温度在450-500℃之间，中心粒径为1.5-2.5μm。
8.根据权利要求1-6所述的溅射靶材表面金属化方法，其特征在于，所述银包覆贱金属为银包铜，中心粒径为1-2μm。