1.一种低制耳低硬度电容器外壳,其特征在于,其原料组成成分及质量百分比为:si≤0.1%,fe0.18~0.28%,cu≤0.03%,mn≤0.01%,zn≤0.03%,ti≤0.03%,余量为al。
2.一种低制耳低硬度电容器外壳其制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
将权利要求1所述的原料充分搅拌均匀进行熔炼,熔炼后铸轧,铸轧后的铝卷成品厚度为6.2±0.3mm;将铸轧成品卷粗轧冷轧至0.7mm厚度,进行纵剪切边,切边后进行精轧轧制至成品厚度0.48mm;260℃退火4h,继续高温380℃保温18-26h。
3.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,铸轧速度为800~1000mm/min,铸轧区为50~65mm。
4.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,熔炼温度为730~750℃,倒炉温度为735~750℃。
5.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,铸轧生产前箱温度为693~697℃。
6.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,熔炼时采用精炼剂730℃精炼20min,740℃精炼20min。
7.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,除气箱箱温度控制725℃,氩气压力控制0.2mpa,气流量控制2.0m3/h,转子速度控制550rpm。
8.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,过滤箱温度控制715℃,使用30目+40目过滤板过滤。
9.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,铸嘴开口度控制7.5mm,铸轧线速度控制900mm/min。
10.根据权利要求2所述的一种低制耳低硬度电容器外壳制备方法,其特征在于,纵剪切边成1480mm宽。