技术总结
本实用新型公开了一种增加镀膜均匀性的装置，包括一个连接管体；所述连接管体包括一个大端和一个小端；所述大端的连接管体端部或者内部设有带有多个孔洞的圆盘；所述圆盘的边部与连接管体内管壁连接。本实用新型装置，安装在管式镀膜设备的炉尾部后，由于炉尾与真空泵通过本装置连接，本装置与炉尾接触处，圆盘有众多孔洞，使得每个孔洞都能均匀出气，可使气体平行抽走，避免炉尾产生涡流，从而提升硅片镀膜均匀性。片镀膜均匀性。片镀膜均匀性。
技术研发人员：章明 职森森 刘晓瑞 刘锐 陈伟 吴仕梁 路忠林 张凤鸣
受保护的技术使用者：江苏日托光伏科技股份有限公司
技术研发日：2020.03.24
技术公布日：2021/2/28