技术特征：
1.一种清洁装置，其包括：底板，其具有延伸穿过其中的底板孔；轴环，其附接至所述底板，所述轴环从所述底板延伸并穿过所述底板孔，所述轴环具有轴环孔，所述轴环孔从所述轴环的第一表面延伸穿过所述轴环至所述轴环的第二表面；盖件，其具有延伸穿过其中的盖孔，所述盖件设置于所述轴环上；轴件，其从所述轴环的所述第一表面延伸穿过所述盖孔、所述轴环孔和所述底板孔；可旋转手柄，其附接至从所述盖孔延伸的所述轴件的第一部，所述盖件阻止所述可旋转手柄在所述轴环孔的延伸方向上的运动；盘件，其附接至所述轴件的第二部并与所述底板的第二表面分开；以及至少一个磨料垫，其附接至所述盘件以去除基座的表面上的积聚物。2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：所述轴环孔包括靠近所述盖件并具有第一轴环直径的第一轴环孔部以及远离所述盖件并具有第二轴环直径的第二轴环孔部，所述第一轴环直径大于所述第二轴环直径，以及所述轴件包括：第一轴部，其从所述轴件的第一表面延伸穿过所述盖孔进入所述第一轴环孔部，所述第一轴部具有第一轴直径，以及第二轴部，其从所述第一轴环孔部延伸穿过所述底板孔，所述第二轴部具有大于所述第一轴直径的第二轴直径，所述轴件的所述第二部具有大于所述第二轴直径的第三轴直径。3.根据权利要求2所述的清洁装置，其还包括附接至所述盘件的配重环，所述配重环环绕所述轴件的所述第二部。4.根据权利要求2所述的清洁装置，其中：所述可旋转手柄包括操纵手柄和耦合机构，所述耦合机构具有正方形孔，所述第一轴部穿过所述正方形孔，且所述第一轴部具有正方形横截面，以及以下至少一者：所述第二轴部具有圆形横截面，或所述第一轴部具有在其中第一轴部孔，且保持机构设置于所述第一轴部孔中以保持所述操纵手柄。5.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：所述至少一个磨料垫包括多个单独的磨料垫，其垫直径小于所述盘件的盘直径，所述多个单独的磨料垫设置成在单次转动期间完全覆盖所述盘件的区域，排放端口被设置在所述底板的第一表面上并连接至延伸穿过所述底板的排放孔，所述盘件包括各自延伸穿过其中的均匀间隔的多个盘孔，以及所述盘孔的数量大于所述排放端口的数量。6.根据权利要求5所述的清洁装置，其中：所述单独的磨料垫被设置于所述盘孔之间，并且被布置成使得由所述单独的磨料垫中的一者的外边缘所形成的弧与由所述单独的磨料垫中的另一者的内边缘所形成的弧相切，或
所述单独的磨料垫设置于所述盘孔之间并且被布置成使得第一组所述单独的磨料垫沿第一方向线性设置，而第二组所述单独的磨料垫沿垂直于所述第一方向的第二方向线性设置，所述第一组所述单独的磨料垫是接触的，而所述第二组所述单独的磨料垫是分开的。7.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：所述底板基本上为圆形，并且具有各自从所述圆形的圆周向外延伸的多个延伸部，以及支脚在所述盘件的方向上从所述延伸部延伸，所述支脚被配置成与所述基座的接合构件耦合。8.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：所述底板和所述盘件基本上为圆形，所述底板的直径大于所述盘件的直径，所述底板具有形成在所述底板的所述第二表面中的凹槽，所述凹槽的直径大于所述盘件的直径，裙部被保持在所述凹槽中，并从所述底板延伸超过所述盘件，以及垫片设置于所述裙部的端部上，以密封其上设置有所述清洁装置的基座。9.一种清洁装置，其包括：底板，其具有延伸穿过其中的底板孔；盖件，其附接至所述底板，并具有延伸穿过其中的盖孔；轴衬，其设置于所述盖件与所述底板之间，所述轴衬设置于所述底板孔中并且具有延伸穿过其中的轴衬孔；心轴，其具有延伸穿过所述轴衬孔进入所述盖孔的第一部；曲轴板，其具有附接至所述心轴的第二部并且在平行于所述底板的方向上延伸至远端部的中心部；盘轴环，其附接至所述曲轴板的所述远端部；盘件，其附接至所述盘轴环，所述盘件的直径至少约为所述底板的直径的一半；以及磨料垫，其附接至所述盘件。10.根据权利要求9所述的清洁装置，其中：所述底板和所述盘件基本上为圆形，所述底板的直径大于所述盘件的直径，所述底板具有形成在所述底板的第二表面中的凹槽，所述凹槽的直径大于所述盘件的直径，裙部被保持在所述凹槽中，并且从所述底板延伸超过所述盘件，以及垫片设置在所述裙部的端部上，以密封其上设置有所述清洁装置的基座。11.根据权利要求9所述的清洁装置，其中：所述底板基本上为圆形并且具有从所述圆形的圆周向内延伸的多个延伸部，以及支脚在所述盘件的方向上从所述延伸部延伸，所述支脚被配置成与其上设置有所述清洁装置的基座的接合构件耦合。12.根据权利要求9所述的清洁装置，其中存在以下至少一者：排放孔延伸穿过所述底板，所述盘轴环包括转节，其将所述盘件与其上设置有所述清洁装置的基座保持水平，或
所述清洁装置还包括以下至少一者：手动曲轴，其具有手柄并且附接至所述心轴的第一部，或附接至所述心轴的第一部的马达心轴，以及配置成驱动所述马达心轴的马达。13.一种清洁装置，其包括：底板，其具有延伸穿过其中的底板孔；轴衬，其附接至所述底板并从所述底板延伸并穿过所述底板孔，所述轴衬具有从所述轴衬的第一表面延伸穿过所述轴衬至所述轴衬的第二表面的轴衬孔；心轴，其从所述轴衬的所述第二表面延伸穿过所述底板和所述轴衬孔，所述心轴从所述轴衬的所述第一表面凸出；可旋转手柄，其附接至从所述轴衬延伸的所述心轴的第一部；盘件，其附接至所述心轴的第二部，所述盘件与所述底板的第二表面分开；轴承环，其设置于所述底板与所述盘件之间以便于所述盘件的旋转；以及磨料垫，其附接至所述盘件。14.根据权利要求13所述的清洁装置，其中所述心轴包括：第一轴部，其具有第一轴直径，第二轴部，其从所述轴衬孔延伸穿过所述底板孔并从所述轴衬的所述第一表面延伸，所述第二轴部具有大于所述第一轴直径的第二轴直径；以及第三轴部，其附接至所述盘件，并且具有大于所述第二轴直径的第三轴直径。15.根据权利要求14所述的清洁装置，其中：所述可旋转手柄包括操纵手柄和耦合机构，所述耦合机构具有正方形孔，所述第一轴部穿过所述正方形孔，以及所述第一轴部具有正方形横截面。16.根据权利要求13所述的清洁装置，其中：所述磨料垫具有小于所述盘件的盘直径的垫直径，所述磨料垫被设置成在单次转动期间完全覆盖所述盘件的区域。17.根据权利要求16所述的清洁装置，其中：排放端口被设置于所述底板的第一表面上，所述排放端口连接至延伸穿过所述底板的排放孔，所述盘件包括各自延伸穿过其中的均匀间隔的多个盘孔，以及所述磨料垫设置于所述盘孔之间，并且被布置成使得由所述磨料垫中的一者的外边缘所形成的弧与由所述磨料垫中的另一者的内边缘所形成的弧相切。18.根据权利要求17所述的清洁装置，其中：所述磨料垫被设置于所述盘孔之间，所述磨料垫被布置成使得第一组所述磨料垫沿第一方向线性设置，而第二组所述磨料垫沿垂直于所述第一方向的第二方向线性设置，并且所述第一组所述磨料垫是接触的，而所述第二组所述磨料垫是分开的。19.根据权利要求13所述的清洁装置，其中：所述底板基本上为圆形，并且具有各自从所述圆形的圆周向外延伸的多个延伸部，支脚在所述盘件的方向上从所述延伸部延伸，以及
所述支脚被配置成与其上设置有所述清洁装置的基座的接合构件耦合。20.根据权利要求13所述的清洁装置，其中：所述底板和所述盘件基本上为圆形，所述底板的直径大于所述盘件的直径，所述底板具有形成在所述底板的所述第二表面中的凹槽，所述凹槽的直径大于所述盘件的直径，裙部被保持在所述凹槽中，并从所述底板延伸超过所述盘件，以及垫片设置于所述裙部的端部上，以密封其上设置有所述清洁装置的基座。
技术总结
描述了用于真空基座的清洁装置以及清洁用于半导体设备制造中的基座的方法。所述装置具有底板、附接至底板的轴环、设置在轴环上的盖件、以及从轴环延伸穿过盖件、轴环及底板的轴件。手动可旋转手柄附接至从盖件延伸的轴部。盖件阻止手柄沿向下方向运动。盘件附接至轴件的下部，并因配重环而与底板的底部分开，配重环附接至盘件并环绕轴件的下部，使得轴件与盖件之间存在竖直浮置。至少一个磨料垫附接至盘件，以去除底下基座表面上的积聚物。以去除底下基座表面上的积聚物。以去除底下基座表面上的积聚物。
技术研发人员：罗伯特
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2020.12.11
技术公布日：2022/8/30