一种应用于真空溅射设备的基板承载装置的制作方法

1.本发明涉及显示面板领域，特别涉及一种应用于真空溅射设备的基板承载装置。


背景技术：

2.液晶显示器具有低辐射、低功耗以及体积小等特点，逐渐成为显示器件的主流，广泛应用在手机、笔记本电脑、平板电视等产品上。随着面板尺寸逐渐增加，像素分辨率要求提高，越来越多的生产线应用更大型的真空溅射设备，以应对更大尺寸的成膜需求。同时，由于基板不断薄化的趋势，其在大型真空溅射设备的大气翻转单元的承载平台针阵上的弯曲量越大；另一方面，由于成本考量，设备的节拍时间越来越短，各机构单元的动作越来越快，从而导致基板破损的机率急剧升高。
3.由于目前使用的承载平台针阵均为固定式，其水平度的调整多依赖自制的金属杆和红外线，无法实现快速高精度的测量及调整；另外，由于pin array的pin数量较多，逐个进行调整测量效率较为低下；同时由于人员操作手法的差异，各个机台存在差异，在进行实际调整时，无法统一标准。
4.有鉴于此，实有必要开发一种新型的应用于真空溅射设备的基板承载装置，用以解决上述技术问题。


技术实现要素：

5.本发明的实施例提供一种真空溅射设备的基板承载装置，能够解决现有技术中真空溅射设备的承载平台的水平度无法实现快速高精度的调整的技术问题。
6.为了解决上述技术问题，本发明的实施例公开了如下技术方案：
7.提供了一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：支撑框架；若干支撑支架，间隔地固定安装于所述支撑框架上；压力传感器，设于所述支撑支架上；支撑顶针，设于所述压力传感器上；托盘，设于所述支撑顶针上，用于承载基板。
8.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，还包括固定螺栓，所述支撑支架通过所述固定螺栓旋紧固定于所述支撑框架上。采用固定螺栓旋紧固定于所述支撑框架上，便于拆卸。
9.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述支撑支架为高度可调节的支撑支架。
10.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，还包括调节螺栓，所述支撑支架上设置上下垂直分布的与所述调节螺栓相匹配的若干螺纹固定孔，通过所述调节螺栓旋于不同的所述螺纹固定孔内，实现所述支撑支架高度的调整。
11.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述支撑框架包括多根交叉设置的第一支撑条和第二支撑条，所述支撑支架设于所述第一支撑条和第二支撑条上。
12.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述支撑条为金属条，以保证支撑的刚性。
13.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述支撑支架为绝缘材料。
14.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述第一支撑条沿横向相互平行且间隔排列，所述第二支撑条沿纵向相互平行且间隔排列，可以有效提高对基板振动的抑制效果。
15.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，交叉设置的所述支撑条之间形成多个网口，所述多个网口均匀分布。
16.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，还包括逻辑控制器，与所述压力传感器电性连接，用于监控每个所述支撑顶针的承重量。通过逻辑控制器监控每个支撑顶针的承重量并进行模拟画图，可以快速监控每个支撑顶针承重的实时、精确数据，避免由于基板水平度问题导致的翻转破片，进而实现托盘的水平度高精度的测量及调整，从而提前识别异常并快速调整，极大降低了异常调节时间，提高了产线运营效率；并且根据压力传感器传到逻辑控制器的数值，可以拟定支撑顶针的标准承重量，有统一的作业标准，提高调整测量的效率。
17.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述支撑框架外框为矩形，所述支撑支架以所述支撑框架的中心对称分布。能够保持对基板的均匀支撑。
18.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述托盘上覆盖有绝缘层。通过绝缘层，使得基板与所述托盘之间绝缘，保证基板与所述托盘之间绝缘，从而保证产品的质量。
19.除了上述公开的一个或多个特征之外，或者作为替代，所述托盘采用铝合金材料制成。采用铝合金可以降低所述基板承载装置的重量，保证与现有技术中的钛金属的托盘重量相同，提升了所述基板承载装置的适用范围。
20.上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果：将压力传感器设置于支撑顶针下方，逻辑控制器与压力传感器相接，通过逻辑控制器监控每个支撑顶针的承重量并进行模拟画图，可以快速监控每个支撑顶针承重的实时、精确数据，避免由于基板水平度问题导致的翻转破片，进而实现托盘的水平度高精度的测量及调整，从而提前识别异常并快速调整，极大降低了异常调节时间，提高了产线运营效率；并且根据压力传感器传到逻辑控制器的数值，可以拟定支撑顶针的标准承重量，有统一的作业标准，提高调整测量的效率。
附图说明
21.下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
22.图1为本发明实施例提供的应用于真空溅射设备的基板承载装置的剖视示意图；
23.图2为本发明实施例提供的应用于真空溅射设备的基板承载装置的俯视示意图。
24.附图标记：
25.基板承载装置-10；
26.支撑框架-1；
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支撑支架-2；
27.固定螺栓-3；
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调节螺栓-4；
28.压力传感器-5；
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支撑顶针-6；
29.第一支撑条-11；
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第二支撑条-12；
30.托盘-7。
具体实施方式
31.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
32.本实施例提供了一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，请参阅图1、和图2，基板承载装置10包括：支撑框架1、支撑支架2、固定螺栓3、调节螺栓4、压力传感器5、支撑顶针6、托盘7和逻辑控制器(图未示)。
33.支撑框架1包括多根交叉设置的第一支撑条11和第二支撑条12，第一支撑条11沿横向相互平行且间隔排列，第二支撑条12沿纵向相互平行且间隔排列，可以有效提高对基板振动的抑制效果。
34.交叉设置的支撑条之间形成多个网口，多个网口均匀分布。可以避免因加热温度差异产生的膜质不均匀。同时，根据基板振动情况，在模拟和实际测试的数据达到最低规格值范围内，可以减少网口的密度，即相应调宽第一支撑条11与第二支撑条12的间隔，使网口面积增大，数量减少。
35.第一支撑条11和第二支撑条12具有较小的宽度，可以极大地较少对热的隔绝。第一支撑条11和第二支撑条12为金属条，以保证支撑的刚性。
36.若干支撑支架2固定安装于于第一支撑条11和第二支撑条12上。具体地，支撑框架1外框为矩形，支撑支架2以支撑框架1的中心对称分布，能够保持对基板的均匀支撑。根据基板振动情况，支撑支架2的数量和位置还可以进行相应调整。
37.支撑支架2通过固定螺栓3旋紧固定于支撑框架1上。在其他实施方式中，支撑支架2也可以通过焊接、铆接、螺栓连接等任意方式安装在支撑框架1上，本实施例中采用固定螺栓3旋紧固定于支撑框架1上，便于拆卸。
38.压力传感器5设于支撑支架2上，支撑顶针6设于压力传感器5上，托盘7设于支撑顶针6上，托盘7用于承载基板。逻辑控制器，与压力传感器5电性连接，用于监控每个支撑顶针6的承重量。
39.其中，托盘7上覆盖有绝缘层，本实施例中的托盘为透明的。通过绝缘层，使得基板与托盘7之间绝缘，保证基板与托盘7之间绝缘，从而保证产品的质量。
40.托盘7采用铝合金材料制成。采用铝合金可以降低基板承载装置的重量，保证与现有技术中的钛金属的托盘7重量相同，提升了基板承载装置的适用范围。
41.具体地，支撑支架2为高度可调节的支撑支架2。支撑支架2上设置上下垂直分布的与调节螺栓4相匹配的若干螺纹固定孔，通过调节螺栓4旋于不同的螺纹固定孔内，实现支撑支架2高度的调整。通过调节支撑支架2的高度，使得每一支撑支架2以及其上方的压力传感器5和支撑顶针6的总高度相同，以保证对基板的稳固支撑。
42.基板承载装置在工作时，根据支撑顶针6的标准承重量拟定压力传感器5的标准数值，通过逻辑控制器监控每个支撑顶针6的承重量并进行模拟画图，若出现某个压力传感器5传输来的压力值与标准数值不一致时，快速地通过调节螺栓4使得压力传感器5达到标准数值，保证对基板的稳固支撑。
43.通过逻辑控制器监控每个支撑顶针6的承重量并进行模拟画图，可以快速监控每个支撑顶针6承重的实时、精确数据，避免由于基板水平度问题导致的翻转破片，进而实现托盘7的水平度高精度的测量及调整，从而提前识别异常并快速调整，极大降低了异常调节时间，提高了产线运营效率；并且根据压力传感器5传到逻辑控制器的数值，可以拟定支撑顶针6的标准承重量，有统一的作业标准，提高调整测量的效率。
44.以上对本发明实施例所提供的一种应用于真空溅射设备的基板承载装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。