技术特征：
1.一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，其特征在于，包括：支撑框架；若干支撑支架，间隔地固定安装于所述支撑框架上；压力传感器，设于所述支撑支架上；支撑顶针，设于所述压力传感器上；托盘，设于所述支撑顶针上，用于承载基板。2.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，还包括固定螺栓，所述支撑支架通过所述固定螺栓旋紧固定于所述支撑框架上。3.如权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述支撑支架为高度可调节的支撑支架。4.如权利要求3所述的基板承载装，其特征在于，还包括调节螺栓，所述支撑支架上设置上下垂直分布的与所述调节螺栓相匹配的若干螺纹固定孔，通过所述调节螺栓旋于不同的所述螺纹固定孔内，实现所述支撑支架高度的调整。5.如权利要求1所述的基板承载装，其特征在于，所述支撑框架包括多根交叉设置的第一支撑条和第二支撑条，所述支撑支架设于所述第一支撑条和第二支撑条上。6.如权利要求5所述的基板承载装，其特征在于，所述第一支撑条和第二支撑条为金属条。7.如权利要求5所述的基板承载装，其特征在于，所述第一支撑条沿横向相互平行且间隔排列，所述第二支撑条沿纵向相互平行且间隔排列；交叉设置的所述支撑条之间形成多个网口，所述多个网口均匀分布。8.如权利要求1所述的基板承载装，其特征在于，还包括逻辑控制器，与所述压力传感器电性连接，用于监控每个所述支撑顶针的承重量。9.如权利要求1所述的基板承载装，其特征在于，所述支撑框架外框为矩形，所述支撑支架以所述支撑框架的中心对称分布。10.如权利要求1所述的基板承载装，其特征在于，所述托盘上覆盖有绝缘层，所述托盘采用铝合金材料制成。
技术总结
本发明的实施例公开了一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：支撑框架；若干支撑支架，间隔地固定安装于所述支撑框架上；压力传感器，设于所述支撑支架上；支撑顶针，设于所述压力传感器上；托盘，设于所述支撑顶针上，用于承载基板。根据本发明，将压力传感器设置于支撑顶针下方，逻辑控制器与压力传感器相接，通过逻辑控制器监控每个支撑顶针的承重量并进行模拟画图，可以快速监控每个支撑顶针承重的实时、精确数据，避免由于基板水平度问题导致的翻转破片，进而实现托盘的水平度高精度的测量及调整，从而提前识别异常并快速调整，极大降低了异常调节时间，提高了产线运营效率。率。率。
技术研发人员：王统
受保护的技术使用者：广州华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2021.12.09
技术公布日：2022/3/11