技术特征：
1.一种基板承载固定装置，用以承载及固定至少一基板，其特征在于，包括：一承载盘，包括一承载面用以承载该基板；一第一盖环，位于该承载盘的上方，并包括一第一开口；及一第二盖环，放置在该第一盖环上，其中该第一盖环的周长大于该第二盖环，且该第二盖环大于该第一开口，该第一盖环用以承载该第二盖环，当该承载盘朝该第二盖环位移时，该第二盖环会接触该基板，以将该基板固定在该承载盘的该承载面。2.根据权利要求1所述的基板承载固定装置，其特征在于，包括：一承载构件，设置在该承载盘上，并位于该基板的下方；及至少一升降单元，连接该承载构件，并用以带动该承载构件相对于该承载盘位移，其中该升降单元带动该承载构件离开该承载盘时，该承载构件会带动该基板离开该承载盘的该承载面。3.根据权利要求2所述的基板承载固定装置，其特征在于，其中该承载构件包括一第一承载部及一第二承载部，该第一承载部包括一缺口，而该第二承载部则位于该缺口内，该升降单元连接并带动该第一承载部及该基板相对于该承载盘位移。4.根据权利要求1所述的基板承载固定装置，其特征在于，其中该第一盖环包括至少一第一对位部，而该第二盖环则包括至少一第二对位部，该第二盖环连接该第一盖环时，该第二对位部会对准该第一对位部，以对位该第二盖环及该第一盖环。5.根据权利要求1所述的基板承载固定装置，其特征在于，包括一环形构件连接该承载盘，该环形构件位于该承载盘的该承载面的周围，其中该环形构件及该第一盖环包括至少一对应的对位部，用以对位该环形构件及该第一盖环。6.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：一腔体，包括一容置空间；至少一挡件，位于该腔体的该容置空间内，其中该挡件的一端具有一环形凸缘，并于该环形凸缘的内侧形成一开口；一基板承载固定装置，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板，包括：一承载盘，包括一承载面用以承载该基板；一第一盖环，设置在该挡件的该环形凸缘上，并包括一第一开口；及一第二盖环，放置在该第一盖环上，其中该第一盖环的周长大于该第二盖环，且该第二盖环大于该第一开口，该第一盖环用以承载该第二盖环；及一支撑件，连接并带动该承载盘相对于该挡件位移，其中该支撑件带动该承载盘朝该挡件位移时，该第二盖环会接触该基板，以将该基板固定在该承载盘的该承载面。7.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备，其特征在于，包括：一承载构件，设置在该承载盘上，并位于该基板的下方；及至少一升降单元，连接该承载构件，并用以带动该承载构件相对于该承载盘位移，其中该升降单元带动该承载构件离开该承载盘时，该承载构件会带动该基板离开该承载盘的该承载面。8.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备，其特征在于，其中该承载构件包括一第一承载部及一第二承载部，该腔体则包括一基板进出口，该第一承载部包括一缺口朝向该基板进出口，该第二承载部位于该缺口内，而该升降单元连接并带动该第一承载部及该基板相对
于该承载盘位移。9.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备，其特征在于，其中该第一盖环包括至少一第一对位部，而该第二盖环则包括至少一第二对位部，该第二盖环连接该第一盖环时，该第二对位部会对准该第一对位部，以对位该第二盖环及该第一盖环。10.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备，其特征在于，包括一环形构件连接该承载盘，该环形构件位于该承载盘的该承载面的周围，其中该环形构件及该第一盖环包括至少一对应的对位部，用以对位该环形构件及该第一盖环。
技术总结
本实用新型为一种基板承载固定装置，主要包括一承载盘、一第一盖环及一第二盖环，其中承载盘包括一承载面用以承载一基板。第二盖环连接第一盖环，并放置在第一盖环的内侧，其中第一盖环的周长大于第二盖环，并用以承载第二盖环。当承载盘朝第一盖环及第二盖环位移时，第二盖环会接触承载盘上的基板，以将基板固定在承载盘的承载面上，并可对基板进行薄膜沉积制程。制程。制程。
技术研发人员：林俊成 沈祐德 郭大豪 郑啓鸿
受保护的技术使用者：鑫天虹(厦门)科技有限公司
技术研发日：2021.03.25
技术公布日：2021/11/16