技术特征：
1.一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材，其特征在于，包括金属w膜层和niti合金层，niti合金层的化学式为ni
a
ti
50-a
，49.5≤a≤51.5。2.一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1，将niti合金板材的双面均进行机械抛光，之后用乙醇和丙酮超声清洗抛光后的niti合金板材，然后使用氮气喷枪中氮气吹干，放入超高真空磁控溅射设备基底台上；步骤2，将niti合金靶材和金属w靶材放在磁控溅射仪中的直流靶台上，在溅射仪器的真空度为1.0
×
10-5
～4
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10-5
pa的条件下，再通入氩气，调节真空室真空度为1～7pa，然后开始起辉，进行预溅射；步骤3，待预溅射完成后，将真空室的真空度调制3～4pa，在niti合金板材按照先沉积niti合金膜再沉积w膜的顺序依次交替沉积，最后一层沉积niti合金膜，控制w膜和niti膜的厚度相同，最终在niti合金板材的双面均沉积w/niti纳米多层膜；步骤4，将多个沉积w/niti纳米多层膜的niti合金板叠放在一起，然后通过钢套包裹，并通过焊接对钢套进行密封，随后将密封后钢套在进行热轧，最后去掉钢套，得到纳米尺寸金属w膜/niti复合板材。3.根据权利要求2所述的一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，所述步骤1中，niti合金板材的厚度为0.1-2毫米。4.根据权利要求2所述的一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，所述步骤2中，预溅射时间为20min～60min。5.根据权利要求2所述的一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，沉积niti合金膜时，溅射功率为100-600w，溅射速率为20-60nm/min；沉积w膜时，溅射功率为100-600w，溅射速率10-40nm/min。6.根据权利要求2所述的一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，单层w膜和单层niti合金膜的厚度均为5-150纳米；w/niti纳米多层膜的总厚度为200-5000纳米。7.根据权利要求2所述的一种纳米尺寸金属w膜/niti复合板材的制备方法，其特征在于，所述步骤4中，热轧时，开轧温度为700-900℃，终轧温度为900-1100℃，热轧变形量为30％-40％。
技术总结
本发明公开了一种纳米尺寸金属W膜/NiTi复合板材及其制备方法，包括金属W膜层和NiTi合金层，NiTi合金层的化学式为Ni
技术研发人员：王涛涛 艾桃桃 邹祥宇 唐玲 王永善 廖仲尼 刘艳 侯军才 王博
受保护的技术使用者：陕西理工大学
技术研发日：2022.03.15
技术公布日：2022/5/30