技术特征：
1.一种负泊松比夹层构件与磁屏蔽层一体成形方法，其特征在于：合金一成分(wt％)：44.13～54.68ni，0.05～4.5zr，0.15～1.5cu，0.05～2.47hf，0.045～0.36ta，0.013～3.2pd，0.015～0.43y，0.012～0.26sc，余量为ti；合金二成分(wt％)：32.76～38.53ni，0.17～3.3cu，0.005～0.88ti，0.024～0.36nb，0.15～5.66cr，0.01～1.32al，0.0035～0.01c，0.0015la，余量为fe；软磁合金成分(wt％)：0.88～11.75mo，0.036～4.77cu，0.036～2.74zr，0.015～1.73co，0.36～5.89cr，8.34～20.16fe，0.32～3.67ti，0.001～0.003c，0.0018la，0.0011ce，余量为ni；一体化成形方法如下：(1)通过slm制造内层负泊松比结构，内层负泊松比结构原料采用合金一或二；采用的激光功率范围为150～500w，扫描速度为600～5000mm/s，扫描间距为0.06～0.15mm，切片层厚0.02～0.06mm；采用旋转扫描方式，每层旋转角度45～90
°
，基板预热温度30～200℃；夹层中填充内凹六边形或星形胞元的负泊松比结构，激光功率范围为100～300w，扫描速度为2000～6000mm/s，扫描间距0.08～0.15mm；内凹六边形直壁长0.5～3mm，斜壁长0.3～2.5mm，壁厚0.15～1.2mm，内角-15～-30
°
；内凹星形单壁长0.5～1.5mm，星形内凹角-15～-35
°
，壁厚0.12～1mm，中心杆长0.25～0.7mm，杆直径0.06～0.28mm，杆头与所处星形四角在同一平面；(2)使用激光熔覆在构件表面制备坡莫合金磁屏蔽涂层，坡莫合金磁屏蔽涂层原料采用软磁合金成分，规划二维扫描路径输入机械手进行外层的熔覆搭接成形；激光功率范围为500～2500w，扫描速度为4～15mm/s，送粉速率10～35g/min，制得坡莫合金涂层厚度0.4～3mm；光斑直径1.0～2.0mm，搭接率30～45％，激光束与加工面法线夹角8～15
°
，氩气保护气流量15～30l/min。
技术总结
一种负泊松比夹层构件与磁屏蔽层一体成形方法，属于激光增材制造领域。本发明创新点在于将功能合金如形状记忆合金、低热膨胀合金，负泊松比特殊结构，磁屏蔽涂层结合一体成形。其中通过选区激光熔化技术，搭配材料体系创新，形成负泊松比结构夹层，构件具有形状记忆、低热膨胀、轻量化、抗冲击、能量吸收等特点。通过激光熔覆技术在构件表面制备冶金结合良好、屏蔽性能优异的低频磁屏蔽涂层。屏蔽性能优异的低频磁屏蔽涂层。屏蔽性能优异的低频磁屏蔽涂层。
技术研发人员：杨胶溪 王泽康 杨锋 熊发林 杜志成 刘文夫 王枭健 李梦阳 杨兴建
受保护的技术使用者：钢铁研究总院有限公司
技术研发日：2022.10.24
技术公布日：2023/1/13