技术特征：
1.一种纳米相增强的tinicuhfzr高熵形状记忆合金，其特征在于，所述合金的原料包括按原子百分比计以下化学成分：ti 30%~39%、ni 44%、hf 10%、cu 6%、zr 1%~10%。2.根据权利要求1所述纳米相增强的tinicuhfzr高熵形状记忆合金，其特征在于， 所述合金的组织组成包括b2奥氏体基体、纳米级的ti2ni类增强相，其中纳米级的ti2ni类增强相的尺寸为40-150纳米，数量为5-50个每平方微米。3.一种纳米相增强的tinicuhfzr高熵形状记忆合金的制作方法，其特征在于，所述合金制备方法包括以下步骤：1）配料与熔炼：将原料ti、ni、hf、cu、zr按照原子百分比配好，放入真空电弧熔炼炉中，抽真空后充入氩气防止合金熔炼过程中氧化，在熔融状态下反复熔炼，使合金成分混合均匀，得到铸态tinicuhfzr高熵形状记忆合金；2）固溶处理：将步骤1）得到的铸态tinicuhfzr高熵形状记忆合金，放入电阻炉内，进行固溶处理，并在水中淬火冷却；3）一级时效处理：将步骤2）得到的固溶处理的tinicuhfzr高熵形状记忆合金，放入电阻炉内，进行一级时效处理，随后空冷，得到一级时效处理的纳米相增强的高熵形状记忆合金；4）二级时效处理：将步骤3）得到的经一级时效处理的纳米相增强的高熵形状记忆合金，放入电阻炉内，进行二级时效处理，随后空冷，得到二级时效处理的纳米相增强的高熵形状记忆合金。4.根据权利要求3所述制作方法，其特征在于，所述步骤1）中，真空电弧熔炼炉的真空度小于10-3
pa，充入氩气后熔炼炉内压强为-0.06-0.08mpa，熔炼电流为200-340a；反复再熔炼次数为5次以上，每遍在熔融状态下持续1-2分钟。5.根据权利要求3所述制作方法，其特征在于，所述步骤2）中，固溶处理温度为800-900℃，保温时间30-50分钟。6.根据权利要求3所述制作方法，其特征在于，所述步骤3）中，一级时效处理的温度为300-350℃，保温时间为120-180分钟。7.根据权利要求6所述制作方法，其特征在于，所述步骤3）中，一级时效处理过程中合金随炉升温且升温速率为10-15℃/min。8.根据权利要求2所述制作方法，其特征在于，所述步骤4）中，二级时效处理的温度为400-450℃，保温时间为120-180分钟。9.根据权利要求7所述制作方法，其特征在于，所述步骤4）中，二级时效处理过程中合金随炉升温且升温速率为10-15℃/min。10.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在经过步骤3）所述的一级时效处理后，合金中析出纳米增强相，数量为5-10个每平方微米，尺寸为40-80纳米；在经过步骤4）所述的二级时效处理后，合金中析出的纳米级增强相，数量为40-50个每平方微米，尺寸为80-150纳米。
技术总结
本发明涉及形状记忆合金技术领域，尤其涉及一种纳米相增强的TiNiCuHfZr高熵形状记忆合金及其制备方法。本发明提供的TiNiCuHfZr高熵高强度形状记忆合金按原子百分比计以下化学成分：Ti 30%~39%、Ni 44%、Hf 10%、Cu 6%、Zr 1%~10%。所述合金通过以下方法制备：将按成分配比的Ti、Ni、Hf、Cu、Zr原料置于真空电弧熔炼炉中，反复熔炼得到合金锭，将铸态TiNiCuHfZr高熵记忆合金进行固溶处理与时效处理，即可获得纳米相增强的TiNiCuHfZr高熵形状记忆合金。本发明制备的高熵形状记忆合金与已有技术相比，具有显著提高的屈服强度、输出应力与输出功。另外制备工艺便捷，只需电弧熔炼与低温短时的热处理，无需长时间均匀化热处理与塑性变形加工，易于操作，具有非常好的应用前景。具有非常好的应用前景。具有非常好的应用前景。
技术研发人员：赵光伟 邹海峰 李达 徐虎 黄才华 方东 叶永盛 吴海华
受保护的技术使用者：三峡大学
技术研发日：2022.11.08
技术公布日：2023/3/2