公开在此涉及一种沉积设备,更具体地,涉及一种用于制造显示面板的沉积设备。
背景技术:
1、显示装置(诸如电视、移动电话、平板计算机、导航仪、游戏控制平台等)包括显示面板。显示面板可以包括多个像素。多个像素中的每个可以包括驱动元件(诸如晶体管)和显示元件(诸如有机发光二极管)。显示元件可以通过在基底上沉积电极和发射图案而形成。
2、可以使用其中沉积开口被限定为形成在预定区域中的掩模而使发射图案图案化。最近,为了改善显示面板的产品良率,正在开发使用大面积掩模的沉积工艺技术。
技术实现思路
1、然而,当掩模在沉积设备中没有在期望的位置处对准时,存在发射图案形成位置的精度劣化的限制。
2、本实用新型的目的是为了提供一种能够执行大面积沉积并且具有改善的沉积精度的沉积设备。
3、实用新型构思的实施例提供了一种沉积设备,所述沉积设备包括:掩模,在掩模中限定有多个沉积开口;掩模框架,包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上,并且在掩模框架中限定有开口;平台,设置在掩模框架的后表面上;以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部,设置在平台上,其中,第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸,并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸,并且第一外力施加部至第三外力施加部中的每个包括支撑掩模框架的外表面的支撑件和使支撑件在与掩模框架的外表面垂直的方向上移动的驱动部。
4、在实施例中,第一外力施加部可以包括支撑第一部分的外表面的第一支撑件和使第一支撑件在第二方向上移动的第一驱动部,第二外力施加部可以包括支撑第三部分的外表面的第二支撑件和使第二支撑件在第一方向上移动的第二驱动部,并且第三外力施加部可以包括支撑第四部分的外表面的第三支撑件和使第三支撑件在第一方向上移动的第三驱动部。
5、在实施例中,第一外力施加部可以包括在第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部,第二外力施加部可以包括在第二方向上彼此间隔开的多个第二子外力施加部,并且第三外力施加部可以包括在第二方向上彼此间隔开的多个第三子外力施加部。
6、在实施例中,多个第一子外力施加部中的每个在第二方向上可以是独立地可移动的,多个第二子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的,并且多个第三子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的。
7、在实施例中,多个第二子外力施加部可以在第三部分的与第一部分相邻的一侧和第三部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开,并且多个第三子外力施加部可以在第四部分的与第一部分相邻的一侧和第四部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开。
8、在实施例中,沉积设备还可以包括其中限定有内部空间的腔室,掩模、掩模框架、平台以及第一外力施加部至第三外力施加部设置在内部空间中,并且第一部分可以设置为面对腔室的底表面,并且沉积设备还可以包括沉积构件,沉积构件在内部空间中面对平台的后表面,并且将沉积材料注入到掩模上。
9、在实用新型构思的实施例中,沉积设备包括:腔室,在腔室中限定有内部空间;平台,提供与腔室的底表面垂直的安置表面;掩模框架,设置在安置表面上,在掩模框架中限定有开口,并且包括:第一部分,在与底表面平行的第一方向上延伸并且与安置表面相邻;第二部分,面对第一部分并且在第一方向上延伸;第三部分,在与安置表面平行的第二方向上延伸并且设置在第一部分与第二部分之间;以及第四部分,面对第三部分并且在第二方向上延伸;掩模,在掩模中限定有沉积开口;以及第一外力施加部,包括支撑第一部分的外表面的第一支撑件和使第一支撑件在第二方向上移动的第一驱动部。
10、在实施例中,第一外力施加部可以包括在第一部分上在第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部,并且多个第一子外力施加部中的每个在第二方向上可以是独立地可移动的。
11、在实施例中,沉积设备还可以包括:第二外力施加部,设置在第三部分的外表面上,并且包括第二支撑件和使第二支撑件在第一方向上移动的第二驱动部;以及第三外力施加部,设置在第四部分的外表面上,并且包括第三支撑件和使第三支撑件在第一方向上移动的第三驱动部。
12、在实施例中,第二外力施加部可以包括多个第二子外力施加部,第三外力施加部可以包括多个第三子外力施加部,多个第二子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的,并且多个第三子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的。
13、实用新型构思的实施例提供了一种沉积设备,所述沉积设备包括:掩模,在掩模中限定有多个沉积开口;掩模框架,包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上,并且在掩模框架中限定有开口;平台,设置在掩模框架的后表面上;以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部,设置在平台上,其中,第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸,并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸,第一外力施加部包括支撑第一部分的外表面的第一支撑件和使第一支撑件在第二方向上移动的第一驱动部,第二外力施加部包括支撑第三部分的外表面的第二支撑件和使第二支撑件在第一方向上移动的第二驱动部,并且第三外力施加部包括支撑第四部分的外表面的第三支撑件和使第三支撑件在第一方向上移动的第三驱动部。
14、在实施例中,第一外力施加部可以包括在第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部,第二外力施加部可以包括在第二方向上彼此间隔开的多个第二子外力施加部,并且第三外力施加部可以包括在第二方向上彼此间隔开的多个第三子外力施加部。
15、在实施例中,多个第一子外力施加部中的每个在第二方向上可以是独立地可移动的,多个第二子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的,并且多个第三子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的。
16、在实施例中,多个第二子外力施加部可以在第三部分的与第一部分相邻的一侧和第三部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开,并且多个第三子外力施加部可以在第四部分的与第一部分相邻的一侧和第四部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开。
17、在实施例中,第一驱动部至第三驱动部中的至少一个可以包括电动机或压电元件。
18、在实施例中,沉积设备还可以包括其中限定有内部空间的腔室,掩模、掩模框架、平台以及第一外力施加部至第三外力施加部设置在内部空间中,并且第一部分可以设置为面对腔室的底表面。
19、在实施例中,沉积设备还可以包括沉积构件,沉积构件在内部空间中面对平台的后表面,并且将沉积材料注入到掩模上。
20、在实施例中,掩模和掩模框架中的每个可以包括金属。
21、在实用新型构思的实施例中,沉积设备包括:腔室,在腔室中限定有内部空间;平台,提供与腔室的底表面垂直的安置表面;掩模框架,设置在安置表面上,在掩模框架中限定有开口,并且包括:第一部分,在与底表面平行的第一方向上延伸并且与安置表面相邻;第二部分,面对第一部分并且在第一方向上延伸;第三部分,在与安置表面平行的第二方向上延伸并且设置在第一部分与第二部分之间;以及第四部分,面对第三部分并且在第二方向上延伸;掩模,在掩模中限定有沉积开口,并且掩模在掩模框架上与开口叠置;以及第一外力施加部,包括支撑第一部分的外表面的第一支撑件和使第一支撑件在第二方向上移动的第一驱动部。
22、在实施例中,第一外力施加部可以包括在第一部分上在第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部。
23、在实施例中,多个第一子外力施加部中的每个在第二方向上可以是独立地可移动的。
24、在实施例中,第一驱动部可以包括电动机或压电元件。
25、在实施例中,沉积设备还可以包括:第二外力施加部,设置在第三部分的外表面上,并且包括第二支撑件和使第二支撑件在第一方向上移动的第二驱动部;以及第三外力施加部,设置在第四部分的外表面上,并且包括第三支撑件和使第三支撑件在第一方向上移动的第三驱动部。
26、在实施例中,第二外力施加部可以包括多个第二子外力施加部,并且第三外力施加部可以包括多个第三子外力施加部。
27、在实施例中,多个第二子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的,并且多个第三子外力施加部中的每个在第一方向上可以是独立地可移动的。
28、在实施例中,多个第二子外力施加部和多个第三子外力施加部可以在第一方向上彼此一一对应。
29、在实施例中,多个第二子外力施加部可以在第三部分的与第一部分相邻的一侧和第三部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开,并且多个第三子外力施加部可以在第四部分的与第一部分相邻的一侧和第四部分的与第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开。
30、在实施例中,掩模和掩模框架中的每个可以包括金属。
31、在实施例中,沉积设备还可以包括沉积构件,沉积构件在内部空间中面对平台的后表面,并且将沉积材料注入到掩模上。
32、在实用新型构思的实施例中,沉积方法包括以下步骤:提供平台和设置在平台上的第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部,平台提供安置表面;提供掩模框架和掩模,掩模框架包括在安置表面上的第一部分至第四部分,掩模结合到掩模框架并且在掩模中限定有沉积开口;模拟分别与沉积开口对应的沉积图案中的每个的形成位置;以及使第一外力施加部至第三外力施加部中的至少一个移动以调节施加到掩模框架的力,使得沉积图案中的每个的形成位置设置在设计范围内,其中,第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸,并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸,第一外力施加部包括支撑第一部分的外表面的第一支撑件和使第一支撑件在第二方向上移动的第一驱动部,第二外力施加部包括支撑第三部分的外表面的第二支撑件和使第二支撑件在第一方向上移动的第二驱动部,并且第三外力施加部可以包括支撑第四部分的外表面的第三支撑件和使第三支撑件在第一方向上移动的第三驱动部。
33、根据实施例的沉积设备可以包括设置在平台的一侧处并且能够调节设置在平台上的掩模框架的位置的外力施加部。外力施加部可以包括驱动部,以实时调节掩模框架的位置,使得沉积设备可以具有改善的沉积精度。