沉积设备的制作方法

文档序号:37567835发布日期:2024-04-18 11:35阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种沉积设备,其特征在于,所述沉积设备包括:

2.根据权利要求1所述的沉积设备,其特征在于,所述第一外力施加部包括支撑所述第一部分的外表面的第一支撑件和使所述第一支撑件在所述第二方向上移动的第一驱动部,

3.根据权利要求1或2所述的沉积设备,其特征在于,所述第一外力施加部包括在所述第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部,

4.根据权利要求3所述的沉积设备,其特征在于,所述多个第一子外力施加部中的每个在所述第二方向上是独立地可移动的,

5.根据权利要求3所述的沉积设备,其特征在于,所述多个第二子外力施加部在所述第三部分的与所述第一部分相邻的一侧和所述第三部分的与所述第二部分相邻的相对侧处彼此间隔开,并且

6.根据权利要求1或2所述的沉积设备,其特征在于,所述沉积设备还包括其中限定有内部空间的腔室,所述掩模、所述掩模框架、所述平台以及所述第一外力施加部至所述第三外力施加部设置在所述内部空间中,所述第一部分设置为面对所述腔室的底表面,并且

7.一种沉积设备,其特征在于,所述沉积设备包括:

8.根据权利要求7所述的沉积设备,其特征在于,所述第一外力施加部包括在所述第一部分上在所述第一方向上彼此间隔开的多个第一子外力施加部,并且

9.根据权利要求7所述的沉积设备,其特征在于,所述沉积设备还包括:

10.根据权利要求9所述的沉积设备,其特征在于,所述第二外力施加部包括多个第二子外力施加部,并且所述第三外力施加部包括多个第三子外力施加部,并且


技术总结
提供了一种沉积设备,其包括:掩模,在掩模中限定有多个沉积开口;掩模框架,包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上,并且在掩模框架中限定有开口;平台,设置在掩模框架的后表面上;以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部,设置在平台上,其中,第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸,并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸,并且第一外力施加部至第三外力施加部中的每个包括支撑掩模框架的外表面的支撑件和使支撑件在与掩模框架的外表面垂直的方向上移动的驱动部。根据公开的沉积设备包括能够调节掩模框架的位置的外力施加部,使得沉积设备具有改善的沉积精度。

技术研发人员:高晙赫,姜敏求,金义圭,金宗范,柳锡河,李尙玟,郑京勳
受保护的技术使用者:三星显示有限公司
技术研发日:20230830
技术公布日:2024/4/17
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