信息记录介质用玻璃基板的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
【背景技术】
[0002]在计算机等信息记录装置中搭载有信息记录介质。一般而言，为了制造信息记录介质而采用玻璃基板。在玻璃基板上形成有磁性薄膜层。通过磁头对磁性薄膜层进行磁化，由此，能够在磁性薄膜层上记录信息。近年来，信息记录介质的记录密度有提高的趋势。例如，还开发了在一个2.5英寸的信息记录介质中具有500GB记录容量的介质，并寻求具有更高表面品质的信息记录介质用玻璃基板。
[0003]制造信息记录用玻璃基板时，为了研磨玻璃基板的表面，使用了双面研磨装置。玻璃基板由例如日本特开2008-006526号公报(专利文献I)公开的托架(亦称研磨托架)进行保持。玻璃基板在由托架进行保持的状态下，玻璃基板的表面被双面研磨装置的研磨垫研磨。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2008-006526号公报
【发明内容】
[0007]发明所要解决的课题
[0008]本发明的目的在于提供一种具有更高表面品质的信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]基于本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法包括:第I设置步骤，将研磨用的托架和玻璃基板配置在双面研磨机的平台上；第I滑动步骤，在使所述托架的外周与太阳齿轮和内啮合齿轮这两者的齿面啮合的状态下，使用所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮使所述托架旋转，使所述玻璃基板相对于研磨垫的研磨面滑动接触，对所述玻璃基板的表面进行研磨；第2设置步骤，将所述托架和其它托架中的一个托架以及其它玻璃基板配置在所述双面研磨机的所述平台上；第2滑动步骤，在使所述一个托架的外周与所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮这两者的齿面啮合的状态下，使用所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮使所述一个托架旋转，使所述其它玻璃基板相对于所述研磨垫的所述研磨面滑动接触，对所述其它玻璃基板的表面进行研磨；以及高度变更步骤，该高度变更步骤在所述第I滑动步骤之后且在所述第2滑动步骤之前执行，在该高度变更步骤中，在将相对于所述太阳齿轮的轴向平行的方向的位置称作高度的情况下，若将所述太阳齿轮的齿面中的在所述第I滑动步骤中所述托架已啮合的部分作为第I位置，将所述太阳齿轮的齿面中的在所述第2滑动步骤中所述一个托架将啮合的部分作为第2位置，将所述内啮合齿轮的齿面中的在所述第I滑动步骤中所述托架已啮合的部分作为第3位置，将所述内啮合齿轮的齿面中的在所述第2滑动步骤中所述一个托架将啮合的部分作为第4位置，则至少具有下述两点中的任意一点:使所述太阳齿轮的齿面内的第2位置的高度方向的位置与所述第I位置不同；以及使所述内啮合齿轮的齿面内的所述第4位置的高度方向的位置与所述第3位置不同。
[0011]优选的是在所述高度变更步骤中，在所述太阳齿轮与支承所述太阳齿轮的部件之间，以及所述内啮合齿轮与支承所述内啮合齿轮的部件之间分别设置间隔部件。
[0012]优选的是在所述高度变更步骤中，所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮在所述轴向上上下翻转。
[0013]优选的是还包括测定步骤，该测定步骤在所述第I滑动步骤之后且在所述高度变更步骤之前执行，在该测定步骤中，测定在所述太阳齿轮的齿面和/或所述内啮合齿轮的齿面上形成的凹槽的深度，其中在所述第I滑动步骤中，在所述托架的外周与所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮这两者的齿面啮合的状态下，由于所述托架旋转而形成所述凹槽，反复执行所述第I设置步骤和所述第I滑动步骤，直至所述测定步骤中所测定的所述凹槽的深度相对于所述托架的外径以百分比计为0.14以上为止。
[0014]优选的是在刚刚执行了所述高度变更步骤之后的所述第2设置步骤和所述第2滑动步骤中，使用处于未使用状态的所述其它托架来作为所述一个托架。
[0015]发明的效果
[0016]根据本发明，能够得到具有更高表面品质的信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
【附图说明】
[0017]图1是示出使用实施方式I中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造出的信息记录介质用玻璃基板的立体图。
[0018]图2是示出具有使用实施方式I中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造出的信息记录介质用玻璃基板的磁盘(信息记录介质)的立体图。
[0019]图3是示出实施方式I中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的流程图。
[0020]图4是示出实施方式I中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所包括的第2抛光步骤S18的详情的流程图。
[0021]图5是示出实施方式I中的在第2抛光步骤S18中使用的双面研磨装置的侧视图。
[0022]图6是沿图5中的V1-VI线的向视剖面图。
[0023]图7是放大示出图6中的VI线包围的区域的图。
[0024]图8是沿图7中的VID - VID线的向视剖面图。
[0025]图9是示出实施方式I中的在第2抛光步骤S18中使用的双面研磨装置进行研磨加工时的情形的剖视图。
[0026]图10是示出使托架的啮合齿与图9所示的双面研磨装置中使用的内啮合齿轮的齿面啮合的状态的立体图。
[0027]图11是示意性示出从图10中的箭头XI方向观察内啮合齿轮的齿面时的情形的图(将齿面沿周向展开后的图)。
[0028]图12是示出图10所示的内啮合齿轮的使用后状态的立体图。
[0029]图13是示意性示出从图12中的箭头VID方向观察内啮合齿轮的齿面时的情形的图(将齿面沿周向展开后的图)。
[0030]图14是示意性示出使用图13所示的内啮合齿轮后的状态的图。
[0031]图15是示意性示出使用图14所示的内啮合齿轮后的状态的图(将齿面沿周向展开后的图)。
[0032]图16是示意性示出使用图15所示的内啮合齿轮后的状态的图(将齿面沿周向展开后的图)。
[0033]图17是示出执行实施方式I中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所包括的高度变更步骤后的状态的剖视图。
[0034]图18是示出在实施方式I的第2抛光步骤S18中使用的双面研磨装置进行研磨加工时的其它情形的剖视图。
[0035]图19是示出执行实施方式2中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所包括的高度变更步骤后的状态的剖视图。
[0036]图20是示出实施方式3中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所包括的第2抛光步骤S18A的详情的流程图。
[0037]图21是示出实验例的实验条件的图。
[0038]图22是示出实验例的实验结果的图。
【具体实施方式】
[0039]以下，参照【附图说明】基于本发明的各实施方式。在各实施方式的说明中，在提及个数和量等的情况下，除了有特殊记载的情况以外，本发明的范围不一定限于该个数和量等。在实施方式的说明中，有时对相同的部件和对应部件标注相同的参考标号，并不进行重复的说明。
[0040][实施方式I]
[0041]参照图1和图2，对使用基于本实施方式的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造出的玻璃基板IG以及具有玻璃基板IG的磁盘I (信息记录介质)进行说明。
[0042](玻璃基板1G)
[0043]如图1所示，磁盘I (参照图2)中使用的玻璃基板IG(信息记录介质用玻璃基板)具有在中心形成有孔11的圆盘形状。玻璃基板IG包括表主表面14、背主表面15、内周端面13以及外周端面12。在内周端面13的表主表面14侧的部分设有具有锥形的倒角面13a，在内周端面13的背主表面15侧的部分设有具有锥形的倒角面13b (参照图2)。
[0044]玻璃基板IG具有例如0.8英寸、1.0英寸、1.8英寸、2.5英寸或3.5英寸的大小。玻璃基板IG的厚度为例如0.30mm?2.2mm。本实施方式中的玻璃基板IG具有大约65mm的外径、大约20_的内径以及大约0.8mm的厚度。玻璃基板IG的厚度是通过对在玻璃基板IG上的呈点对称的任意多个点上测定的值进行平均而算出的值。
[0045](磁盘I)
[0046]如图2所示，磁盘I具有玻璃基板IG以及在表主表面14上成膜的磁性薄膜层16 (磁性记录层)。本实施方式中的磁性薄膜层16仅仅形成在表主表面14上，但还可以形成在背主表面15上。磁性薄膜层16是通过在玻璃基板IG的表主表面14上旋涂使磁性微粒分散的热固性树脂而形成的(旋涂法)。磁性薄膜层16也可以使用溅射法或无电解镀法等来形成。
[0047]关于在玻璃基板IG的表主表面14上形成的磁性薄膜层16的膜厚，在旋涂法的情况下为大约0.3 μ m?大约1.2 μ m，在派射法的情况下为大约0.04 μ m?大约0.08 μ m，在无电解镀法的情况下为大约0.05 μπι?大约0.1 μπι。作为在磁性薄膜层16的成膜中使用的磁性材料，以结晶各向异性高的Co为基本，基于调整剩余磁通密度的目的，可以使用加入了 Ni或Cr的Co类合金。作为适合于热辅助记录的磁性材料，可以使用FePt类的材料。
[0048]为了优化相对于磁头的光滑性，可以在磁性薄膜层16的表面涂敷较薄的润滑剂。作为润滑剂，例如可列举用氟利昂类等溶剂稀释全氟聚醚(PFPE)而得到的润滑剂。可以根据需要设置基底层或保护层。
[0049]根据磁性膜的种类选择基底层。作为基底层的材料，例如可列举从Cr、Mo、Ta、T1、W、V、B、Al以及Ni等非磁性金属中选择的至少一种以上的材料。基底层可以具有单层结构，也可以具有层叠了相同或不同种类的层后的多层结构。作为多层结构，列举例如Cr/Cr、Cr/CrMo, Cr/CrV, NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV 等。
[0050]作为防止磁性薄膜层16的磨损、腐